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[導讀]6月29日-7月1日,東方晶源攜全新產(chǎn)品矩陣亮相SEMICON CHINA 2023大會,向業(yè)界全面展現(xiàn)了公司在電子束檢測量測、芯片制造EDA工具等領域的新產(chǎn)品、新成果、新突破,彰顯出細分領域領導者的技術實力以及高質(zhì)量發(fā)展的創(chuàng)新活力。

6月29日-7月1日,全球半導體行業(yè)盛會SEMICON CHINA 2023在上海新國際博覽中心盛大召開,9萬平方米展覽面積、4200多個展位、數(shù)十萬名專業(yè)觀眾創(chuàng)下大會新的紀錄,反映出我國半導體產(chǎn)業(yè)蓬勃向上、熱度空前。

作為國內(nèi)集成電路領域良率管理領軍企業(yè),東方晶源攜全新產(chǎn)品矩陣亮相大會,向業(yè)界全面展現(xiàn)公司在電子束檢測量測、芯片制造EDA工具等領域的新產(chǎn)品、新成果、新突破,彰顯出細分領域領導者的技術實力以及高質(zhì)量發(fā)展的創(chuàng)新活力。

本屆SEMICON CHINA,東方晶源展臺位置突出、整體設計風格簡約大氣、科技感十足,產(chǎn)品矩陣更加清晰完整。自上屆SEMICON CHINA之后,公司保持高速的發(fā)展態(tài)勢,在行業(yè)內(nèi)形成了巨大的影響力和關注度。6月29日上午,北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)管委會主任孔磊等重要領導蒞臨東方晶源展位進行參觀,董事長兼CTO俞宗強博士親自介紹了公司新產(chǎn)品以及取得的技術新突破。孔主任對東方晶源的發(fā)展成果給予了高度評價并勉勵企業(yè),繼續(xù)發(fā)揮領先的技術優(yōu)勢,加大產(chǎn)業(yè)化布局,實現(xiàn)全方位發(fā)展。

此外,東方晶源展臺還吸引了超過50家客戶,眾多業(yè)界專家、合作伙伴、投資人和行業(yè)媒體的關注和到訪,展臺熱度異?;鸨5綀鋈藛T詳細了解公司情況,詢問產(chǎn)品技術細節(jié),與展臺工作人員深入探討合作機會,共同尋求未來發(fā)展的新機遇。

DR-SEM正式亮相電子束檢測量測領域領先優(yōu)勢再擴大

本次展會,東方晶源電子束缺陷復檢設備DR-SEM(型號:SEpA-r600)正式亮相。該設備可滿足28nm及以上邏輯、3D-NAND、DRAM制程的缺陷復檢需求,具備全自動Review、結構透視和元素分析能力,D2D算法的加持令設備具有優(yōu)秀的捕獲率。目前已出機到客戶端進行產(chǎn)線驗證,獲得多個訂單。DR-SEM是東方晶源在電子束檢測領域的又一力作,在增加企業(yè)競爭力,行業(yè)影響力方面具有重要意義。

此外,東方晶源三款經(jīng)過產(chǎn)線驗證并進入量產(chǎn)的電子束檢測、量測設備,通過不斷迭代升級,產(chǎn)品性能取得大幅提升。電子束缺陷檢測設備EBI已進入28nm產(chǎn)線全自動量產(chǎn)超過2年,Uptime超過90%,UT(設備使用率)超過80%,電子束圖形分辨率、最大視場、關鍵缺陷抓取率等關鍵指標已達到行業(yè)主流水平。

12英寸、6/8英寸關鍵尺寸量測設備CD-SEM均已進入產(chǎn)線量產(chǎn)多時,可支持Line/Space、Hole/Elliptic、LER/LWR等多種量測場景、滿足多種成像需求。此外,東方晶源CD-SEM還具備基于設計版圖文件離線編輯Recipe功能(選配項)。值得一提的是,東方晶源推出的12英寸EBI和12英寸、6/8英寸CD-SEM均為國內(nèi)首臺,填補國內(nèi)相關領域空白。

計算光刻軟件領銜,芯片制造EDA工具再添兩個新成員

東方晶源計算光刻軟件PanGen,打破國外技術壟斷,是國內(nèi)首款且成功在國內(nèi)主流邏輯和存儲Fab先進制程節(jié)點進行量產(chǎn)應用的OPC軟件。CPU+GPU混合超算架構、反向計算光刻ILT等前沿技術的運用,令PanGen具有出眾的性能。同時,PanGen計算光刻平臺已具備完整的功能鏈條,包括精確的制程仿真、DRC、SBAR、ILT、OPC、DPT,以及SMO,可提供全套計算光刻解決方案,領跑國內(nèi)相關領域發(fā)展。

新產(chǎn)品YieldBook依托于公司領先的計算光刻OPC技術和電子束設備產(chǎn)品,結合自主開發(fā)的D2DB和DTCO技術,實現(xiàn)芯片研發(fā)與生產(chǎn)制造全過程的數(shù)據(jù)管理,有力支持芯片制造全流程一體化良率管理和提升。目前已在主流Logic Fab 28nm產(chǎn)線驗證中,即將進入另一個大型Fab進行驗證。

嚴格光刻仿真軟件PanSim是東方晶源聚焦國內(nèi)又一空白領域所打造的新產(chǎn)品。該軟件依托于物理模型對光刻過程進行仿真,精確模擬各種光刻工藝條件,為光刻工藝工程師在進行新技術節(jié)點研發(fā)和改進生產(chǎn)工藝階段提供重要參考,可大大降低研發(fā)成本。目前,PanSim已經(jīng)在客戶端進行驗證,作為一款完全國產(chǎn)化的嚴格光刻仿真工具,將打破被西方所壟斷的局面。

從2014年創(chuàng)立至今,九年來東方晶源取得了跨越式的發(fā)展。隨著5月份公司股份制改造順利完成,IPO之路已全面開啟,公司也將邁入更加快速的發(fā)展新階段。目前,公司發(fā)展戰(zhàn)略清晰,組織和人才策略不斷夯實,在核心技術上進一步高筑競爭壁壘。未來在國家半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展布局整體政策的指導下,東方晶源將繼續(xù)響應國家號召、貼近產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求、發(fā)揮自身技術優(yōu)勢、推出更多產(chǎn)品、解決更多產(chǎn)業(yè)鏈關鍵問題,為中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出更大貢獻。

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