美國阻撓ASML賣EUV光刻機(jī)給無錫SK海力士
[導(dǎo)讀]繼美國反對英特爾在中國四川成都擴(kuò)建工廠后，韓國存儲器芯片大廠SKHynix恐怕也將成為美中科技戰(zhàn)的新受害者。11月18日，路透社報道，SK海力士希望引入ASML（阿斯麥）最先進(jìn)的EUV設(shè)備，升級其無錫芯片廠的設(shè)備產(chǎn)品，控制成本并加速生產(chǎn)效率。但是，美國對此持反對意見。美國此前不斷...
11月18日，路透社報道，SK海力士希望引入ASML（阿斯麥）最先進(jìn)的EUV設(shè)備，升級其無錫芯片廠的設(shè)備產(chǎn)品，控制成本并加速生產(chǎn)效率。
但是，美國對此持反對意見。
美國此前不斷阻止中國采購EUV設(shè)備，如今的執(zhí)行主體雖然是韓國企業(yè)，但由于會將先進(jìn)技術(shù)引入中國大陸，美國將扼殺這種風(fēng)險。
三位知情人士透露，SK Hynix的生產(chǎn)計劃要求該公司引入荷蘭ASML生產(chǎn)的一些最新極紫外光刻(EUV)芯片制造設(shè)備來升級位于中國無錫工廠量產(chǎn)能力。不過，目前該計劃已經(jīng)遭到美國反對，理由是向中國運(yùn)送此類先進(jìn)工具可能被用來加強(qiáng)中國的軍事力量。
眾所周知，SK Hynix是全球最大的DRAM存儲芯片供應(yīng)商之一。從智能手機(jī)到數(shù)據(jù)中心，幾乎所有領(lǐng)域的電子設(shè)備都可以看到DRAM存儲芯片。顯然，美國寧愿芯片危機(jī)晚些化解，也不希望看到芯片制造商加大在中國的投資。
一名白宮高級官員拒絕就美國官員是否會允許SK Hynix將EUV工具帶到中國的問題發(fā)表具體評論。但這位官員表示，***政府仍專注于阻止中國利用美國及其盟國的技術(shù)來發(fā)展最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造，以幫助中國實現(xiàn)軍事現(xiàn)代化。
EUV進(jìn)口問題之所以深受各方關(guān)注，是因為SK Hynix無錫廠對于全球電子行業(yè)至關(guān)重要。數(shù)據(jù)顯示，該工廠DRAM產(chǎn)能占SK海力士全部產(chǎn)能的50%，占全球總量的15%，任何重大變化都可能對全球儲存芯片市場產(chǎn)生影響。
熟悉SK Hynix在中國運(yùn)營情況的人士表達(dá)了引入設(shè)備計劃擱置的擔(dān)憂：“未來2 ~ 3年內(nèi)，新型芯片在SK海力士的生產(chǎn)中所占的份額將會增加，因此需要EUV機(jī)器來控制成本和加快生產(chǎn)?！?/span>
若此現(xiàn)況未來幾年內(nèi)無法解決，這家韓國存儲器芯片大廠將可能在與三星電子和美光的競爭時將處于劣勢。目前三星和美光也正在采用EUV設(shè)備，但所在的廠房目前并未面臨出口限制。
ASML發(fā)言人表示，過度或大范圍使用這些設(shè)備出口控制措施，可能會影響產(chǎn)業(yè)支應(yīng)半導(dǎo)體需求所需的產(chǎn)能，加劇全球芯片供給問題。
VLSIresearch 執(zhí)行長 Dan Hutcheson 表示，這些中國設(shè)廠的海外企業(yè)確實陷入美中科技戰(zhàn)。他補(bǔ)充說，無論誰想把先進(jìn)的EUV設(shè)備引入中國，都可能遭遇阻礙，因為美國認(rèn)為，這些先進(jìn)設(shè)備只要進(jìn)入中國領(lǐng)土就能為中國所用。
據(jù)兩位知情人士稱，艾司摩爾EUV光刻機(jī)的問題在SK海力士內(nèi)部引起了足夠的關(guān)注，首席執(zhí)行官Lee Seok-hee在7月訪問華盛頓特區(qū)時向美國官員提出了這個問題。對此，SK海力士不予置評，并補(bǔ)充說，它根據(jù)各種市場環(huán)境靈活運(yùn)作，正在盡最大努力應(yīng)對市場和客戶的需求。
產(chǎn)能！EUV、DUV恐中國晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)最大障礙
在美國前總統(tǒng)特朗普執(zhí)政期間成功地游說荷蘭政府阻止了將ASML的技術(shù)出售給中芯國際。
ASML的一位發(fā)言人說，該公司遵守所有的出口管制法律，并將其視為政府確保國家安全的 "有效工具"。但該公司表示，過度使用這些控制措施 "可能會影響到保持領(lǐng)先于日益增長的半導(dǎo)體需求所需的生產(chǎn)能力"。
該發(fā)言人在一份聲明中說："廣泛使用出口管制可能會加劇微芯片供應(yīng)鏈問題，由于對其他行業(yè)的溢出效應(yīng)，這些問題已經(jīng)成為世界各國政府和政策制定者的主要關(guān)切，如汽車業(yè)。"
分析人士認(rèn)為，美國官員不會認(rèn)為SK 海力士將EUV光刻機(jī)引入中國大陸的做法與中國企業(yè)此前的做法有任何不同。
(圖源：ASML）
VLSI research首席執(zhí)行官丹·哈奇森說：“這些規(guī)定可能適用于任何在中國的芯片制造業(yè)務(wù)，無論是外國還是國內(nèi)控制的。任何在中國推進(jìn)EUV設(shè)備的公司都給了中國提供了芯片生產(chǎn)能力。一旦EUV落地中國大陸，你不知道它之后會去哪里。中國人總是善于抓住機(jī)會，來做任何他們想做的事情?！?/span>
ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波在最近的采訪中表示，對中國出口集成電路光刻機(jī)持開放態(tài)度，在法律框架下全力支持。同時明確表明，目前ASML除了EUV光刻機(jī)無法對中國客戶供貨外，其他產(chǎn)品都可以正常供貨。
傳：上海微“28nm光刻機(jī)”未通過02專項驗收！在2002年之前，全球光刻機(jī)只有美國、荷蘭和日本擁有入場券，并對中國實施技術(shù)封鎖。近年來，全球光刻機(jī)市場依舊被ASML、Nikon（尼康）和Canon（佳能）三家瓜分，占據(jù)了全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)99%的市場。2002年，光刻機(jī)被列入“國家863重大科技攻關(guān)計劃”，上海微電子裝備有限公司由此成立。
近日有傳聞稱：“上海微電子的28nm光刻（傳聞型號為SSA800/10W）機(jī)沒有通過02專項的國家驗收，無法在2021年底完成，28nm光刻機(jī)卡住了‘02專項’?！贝讼⒃跇I(yè)內(nèi)不斷發(fā)酵引發(fā)熱議，并未得到官方回應(yīng)。
在“02專項光刻機(jī)項目二期”中，設(shè)定的時間為：2021年驗收193nmArF浸沒式DUV光刻機(jī)，對標(biāo)產(chǎn)品為ASML 2018年推出的DUV光刻機(jī)：TWINSCAN NXT:2000i。
（DUV光刻機(jī)·圖源:ASML官網(wǎng))
然而，掌握光刻機(jī)技術(shù)并非易事。ASML先進(jìn)的EUV光刻機(jī)擁有超過10萬個零件，涉及到上游5000多家供應(yīng)商。這些零部件極為復(fù)雜，對誤差和穩(wěn)定性的要求極高，并且這些零件幾乎均屬于定制，90%零件采用的是世界上最先進(jìn)技術(shù)，85%的零部件是和供應(yīng)鏈共同研發(fā)。且更難的是調(diào)試、維護(hù)，設(shè)備中的一些接口需要工程師用高精度機(jī)械進(jìn)行打磨，尺寸調(diào)整次數(shù)更可能高達(dá)百萬次以上。
據(jù)了解，2015年交付第一臺EUV光刻機(jī)以來，截止至2020年底ASML一共交付了100臺，2021年前三季度交付31臺EUV光刻機(jī)，也就意味著到目前一共交付了131臺EUV光刻機(jī)。ASML預(yù)計，2022財年將交付55部EUV光刻機(jī)組。
（EUV光刻機(jī)·圖源:ASML官網(wǎng))
盡管EUV光刻機(jī)相當(dāng)之貴，接近1.2億美元一臺，但半導(dǎo)體廠商還是愿意去投入。因為7nm以及以上的工藝的確需要EUV光刻機(jī)，同樣的7nm工藝若使用EUV光刻技術(shù)之后晶體管密度和性能都變得更好。根據(jù)臺積電給出的數(shù)據(jù)，相較于初代7nm工藝，7nm EUV（N7 ）可以提供1.2倍的密度提升，同等功耗水平下提供10%的性能增幅，或者同性能節(jié)省15%的功耗。
目前，三星和臺積電都已經(jīng)使用7nm EUV工藝開始生產(chǎn)芯片。AMD發(fā)布的AMD Zen 3架構(gòu)第四代銳龍?zhí)幚砥鞑捎昧伺_積電7nm EUV工藝；英特爾7nm工藝研發(fā)進(jìn)展順利，采用了重新設(shè)計的簡化流程，并借助EUV光刻技術(shù)，計劃在今年度實現(xiàn)7nm客戶端CPU產(chǎn)品“Meteor Lake”的tape in。
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