lithography

lithography是一種平板印刷技術(shù)，在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過程如下：
??首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；
??使用掩模版對光刻膠曝光固化，并在光刻膠層上形成固化的與掩模板完全對應(yīng)的幾何圖形；
??對光刻膠上圖形顯影，與掩模對應(yīng)的光刻膠圖形可以使芯層材料抵抗刻蝕過程；
??使用等離子交互技術(shù)，將二氧化硅刻蝕成與光刻膠圖形對應(yīng)的芯層形狀；
??光刻膠層剝離；
??最后在已經(jīng)形成的芯層圖形上面淀積上包層。
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??使用lithography方法幾乎可以在芯層材料上形成各種幾何圖形，圖形的精細(xì)度取決于曝光系統(tǒng)的光源波長，現(xiàn)有UV、DUV、e-beam、x-ray、nano-imprint幾種曝光方式。
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