基辛格宣布全新IDM 2.0戰(zhàn)略:產(chǎn)能將提升30%

隨著先進(jìn)制程芯片上量(包括邏輯芯片和存儲(chǔ)器)，芯片制造端的高技術(shù)含量規(guī)模也在不斷擴(kuò)大，其中，最具代表性的就是EUV光刻機(jī)，市場(chǎng)對(duì)其需求在未來(lái)幾年將大幅增加。

今年3月份Intel新任CEO基辛格宣布了全新的IDM 2.0戰(zhàn)略，此后Intel開(kāi)始了大規(guī)模的工廠擴(kuò)建計(jì)劃，在美國(guó)、歐洲、亞洲等地區(qū)都會(huì)建晶圓制造及封測(cè)工廠，未來(lái)五年內(nèi)產(chǎn)能提升30%，而且新工藝頻發(fā)。

今年9月份，Intel已經(jīng)在亞利桑那州動(dòng)工建設(shè)新的晶圓廠，投資高達(dá)200億美元，兩座工廠分別會(huì)命名為Fab 52、Fab 62，并首次透露這些工廠將會(huì)在2024年量產(chǎn)20A工藝——這與之前預(yù)期的不同，原本以為會(huì)量產(chǎn)的是Intel 4這樣的下兩代工藝。

在歐洲，Intel之前宣布了未來(lái)十年內(nèi)有望投資1000億美元的龐大計(jì)劃，目前除了擴(kuò)建愛(ài)爾蘭的晶圓廠之外，還有望在德國(guó)建設(shè)新的晶圓廠，在意大利建設(shè)新的封測(cè)廠，只不過(guò)現(xiàn)在還沒(méi)有正式公布，要到明年初才能決定。

前不久Intel還宣布在馬來(lái)西亞投資71億美元擴(kuò)建封測(cè)廠，這里是Intel的芯片封測(cè)基地。

業(yè)界估計(jì)，Intel此番大舉擴(kuò)張，預(yù)計(jì)在5年內(nèi)，也就是2026年的時(shí)候產(chǎn)能將增長(zhǎng)30%以上，有望追趕臺(tái)積電。

除了產(chǎn)能提升之外，Intel的芯片工藝也會(huì)突飛猛進(jìn)，從今年底的12代酷睿使用的Intel 7工藝開(kāi)始，到2025年的四年里升級(jí)五代工藝——分別是Intel 7、Intel 4、Intel 3及Intel 20A、Intel 18A，其中前面三代工藝還是基于FinFET晶體管的，從Intel 4開(kāi)始全面擁抱EUV光刻工藝。

至于后面的兩代工藝，20A首次進(jìn)入埃米級(jí)時(shí)代，放棄FinFET晶體管，擁有兩項(xiàng)革命性技術(shù)，RibbonFET就是類似三星的GAA環(huán)繞柵極晶體管，PoerVia則首創(chuàng)取消晶圓前側(cè)的供電走線，改用后置供電，也可以優(yōu)化信號(hào)傳輸。

20A工藝在2024年量產(chǎn)，2025年則會(huì)量產(chǎn)改進(jìn)型的18A工藝，這次會(huì)首發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，NA數(shù)值孔徑會(huì)從現(xiàn)在的0.33提升到0.55以上。