在高驅(qū)動電流下GaN的效率降低了,關(guān)于這個下降起源的爭論一直在持續(xù)著,光電流測量為它帶來轉(zhuǎn)機。
據(jù)估計,由InGaN量子阱諧振光激勵生成的載流子限制了LED,使它不具備這個特定的層結(jié)構(gòu)。但來自RPI的FredSchubert及合作伙伴展示了這些受光激發(fā)的載流子能從阱中泄露出去,即便是當這些結(jié)構(gòu)長得不偏不倚的。
這個發(fā)現(xiàn)為LED下降的早期性實驗研究投下了陰影。Schubert小組之前宣布電子泄露是下降的原因,他們猜想,在一個InGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)中,它所含InGaN層的諧振光激勵不能導(dǎo)致載流子逃逸,就如實驗說明的。PhilipsLumi作相同的猜想,他們宣稱光學(xué)實驗揭示了俄歇式復(fù)合導(dǎo)致了下降問題。
RPI現(xiàn)在的觀點是,他們的實驗無法決定到底哪個才是下降的原因,俄歇復(fù)合還是載荷逃逸?
這個光電流實驗用到的是一個300×300μm器件,器件內(nèi)含一個常規(guī)的InGaN/GaN多量子阱以及一個電子阻擋層。當使用405nm的光源泵浦時,這些406nmLED可在全偏條件下產(chǎn)生明顯的光電流,在激發(fā)功率是1mW時,零偏壓器件的光電流超過15μA.
一些LED團體的研究人員認為,不同的樣品才是導(dǎo)致不同下降起源的根本原因;為了解決這個問題,RPI開始調(diào)查這些來自其他制造商的樣品,F(xiàn)red的兒子Martin Schubert表示,“我們測量所有樣品在諧振激勵下的載流子逃逸”.
現(xiàn)在這個小組打算重溫早期的工作,包括外量子效率和光致光效率之間的對比。MartinSchubert解釋道,“我們也將期待其他的實驗,更進一步研究偏壓條件下LED在干些什么”.
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