清溢光電是國(guó)內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一，其掩膜版產(chǎn)品多次填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白，是國(guó)內(nèi)掩膜版行業(yè)的龍頭企業(yè)。其產(chǎn)品主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等行業(yè)，是下游行業(yè)產(chǎn)品制程中的關(guān)鍵工具。
掩膜版是半導(dǎo)體集成電路、顯示屏制造中圖形底片轉(zhuǎn)移用的高精密工具。據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，其在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)原材料總成本占比14％，僅次于大硅片（32％）。掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈上游廠商通過(guò)提純、合成等方式生產(chǎn)高純度石英錠；處于中游的精磨、涂膠、光刻等廠商對(duì)石英錠進(jìn)行深加工，制成掩膜版；最終在半導(dǎo)體和顯示器生產(chǎn)中得到使用。
2018年全球掩膜版市場(chǎng)規(guī)模為40．40億美元，同比增長(zhǎng)7．73％，預(yù)計(jì)2020年將達(dá)到42億美元，未來(lái)年均復(fù)合增速將在1．96％左右。
其中，Photronics、日本 DNP、日本 Toppan 三家占據(jù)半導(dǎo)體掩膜版 80％以上的市場(chǎng)份額。我國(guó)掩膜版行業(yè)僅能滿足國(guó)內(nèi)中低檔產(chǎn)品市場(chǎng)需求，高檔掩膜版則由國(guó)外公司提供。據(jù)IHS Markit統(tǒng)計(jì)，2018年全球石英掩膜版銷售金額排名中國(guó)內(nèi)上榜企業(yè)僅國(guó)內(nèi)掩膜版龍頭清溢光電一家。在全球范圍內(nèi)，國(guó)內(nèi)掩膜版企業(yè)與同行業(yè)公司相比，由于其起步時(shí)間較晚，其在國(guó)際市場(chǎng)影響力方面存在較大差距。
全球各地區(qū)掩膜版市場(chǎng)占比（含預(yù)測(cè)）
打破壟斷 奠定國(guó)內(nèi)市場(chǎng)龍頭
全球各大掩膜版廠商的高端產(chǎn)品代表了其技術(shù)實(shí)力。在 AMOLED 用高精度掩膜版領(lǐng)域，由于核心技術(shù)掌握在 HOYA、SKE、PKL 等境外廠商手中，而這些企業(yè)對(duì)關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行嚴(yán)格封鎖，導(dǎo)致境內(nèi)廠商與境外相比仍存在一定技術(shù)差距。目前國(guó)內(nèi)公司在 10 代大尺寸掩膜版領(lǐng)域與 AMOLED 用高精度掩膜版領(lǐng)域的部分指標(biāo)上與先進(jìn)技術(shù)存在一定差距。其中，清溢光電邁出了國(guó)產(chǎn)化第一步。
2008年，清溢光電成功研制出國(guó)內(nèi)第一張5代掩膜版，打破了我國(guó)中大尺寸掩膜版依賴進(jìn)口的局面，大大降低了國(guó)內(nèi)面板企業(yè)掩膜版采購(gòu)成本；2014年研制出國(guó)內(nèi)第一張8代掩膜版；2016年10月成功研制AMOLED用高精度掩膜版，成為全球第6家具備AMOLED用高精度掩膜版生產(chǎn)能力的商用廠家，打破了國(guó)內(nèi)AMOLED用高精度掩膜版完全依賴國(guó)外進(jìn)口的局面，已經(jīng)正式給多家國(guó)內(nèi)面板企業(yè)供貨。
政策加持 迎藍(lán)海發(fā)展機(jī)遇
作為全球高端產(chǎn)業(yè)的重要組成部分，平板顯示行業(yè)和半導(dǎo)體芯片行業(yè)是我國(guó)重點(diǎn)扶持的戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)。為提升我國(guó)平板顯示和半導(dǎo)體芯片等行業(yè)配套材料的國(guó)產(chǎn)化率，進(jìn)一步完善產(chǎn)業(yè)鏈，國(guó)家和地方各級(jí)政府部門近年來(lái)出臺(tái)了一系列政策和措施予以全面扶持。掩膜版行業(yè)作為電子元器件的上游行業(yè)，屬于國(guó)家發(fā)展戰(zhàn)略的重要環(huán)節(jié)之一，必會(huì)迎來(lái)新一輪風(fēng)口。
未來(lái)隨著相關(guān)產(chǎn)業(yè)進(jìn)一步向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移，國(guó)內(nèi)平板顯示行業(yè)掩膜版的需求量將持續(xù)上升，預(yù)計(jì)到2021年，中國(guó)大陸平板顯示行業(yè)掩膜版需求量全球占比將達(dá)到56％。摩爾定律推動(dòng)了光掩膜板系統(tǒng)發(fā)展成更加復(fù)雜的系統(tǒng)。中國(guó)集成電路行業(yè)快速擴(kuò)張推動(dòng)全球行業(yè)增長(zhǎng)，根據(jù)《國(guó)家集成電路發(fā)展推進(jìn)綱要》的規(guī)劃，我國(guó)到2020年集成電路將保持20％的年增長(zhǎng)率。
由于國(guó)內(nèi)掩膜版行業(yè)發(fā)展落后，供應(yīng)未及時(shí)跟進(jìn)，因此國(guó)內(nèi)掩膜版供需缺口逐年擴(kuò)大。2011 年我國(guó)掩膜版需求由 5．09 萬(wàn)平方米增加至 2016 年 7．98 萬(wàn)平方米，產(chǎn)量則由 0．87 萬(wàn)平方米增加至 1．69 萬(wàn)平方米，供給缺口由 4．22 萬(wàn)平方米擴(kuò)大至 6．29 萬(wàn)平方米。根據(jù)摩爾定律：集成電路上可容納的元器件的數(shù)目，約每隔18－24個(gè)月便會(huì)增加一倍，性能也將提升一倍。集成電路性能與半導(dǎo)體制程緊密聯(lián)系，技術(shù)升級(jí)必將帶來(lái)掩膜版市場(chǎng)增量。
當(dāng)前，我國(guó)半導(dǎo)體材料的整體本土化仍然處于比較低的水平，特別是在中高端領(lǐng)域，亟待突破的產(chǎn)品、技術(shù)非常之多。而材料的研發(fā)本來(lái)就是個(gè)比較漫長(zhǎng)的過(guò)程，從驗(yàn)證到真正導(dǎo)入又需要消耗大量的時(shí)間，在高端材料研發(fā)人才方面國(guó)內(nèi)的缺口較大，在核心技術(shù)上國(guó)外的封鎖嚴(yán)格，這就給國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料業(yè)的發(fā)展帶來(lái)了諸多挑戰(zhàn)。我國(guó)半導(dǎo)體材料的本土化程度要想得到明顯改善，任重而道遠(yuǎn)。
來(lái)源：OFweek維科號(hào)新材料情報(bào)NMT
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