已拿“入場券”！中國全自主7nm芯片，3年內(nèi)可望成熟！

時間：2022-10-16 20:54:28

關(guān)鍵字：半導(dǎo)體芯片集成電路

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[導(dǎo)讀]制裁中興、制裁華為，深深讓國人感受到了中國在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的薄弱。美國對中國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的精準(zhǔn)打擊，更是讓國人認(rèn)識到了中國在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域的薄弱。而對于芯片制造來說，最為關(guān)鍵的設(shè)備當(dāng)屬光刻機(jī)。

制裁中興、制裁華為，深深讓國人感受到了中國在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的薄弱。美國對中國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的精準(zhǔn)打擊，更是讓國人認(rèn)識到了中國在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域的薄弱。

而對于芯片制造來說，最為關(guān)鍵的設(shè)備當(dāng)屬光刻機(jī)。

光刻機(jī)按照用途可以分為IC 前道光刻機(jī)、封裝光刻機(jī)、面板光刻機(jī)以及 LED/MEMS/功率器件光刻機(jī)。而我們經(jīng)常所說的芯片制造所使用的則是IC前道光刻機(jī)。

資料顯示，光刻工藝是芯片制造過程中占用時間比最大的步驟，約占芯片制造總時長的40%-50%。同時，光刻機(jī)也是目前晶圓制造產(chǎn)線中成本最高的半導(dǎo)體設(shè)備，約占晶圓生產(chǎn)線設(shè)備總成本的27%。目前最先進(jìn)的 EUV 設(shè)備在2018 年單臺平均售價高達(dá) 1.04 億歐元。

28nm光刻機(jī)，中國已拿到“入場券”！可制造7nm芯片！

(先看視頻)

近日，央視財(cái)經(jīng)專題節(jié)目《而立浦東》，報(bào)道了上海微電子的最新進(jìn)展。一臺上海微自研的光刻機(jī)將發(fā)貨。

關(guān)于這臺光刻機(jī)的具體信息不多。結(jié)合上海微最新官宣信息，這臺光刻機(jī)基本確定是28nm工藝的。

什么是光刻機(jī)？它是制造集成電路，也就是芯片制造最關(guān)鍵的設(shè)備之一。每顆芯片誕生之始，都要經(jīng)過光刻機(jī)的鍛造。光刻機(jī)利用光刻工藝，將母版上復(fù)雜的電路設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)化為硅片上的電路。

可以說，如果沒有“中國光刻機(jī)”，那么制造“中國芯”也就無從談起。

中國早在18年前，02專項(xiàng)中就制定了光刻機(jī)突破的時間節(jié)點(diǎn)，2020年實(shí)現(xiàn)28nm光刻機(jī)的自主研發(fā)。

在02專項(xiàng)光刻機(jī)項(xiàng)目中，設(shè)定的時間為2020年驗(yàn)收193nmArF浸沒式DUV光刻機(jī)，對標(biāo)產(chǎn)品為ASML現(xiàn)階段最強(qiáng)DUV光刻機(jī): TWINSCAN NXT:2000i。

以NXT:2000i為例，各子系統(tǒng)拆分如下：上海微電子負(fù)責(zé)光刻機(jī)設(shè)計(jì)和總體集成，北京科益虹源提供光源系統(tǒng)，北京國望光學(xué)提供物鏡系統(tǒng)，國科精密提供曝光光學(xué)系統(tǒng)，華卓精科提供雙工作臺，浙江啟爾機(jī)電提供浸沒系統(tǒng)。

這臺28nm光刻機(jī)，是集全中國最牛公司的智慧結(jié)晶，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈成熟的真正家底。

193納米ArF浸沒式DUV光刻機(jī)，其制程工藝為28納米。

更重要的是這臺國產(chǎn)193納米ArF浸沒式DUV光刻機(jī)在經(jīng)過多重曝光下，最高可實(shí)現(xiàn)7nm芯片量產(chǎn)，雖然還無法媲美目前最頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，但這套國產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備誕生，絕對可以完成絕大部分芯片生產(chǎn)。