臺積電占據業(yè)界 EUV光刻機安裝量的 50%，晶圓累計產量達60%

臺積電最近舉行了年度技術研討會，在會上透露了大量關于未來芯片制造業(yè)務的信息。其中包括關于臺積電先進工藝節(jié)點的新細節(jié)，比如 N5、N4、N3 和 N12e。

此外，臺積電也透露了其在尖端制造實力方面的情況。臺積電現在占據了業(yè)界 EUV(極紫外光)設備安裝量的 50%。臺積電還擁有約 60% 的 EUV 晶圓累計產量。

臺積電的 N7 + 制程是該公司第一個利用 EUV 光刻技術的節(jié)點，而該公司的 N5 制程將更加傾向于使用 EUV 光刻技術。此外，5nm 以后的任何產品都將廣泛采用 EUV 光刻技術。

目前已知的大廠公開的 EUV 工藝包括臺積電的 7 + 和 N5，以及三星的 7LPP(以及下面的任何工藝)，英特爾的 EUV 工藝要到明年才進入自己的 7nm 產品。

ASML 是唯一一家生產和銷售 EUV 光刻設備的公司，按照 Cutress 的估計，臺積電已經從 ASML 購買了 30-35 臺設備。據此估算，ASML 已售出約 70 臺機器，到 2020 年底可能會賣到 90 臺。

值得一提的是，臺積電的說法是 “已安裝的 EUV”機器，而從拿到零件到校準機器使用，需要長達 6 個月的時間。因此，目前這些晶圓廠中，有部分 EUV 機器還在閑置等待安裝，或者可能只是在早期測試或預風險試驗中使用。

GlobalFoundries 有兩臺早期的 EUV 機器，安裝了一臺，但最后決定不追求領先的 7nm 工藝，將兩臺機器都賣掉了，而中芯國際也訂購了一臺，但據悉由于美國的限制，并沒有安裝。