聚焦 | 切入高端光刻膠領(lǐng)域 南大光電加速國產(chǎn)替代

近日，南大光電接受投資者提問時表示，目前 193nm 光刻膠產(chǎn)品正在測試階段，公司將在新基建的發(fā)展中，緊緊抓住“替代進(jìn)口”的機遇，為國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展突破瓶頸和國產(chǎn)化做出積極的貢獻(xiàn)。

光刻膠究竟是什么

半導(dǎo)體光刻膠根據(jù)曝光光源波長的不同來分類。常用曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、G線（436nm）、I線（365nm）、深紫外（DUV，包括248nm和193nm）和極紫外（EUV），相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運而生。不同的光刻膠中，根據(jù)不同的需求，關(guān)鍵配方成份如成膜樹脂、光引發(fā)劑、添加劑等也有所不同，使得光刻膠有不同的性能，進(jìn)而能夠滿足相應(yīng)的需求。目前主要的光刻膠有G線光刻膠、I線光刻膠、KrF光刻膠和ArF光刻膠四種。

目前英特爾，三星等大的半導(dǎo)體制造商，芯片產(chǎn)品已經(jīng)將量產(chǎn)工藝推進(jìn)到了14nm至28nm區(qū)間，這個也代表目前量產(chǎn)的最高工藝。所以以上光刻膠種類里，能夠采用193nm激光光源的浸潤ArF線光刻膠，是唯一能夠滿足應(yīng)用的光刻膠產(chǎn)品，具有極高的技術(shù)壁壘，是半導(dǎo)體光刻膠高精尖的代表。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場，G線＆I線、KrF、ArF＆液浸、ArF三類光刻膠三分天下，占比分別占24％、22％、42％。其中，ArF／液浸ArF光刻膠主要對應(yīng)目前先進(jìn)IC制程。隨著雙／多重曝光技術(shù)的使用，光刻膠使用次數(shù)增加，ArF光刻膠市場需求將加速擴大。在EUV技術(shù)成熟之前，ArF光刻膠仍將是主流。未來，隨著功率半導(dǎo)體、傳感器、LED市場的持續(xù)擴大，I線市場將持續(xù)增長。而隨著精細(xì)化需求增加，I線光刻膠將被KrF光刻膠替代，KrF光刻膠市場需求將不斷增加。

風(fēng)口已至 國內(nèi)替代進(jìn)程加速

目前，在全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，主要被日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（TOK）、羅門哈斯、日本信越、富士材料等頭部廠商壟斷。其中，在高端半導(dǎo)體光刻膠市場上，全球的EUV和ArF光刻膠主要是JSR、陶氏、信越化學(xué)等供應(yīng)商，份額最大的是JSR、信越化學(xué)，TOK也有研發(fā)相較之下，中國企業(yè)份額不足10％，半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠都嚴(yán)重依賴進(jìn)口，雖然國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)尚不成熟，但是，國內(nèi)企業(yè)已迎來代替窗口，筆者認(rèn)為主要有以下兩個因素推動：

第一、新建晶圓廠投產(chǎn)：2020年～2022年是中國大陸晶圓廠投產(chǎn)高峰期，以長江存儲，長鑫存儲等新星晶圓廠和以中芯國際，華虹為代表的老牌晶圓廠正處于產(chǎn)能擴張期，未來3年將迎來密集投產(chǎn)。

第二、光刻膠代替窗口期：根據(jù)光刻膠的特性來推斷，新建晶圓廠將是光刻膠國產(chǎn)代替的主要發(fā)展企業(yè)。國內(nèi)新建晶圓廠的密集投產(chǎn)為光刻膠打開了最佳代替窗口。根據(jù)國內(nèi)晶圓廠的建設(shè)速度和規(guī)劃，預(yù)計2022年國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠市場將會是2019年的兩倍，約55億元。屆時世界面板產(chǎn)能持續(xù)向中國轉(zhuǎn)移，國內(nèi)面板光刻膠市場需求預(yù)計約為105億元。二者合計將帶來約160億元的市場空間。而且在全球經(jīng)濟矛盾的情況下，產(chǎn)業(yè)地位更加重要了。

參考 2019 年 7 月份日韓貿(mào)易沖突事件，日本在 2019 年 7 月 1 日突然宣布限制向韓國出口包括光刻膠在內(nèi)的半導(dǎo)體材料。這三種原材料很難短時間在其他國家找到替代供應(yīng)商，但同時又是面板、存儲器生產(chǎn)中極其關(guān)鍵的材料，韓國面臨的窘迫處境使人深思，更應(yīng)該激發(fā)我國對光刻膠等關(guān)鍵原材料獨立自主開發(fā)的重要性的認(rèn)知。光刻膠技術(shù)在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要，國產(chǎn)替代勢在必行。

國內(nèi)企業(yè)紛紛布局 技術(shù)上還有差距

1、 晶瑞股份：子公司瑞紅在光刻膠領(lǐng)域深耕多年，率先實現(xiàn)了i線光刻膠的量產(chǎn)，可以實現(xiàn)0．35μm的分辨率。承擔(dān)了國家重大科技項目02專項“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項目，目前i線光刻膠量產(chǎn)，KrF光刻膠處于研發(fā)過程。公司未來重點發(fā)展248nm，將著力發(fā)展相關(guān)業(yè)務(wù)。

2、 北京科華：6寸的G線、I線市場份額較高；8寸、12寸里面I－line、KrF都有突破，目前份額較??；ArF干法光刻膠已經(jīng)處于研發(fā)及客戶認(rèn)證階段。

3、 南大光電：于2017年開始研發(fā)“193nm光刻膠項目”，并承擔(dān)“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”02專項項目。公司已在寧波經(jīng)濟開發(fā)區(qū)建設(shè)25噸KrF光刻膠生產(chǎn)線，預(yù)計三年達(dá)產(chǎn)銷售。

4、 上海新陽：公司在半導(dǎo)體傳統(tǒng)封裝領(lǐng)域已經(jīng)成為國內(nèi)市場的主流供應(yīng)商。光刻膠領(lǐng)域，公司擁有193nm（ArF）干法光刻膠研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目。ARF193nm光刻膠是芯片制造進(jìn)入90nm銅互聯(lián)制程后最重要的主流光刻膠產(chǎn)品，一直是國內(nèi)空白。研發(fā)此款光刻膠意在填補國內(nèi)空白，實現(xiàn)芯片制造在關(guān)鍵工藝技術(shù)和材料技術(shù)的自主可控。

5、 容大感光：公司1．8億收購高仕電研，標(biāo)的生產(chǎn)的PCB油墨產(chǎn)品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻膠，LED用正性光刻膠及l(fā)ife－off光刻膠，I／G線IC用光刻膠等產(chǎn)品處于國內(nèi)領(lǐng)先地位。但公司原規(guī)劃于2018年年底建成1000噸的光刻膠生產(chǎn)線，但直至2019年底仍未實現(xiàn)。

雖然目前光刻膠的國產(chǎn)化正在加速，但半導(dǎo)體和 LCD 高端光刻膠技術(shù)與國外有較大差距。在自主研發(fā)，原材料依賴，廠商不易切入供應(yīng)鏈和穩(wěn)定商用等方面還是有很大的阻礙。但隨著電子信息產(chǎn)業(yè)向中國轉(zhuǎn)移和配套產(chǎn)業(yè)鏈的完善，未來進(jìn)口替代是趨勢所向，其中大部分中低端產(chǎn)品已實現(xiàn)進(jìn)口替代，部分優(yōu)秀企業(yè)已在高端產(chǎn)品進(jìn)口替代上取得了重大突破，進(jìn)口替代趨勢愈加明顯，國產(chǎn)替代或即將實現(xiàn)。

參考資料來源：

1、秦盤：《國產(chǎn)替代再出手，光刻膠投資迎來絕佳窗口期，概念股一覽（收藏）》

2、雪球：《國內(nèi)替代勢在必行，光刻膠概念股一覽》

3、新浪財經(jīng)：《巨·研究 ｜ 國內(nèi)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域加速追趕者——光刻膠》

4、狄瓊霏：《光刻膠領(lǐng)域龍頭》

5、未來智庫：《半導(dǎo)體材料行業(yè)專題報告：光刻膠，高精度光刻關(guān)鍵材料》

6、與非網(wǎng)：《國產(chǎn)光刻機奧企業(yè)全力推進(jìn)研發(fā)進(jìn)度，南大光電193nm產(chǎn)品已進(jìn)入測試階段》

7、冷靜三分鐘：《什么是光刻膠？現(xiàn)狀如何？》