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[導(dǎo)讀]電子微組裝,就是為了適應(yīng)電子產(chǎn)品微型化、便攜式、高可靠性需求,實(shí)現(xiàn)電子產(chǎn)品功能元器件的高密度集成,采用微互連、微組裝設(shè)計(jì)發(fā)展起來(lái)的新型電子組裝和封裝技術(shù),也是電子組裝技術(shù)向微米和微納米尺度方向的延伸,它包含了微電子封裝、混合集成電路和多芯片組件、微波組件、微機(jī)電系統(tǒng)等相關(guān)產(chǎn)品的微組裝技術(shù)。

一、什么是電子微組裝

電子微組裝是為了適應(yīng)電子產(chǎn)品微型化、便攜式、高可靠性需求,實(shí)現(xiàn)電子產(chǎn)品功能元器件的高密度集成,采用微互連、微組裝設(shè)計(jì)發(fā)展起來(lái)的新型電子組裝和封裝技術(shù),也是電子組裝技術(shù)向微米和微納米尺度方向的延伸,它包含了微電子封裝、混合集成電路和多芯片組件、微波組件、微機(jī)電系統(tǒng)等相關(guān)產(chǎn)品的微組裝技術(shù)。根據(jù)電子行業(yè)對(duì)三個(gè)層級(jí)電子封裝的定義、IPC/JEDEC標(biāo)準(zhǔn)對(duì)兩個(gè)層級(jí)電子互連的定義和國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖(ITRS)對(duì)先進(jìn)系統(tǒng)級(jí)封裝(System in Package, SiP)的定義,本書(shū)所討論的電子微組裝包括:

● 內(nèi)引線鍵合和芯片倒裝焊的芯片級(jí)互連(稱芯片級(jí)互連,或0級(jí)封裝);

● 單芯片/多芯片組裝及多層布線基板互連的器件級(jí)封裝(稱1級(jí)封裝);

● 表面貼裝元件(SMC)和表面貼裝器件(SMD)在PCB或陶瓷基板上貼裝的板級(jí)封裝(稱2級(jí)封裝);

● 元器件集成在單一標(biāo)準(zhǔn)封裝體內(nèi)并具有系統(tǒng)功能的系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)。

電子封裝分類層級(jí)定義如圖1所示,其中,國(guó)際上傳統(tǒng)的電子封裝層級(jí)(1990年)定義為:芯片級(jí)互連、1級(jí)封裝、2級(jí)封裝和3級(jí)封裝,與日本Jisso Roadmap專委會(huì)(JRC)提出的Jisso電子互連層級(jí)(2005):1級(jí)互連、2級(jí)互連、3級(jí)互連和4級(jí)互連相對(duì)應(yīng)。


圖1 電子封裝分類層級(jí)定義

用電子行業(yè)和IPC/JEDEC標(biāo)準(zhǔn)定義的封裝互連層級(jí)的術(shù)語(yǔ)來(lái)表述,電子微組裝是包含芯片級(jí)互連、1級(jí)封裝、2級(jí)封裝和系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)的,適用于分立元器件、多芯片組件和模塊產(chǎn)品的微組裝與封裝。對(duì)于SiP,ITRS給出的定義:一種能夠集成多種不同功能有源電子器件并組裝在單個(gè)標(biāo)準(zhǔn)封裝體內(nèi),使其能夠?yàn)槟骋幌到y(tǒng)或子系統(tǒng)提供多個(gè)功能的集成式組裝及封裝形式。為實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品設(shè)計(jì)功能,SiP可以包含無(wú)源元件、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、光學(xué)元件和其他封裝體及部件,換句話說(shuō),SiP是一種系統(tǒng)級(jí)一體化集成封裝結(jié)構(gòu),它涵蓋了圖1中的1級(jí)、2級(jí)和3級(jí)封裝技術(shù)。

從電子微組裝的組成結(jié)構(gòu)來(lái)看,其構(gòu)成要素有4方面:基礎(chǔ)功能元器件(有源電子器件和無(wú)源電子元件)、集成元器件的電路基板(PCB、陶瓷基板等)、元器件與電路基板間的互連組裝材料(內(nèi)引線鍵合、焊料、黏結(jié)料等)、外部封裝材料(金屬外殼、有機(jī)包封料和外引腳)。電子微組裝涉及的產(chǎn)品包括:分立電子元器件(Discrete Electronic Component, DEC)、混合集成電路(Hybrid Integrated Circuit, HIC)、多芯片組件(Multi-Chip Module, MCM)、板級(jí)組件(Printed Circuit Board Assembly, PCBA)、微波組件(Microwave Assembly, MA)、微系統(tǒng)(Micro-system, MS)、SiP或板級(jí)微系統(tǒng)(System on Package, SoP)模塊、真空電子器件(Vacuum Electronic Device, VED)等。

電子微組裝的作用,就是把基礎(chǔ)功能元器件安裝在規(guī)定尺寸的封裝體內(nèi),保證其內(nèi)部的電連接,從而實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品設(shè)計(jì)的功能。為此,需要采用各種微組裝技術(shù),實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品內(nèi)部芯片間互連、芯片與外殼基板的互連、1級(jí)封裝與2級(jí)封裝的互連,并同時(shí)滿足產(chǎn)品散熱、機(jī)械固定和防潮等方面的要求。

二、電子微組裝技術(shù)發(fā)展歷程及特點(diǎn)

作為電子組裝封裝技術(shù)的組成部分,電子微組裝技術(shù)以傳統(tǒng)電子封裝技術(shù)為基礎(chǔ),為適應(yīng)產(chǎn)品微型化的需求而得以不斷發(fā)展。產(chǎn)業(yè)化的電子組裝封裝技術(shù)發(fā)展至今,已有60多年的歷史。

1.電子組裝封裝技術(shù)發(fā)展歷程

20世紀(jì)50年代,電子元器件主要有真空電子管、長(zhǎng)引腳無(wú)源元件,這時(shí)通常采用導(dǎo)線連接、螺絲擰緊的方式在金屬板框架上固定元器件,并未形成或提出組裝密度的概念。應(yīng)用的代表產(chǎn)品有電子管收音機(jī)。

20世紀(jì)60年代,半導(dǎo)體晶體管的出現(xiàn),逐步取代了真空電子管,開(kāi)始使用軸向引線元件和晶體管,采用手工焊接工藝,將元器件引腳插入單面印制電路板(PCB)的焊孔進(jìn)行焊接,實(shí)現(xiàn)了在PCB電路板上組裝元器件,大大縮小了電子產(chǎn)品的體積。應(yīng)用的代表產(chǎn)品有塑料外殼半導(dǎo)體收音機(jī)。

20世紀(jì)70年代,發(fā)展了以雙列直插式封裝(Double In-line Package, DIP)和插針網(wǎng)格陣列封裝(Pin Grid Array Package, PGA)為代表的半導(dǎo)體集成電路(Integrated Circuit, IC),以及徑向引腳的無(wú)源元件,采用自動(dòng)插裝技術(shù)在雙面PCB電路板上組裝元器件。應(yīng)用的代表產(chǎn)品有黑白、彩色電視機(jī)。

20世紀(jì)80年代,發(fā)展了以四邊扁平封裝、四邊J形引腳扁平封裝為代表的大規(guī)模集成電路,形成標(biāo)準(zhǔn)化的表面貼裝器件(Surface Mounted Device, SMD)和表面貼裝元件(Surface Mounted Component, SMC),采用表面貼裝技術(shù)(SMT)在多層布線PCB和多種陶瓷基板上組裝元器件。應(yīng)用的代表產(chǎn)品有電子表、電子照相機(jī)。

20世紀(jì)90年代,發(fā)展了以球柵陣列(Ball Grid Array, BGA)和芯片尺寸封裝(Chip Size Package, CSP)為代表的高密度封裝器件,以及超大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路和多芯片組件(MCM),形成了封裝、芯片面積比小于1.5的高封裝效率技術(shù),采用自動(dòng)貼裝技術(shù)在高密度多層PCB、玻璃基板(Chip on Glass, COG)和多層陶瓷基板上組裝元器件或裸芯片。其中,MCM是在HIC基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的用于高性能系統(tǒng)的模塊產(chǎn)品,價(jià)格昂貴,主要應(yīng)用于航天、航空等高性能、高可靠性要求的產(chǎn)品,如IBM 4300系列大型計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的MCM結(jié)構(gòu)CPU,其陶瓷基板有40多層,包含25種IC。其他商業(yè)化應(yīng)用的代表產(chǎn)品有手機(jī)、便攜式電子產(chǎn)品。

2000—2010年,發(fā)展了系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)技術(shù)、圓片級(jí)封裝技術(shù)(WLP),并形成實(shí)用化產(chǎn)品。SiP是在成熟的主流IC裝配技術(shù)和表面安裝技術(shù)(SMT)基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的高密度封裝新技術(shù),充分利用現(xiàn)有成熟的組裝技術(shù),靈活運(yùn)用各種不同芯片資源和封裝互連優(yōu)勢(shì),在保持SiP系統(tǒng)高性能的同時(shí)降低成本,其封裝解決方案包括:芯片并列、堆疊結(jié)構(gòu),PoP封裝結(jié)構(gòu),PiP封裝結(jié)構(gòu)。應(yīng)用的代表產(chǎn)品有智能手機(jī)、迷你移動(dòng)存儲(chǔ)卡、藍(lán)牙模塊等。

2010年至今,開(kāi)發(fā)了極小化元器件,組裝在撓性帶載基板(Flexible Printed Circuit, FPC)上,打造生活化可穿戴設(shè)備,其特點(diǎn)是:低功耗、低成本、小尺寸,應(yīng)用的代表產(chǎn)品有與互聯(lián)網(wǎng)結(jié)合的智能手環(huán)、手表、眼鏡、衣服等可貼身穿戴的電子產(chǎn)品。同期,進(jìn)一步發(fā)展了SiP和SoP系統(tǒng)集成技術(shù),在SiP芯片級(jí)互連方面,為獲得更高性能和組裝密度,不斷優(yōu)化3D芯片堆疊和TSV硅通孔技術(shù);在SoP多層基板互連和元器件組裝方面,開(kāi)發(fā)了內(nèi)埋置元件多功能基板,SiP、SoP封裝技術(shù)在射頻和無(wú)線電設(shè)備、固體硬盤(pán)、汽車電子、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的應(yīng)用不斷拓展。

國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖(ITRS)報(bào)告(2015年)指出,半導(dǎo)體芯片體積到2021年將不再縮小,預(yù)測(cè)技術(shù)進(jìn)步的傳統(tǒng)“摩爾定律(Moore's Law)”—每1~2年單芯片內(nèi)晶體管數(shù)量翻倍且性能提升一倍,將在5年內(nèi)終結(jié),如圖2所示。為持續(xù)提高半導(dǎo)體器件性能和運(yùn)算速度,芯片只能向3D轉(zhuǎn)型,3D堆疊等新型微組裝技術(shù)將在短期內(nèi)成為芯片晶體管密度提高的重要手段,并被解釋為預(yù)測(cè)技術(shù)進(jìn)步的“摩爾定律升級(jí)(More than Moore)”,在“ITRS 2.0”中,3D集成技術(shù)將聚焦系統(tǒng)集成、異構(gòu)集成和異構(gòu)組成等三維集成微組裝技術(shù)。長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看,多種功能芯片的高密度集成必然帶來(lái)新型電子微組裝技術(shù)的發(fā)展和革命。


圖2 ITRS報(bào)告:傳統(tǒng)“摩爾定律”將在2021年終結(jié)

2.電子微組裝技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)和特點(diǎn)

自1960年出現(xiàn)晶體管以來(lái),電子封裝50多年的演變和發(fā)展趨勢(shì)如圖3所示。


圖3 電子封裝50多年的演變和發(fā)展

與SiP相比,SoP亦是系統(tǒng)級(jí)封裝的概念,雖然都采用“封裝”來(lái)描述,但前者強(qiáng)調(diào)一個(gè)小型完整“封裝”的理念,后者強(qiáng)調(diào)在單一基板上實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)功能“組裝”的理念,各有優(yōu)勢(shì)和適用范圍。為保證系統(tǒng)級(jí)封裝的一體化,SiP注重芯片級(jí)互連技術(shù),通過(guò)芯片疊層、硅TSV通孔、芯片倒裝焊和內(nèi)引線鍵合等互連技術(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)構(gòu)成系統(tǒng)功能的各類裸芯片在單一封裝體內(nèi)的高密度組裝,系統(tǒng)功能的拓展則采用PoP或PiP封裝技術(shù),SiP大量應(yīng)用于存儲(chǔ)器等數(shù)字產(chǎn)品和高可靠性產(chǎn)品。而為保證復(fù)雜系統(tǒng)功能在單一基板上的實(shí)現(xiàn),SoP注重?zé)o源嵌入及多層布線基板技術(shù),通過(guò)LTCC、MLCC、厚膜等多層布線基板技術(shù)和可埋置薄膜阻容感元件技術(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)構(gòu)成系統(tǒng)功能的各類獨(dú)立封裝元器件(包括MCM、SiP)在單一多功能基板上的高密度組裝,以滿足各種復(fù)雜系統(tǒng)功能的組裝要求,SoP主要應(yīng)用于射頻/微波組件、光學(xué)探測(cè)和微機(jī)電傳感等微系統(tǒng)產(chǎn)品。從近10年的系統(tǒng)級(jí)封裝技術(shù)發(fā)展和應(yīng)用對(duì)比來(lái)看,SiP商業(yè)化產(chǎn)品已成熟推出,而SoP的更高性能的多層基板技術(shù)還在不斷開(kāi)發(fā)和完善,其成熟的商業(yè)化產(chǎn)品仍在期待中。

為適應(yīng)電子產(chǎn)品的小型化應(yīng)用,21世紀(jì)初至今,電子微組裝技術(shù)在三個(gè)方向不斷創(chuàng)新和進(jìn)步。

(1)微米級(jí)的組裝技術(shù),實(shí)現(xiàn)更小尺寸、更高密度的封裝。如:硅芯片TSV通孔技術(shù)、碳納米管微凸點(diǎn)技術(shù)。

(2)圓片級(jí)封裝(Wafer Level Package, WLP)技術(shù),實(shí)現(xiàn)工藝成本的降低和封裝效率及可靠性的提高。如:從Fan-in WLP發(fā)展到Fan-out WLP,通過(guò)eWLP-BGA結(jié)構(gòu)使3D SiP封裝在縱向互連。

(3)滿足系統(tǒng)功能的3D封裝物理布局設(shè)計(jì)技術(shù),以最合理的封裝結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的系統(tǒng)功能。如:通過(guò)基于SiP的信息安全芯片集成設(shè)計(jì)技術(shù)解決信息安全系統(tǒng)中邏輯芯片與存儲(chǔ)器難集成的問(wèn)題,采用內(nèi)埋置多層布線基板和芯片疊層組裝技術(shù)滿足射頻收發(fā)及D/A轉(zhuǎn)換等系統(tǒng)功能設(shè)計(jì)要求,采用單晶硅基板和硅埋置型多層BCB/Au布線的SiP封裝工藝技術(shù)滿足k波段雷達(dá)功分器的設(shè)計(jì)要求,利用多層厚膜布線基板技術(shù)設(shè)計(jì)以滿足毫米波SoP電路系統(tǒng)功能,以及利用先進(jìn)的埋置型晶圓級(jí)BGA技術(shù)和PoP技術(shù)(eWLB-PoP)解決手機(jī)高密度封裝問(wèn)題并滿足相應(yīng)的功能要求。實(shí)際上,系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP、SoP)的設(shè)計(jì),需要綜合考慮產(chǎn)品的功能、尺寸、重量、成本和可靠性要求,是需要將產(chǎn)品功能與傳統(tǒng)PCB技術(shù)、先進(jìn)SoC及SiP/SoP互連技術(shù)協(xié)同設(shè)計(jì)的封裝技術(shù)。

ITRS報(bào)告關(guān)于3DIC TSV的技術(shù)路線圖表明,2009—2015年,TSV技術(shù)進(jìn)步特點(diǎn)是尺寸減小到原來(lái)的一半,見(jiàn)表1;ITRS報(bào)告關(guān)于SiP芯片與基板布線互連的絲鍵合水平,見(jiàn)表2。


表1 ITRS 3DIC TSV路線圖:TSV技術(shù)

注:W2W,Wafer to Wafer,晶片與晶片(堆疊);

D2W,Die to Wafer,芯片與圓片(堆疊);

D2D,Die to Die,芯片與芯片(堆疊);

TSV,Through Silicon Via,硅通孔。

表2 ITRS關(guān)于SiP封裝的絲鍵合水平

總體而言,隨著電子封裝技術(shù)的快速發(fā)展,特別是電子微組裝技術(shù)的加入和拓展,半導(dǎo)體技術(shù)、封裝技術(shù)和系統(tǒng)級(jí)封裝產(chǎn)品之間不斷滲透,界限越來(lái)越模糊。在一個(gè)系統(tǒng)級(jí)封裝產(chǎn)品中,由于元器件高密度組裝,其微組裝材料既是結(jié)構(gòu)的固定材料又是電路的阻容感元件,特別是微波電路產(chǎn)品,因此系統(tǒng)功能的實(shí)現(xiàn)與半導(dǎo)體裸芯片之間的互連方式以及多層基板布線結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)直接相關(guān)。

從產(chǎn)品的角度,在電子微組裝技術(shù)創(chuàng)新和進(jìn)步的帶動(dòng)下,電子封裝技術(shù)有以下八個(gè)主要發(fā)展方向:

① 向著高密度、多I/O數(shù)方向發(fā)展;

② 向著提高表面貼裝密度方向發(fā)展;

③ 向著高頻、大功率方向發(fā)展;

④ 向著薄型化、微型化、不對(duì)稱化、低成本化方向發(fā)展;

⑤ 從單芯片封裝向多芯片封裝發(fā)展;

⑥ 從2D平面封裝向3D立體封裝方向發(fā)展;

⑦ 向著系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP、SoP)方向發(fā)展;

⑧ 向著綠色環(huán)?;较虬l(fā)展。

三、電子微組裝可靠性要求

電子微組裝可靠性要求,體現(xiàn)在兩個(gè)層面。首先是微組裝產(chǎn)品的可靠性要求,其次是產(chǎn)品微組裝互連結(jié)構(gòu)的可靠性要求,產(chǎn)品的可靠性要求決定了微組裝互連結(jié)構(gòu)的可靠性要求,雖然產(chǎn)品可靠性與使用環(huán)境密切相關(guān),但最終決定產(chǎn)品可靠性的應(yīng)力因素是產(chǎn)品微組裝物理結(jié)構(gòu)的實(shí)際載荷應(yīng)力。

標(biāo)準(zhǔn)對(duì)可靠性的定義:產(chǎn)品在規(guī)定的條件下和規(guī)定的時(shí)間內(nèi)完成規(guī)定功能的能力??梢灾?,對(duì)某類產(chǎn)品而言,其可靠性所描述的“能力”與使用環(huán)境應(yīng)力和工作時(shí)間有關(guān),而這種“能力”可以用可靠度、失效概率、失效密度、失效率、平均壽命、特征壽命等可靠性特征量來(lái)度量,如果用可靠度來(lái)度量產(chǎn)品的可靠性,則產(chǎn)品的可靠度(R)是使用環(huán)境應(yīng)力F和時(shí)間t的函數(shù),即



式中,ψ為產(chǎn)品可靠度R與環(huán)境應(yīng)力F和時(shí)間t的函數(shù)關(guān)系,T為產(chǎn)品壽命。

現(xiàn)實(shí)中的使用環(huán)境,應(yīng)力F有各種類型,如:溫度應(yīng)力F1(恒定溫度T,溫度變化ΔT,溫度梯度?T,溫度變化率?T/?t,…),機(jī)械應(yīng)力F2(振動(dòng)應(yīng)力FV,機(jī)沖應(yīng)力FS,恒加應(yīng)力Fa,…),潮濕應(yīng)力F3(%RH,…),電磁應(yīng)力F4(電場(chǎng)E,磁場(chǎng)H,靜電損傷ESD,…),鹽霧F5(SF,…),輻射應(yīng)力F6(總劑量Cy,中子注入量Cn,…),低氣壓F7(PV,…)等,如果把產(chǎn)品電負(fù)荷(電流I,電壓V,功耗P,頻率f,負(fù)載R/RL/RC,…)作為電載應(yīng)力F8,產(chǎn)品工作時(shí)間(持續(xù)時(shí)間t,開(kāi)關(guān)/循環(huán)/沖擊次數(shù)N,…)是必然存在的時(shí)間應(yīng)力,則產(chǎn)品可靠度就是這些環(huán)境應(yīng)力、電載應(yīng)力和時(shí)間應(yīng)力的函數(shù),根據(jù)式(1-1),將產(chǎn)品可靠度R與外部環(huán)境應(yīng)力F之間的關(guān)系寫(xiě)為


如果分別考慮某類應(yīng)力或多類應(yīng)力耦合對(duì)產(chǎn)品可靠性的影響,則根據(jù)式(1-2),產(chǎn)品可靠度R與各種環(huán)境應(yīng)力F和時(shí)間t的函數(shù)關(guān)系可表示為


式中,φ1、φ2、…、φ8和ψ,分別是產(chǎn)品可靠度R與環(huán)境的溫度應(yīng)力F1、機(jī)械應(yīng)力F2、潮濕應(yīng)力F3、電磁場(chǎng)/靜電應(yīng)力F4、鹽霧應(yīng)力F5、輻照應(yīng)力F6、低氣壓應(yīng)力F7、電載應(yīng)力F8和多應(yīng)力耦合(F1∩…∩F8)的函數(shù)關(guān)系。

所以,產(chǎn)品的可靠性是環(huán)境應(yīng)力的函數(shù),不同環(huán)境應(yīng)力下的產(chǎn)品可靠性不盡相同,可以通過(guò)可靠性試驗(yàn)和各類環(huán)境試驗(yàn),考核產(chǎn)品的可靠性與環(huán)境適應(yīng)性,綜合環(huán)境試驗(yàn)可以考核產(chǎn)品在多環(huán)境應(yīng)力耦合下的環(huán)境適應(yīng)性,加速壽命、加速退化等加速應(yīng)力試驗(yàn)是快速建立式(1-3)中可靠性函數(shù)關(guān)系的有效手段。

2.微組裝產(chǎn)品可靠性要求

電子微組裝互連包括芯片級(jí)互連、1級(jí)封裝和2級(jí)封裝,從相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和組裝結(jié)構(gòu)定義來(lái)區(qū)分,其涉及的產(chǎn)品有分立電子元器件(DEC)、混合集成電路(HIC)、多芯片組件(MCM)、微波組件(MS)、光電組件(Opto-Electronic Assembly, OEA)、微電路模塊(Microcircuit Modules, MM)、系統(tǒng)級(jí)封裝產(chǎn)品和真空電子器件(VED)等。

相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了可靠性基本要求和環(huán)境適應(yīng)性要求(含用戶規(guī)定),包括以失效率和壽命為指標(biāo)的可靠性基本要求,以溫度、機(jī)械、濕熱、鹽霧、電磁、輻照、低氣壓等標(biāo)準(zhǔn)環(huán)境應(yīng)力為指標(biāo)的環(huán)境適應(yīng)性要求。前者描述產(chǎn)品在規(guī)定應(yīng)力(通常降額)條件下長(zhǎng)期工作仍能實(shí)現(xiàn)規(guī)定功能的能力要求,后者描述產(chǎn)品在規(guī)定應(yīng)力(極限或額定)條件下短時(shí)間工作(或非工作)仍能實(shí)現(xiàn)規(guī)定功能的能力要求。顯然,可靠性基本要求和環(huán)境適應(yīng)性要求分別描述了產(chǎn)品質(zhì)量的“耐力”和“強(qiáng)度”,可靠性基本要求強(qiáng)調(diào)的是較低應(yīng)力水平和長(zhǎng)時(shí)間工作,環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)調(diào)的是較高應(yīng)力水平和短時(shí)間工作。

1)可靠性基本要求

表3列出了與失效率和壽命相關(guān)的6項(xiàng)可靠性基本要求,這些基本要求由元器件、組件和模塊的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)或用戶來(lái)規(guī)定。評(píng)價(jià)產(chǎn)品是否達(dá)到這些基本可靠性要求的標(biāo)準(zhǔn)為GB 1772—79《電子元器件失效率試驗(yàn)方法》、GJB 128A—97《半導(dǎo)體分立器件試驗(yàn)方法》、GJB 360B—2009《電子及電氣元件試驗(yàn)方法》、GJB 548B—2005《微電子器件試驗(yàn)方法和程序》、GJB 616A—2001《電子管試驗(yàn)方法》、GJB 899A—2009《可靠性鑒定和驗(yàn)收試驗(yàn)》和GB 2689.1~2689.4—81《壽命試驗(yàn)和加速壽命試驗(yàn)方法》。

表3 電子元器件、組件和模塊產(chǎn)品的可靠性基本要求(標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范)



注:1)參照GJB 33A—97《半導(dǎo)體分立器件總規(guī)范》,1a)表5C組周期檢驗(yàn);

2)參照各類電子元件總規(guī)范,如:GJB 63B—2001《有可靠性指標(biāo)的固體電解質(zhì)鉭電容器總規(guī)范》,4.7.19壽命;GJB 601A—98《熱敏電阻器總規(guī)范》;

3)參照GJB 597B—2012《半導(dǎo)體集成電路通用規(guī)范》,3a)表B.4 C組檢驗(yàn);

4)參照GJB 2438A—2002《混合集成電路通用規(guī)范》,4a)表C.14 C組檢驗(yàn);

5)參照SJ 20527A—2003《微波組件通用規(guī)范》,5a)和5b)表3 C組檢驗(yàn);

6)參照SJ 20786—2000《半導(dǎo)體光電組件總規(guī)范》,6a)表6 C組檢驗(yàn);

7)參照SJ 20668—1998《微電路模塊總規(guī)范》,7a)表2 鑒定試驗(yàn);

8)根據(jù)產(chǎn)品功能類別選用相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),通常情況下,若SiP/SoP產(chǎn)品為氣密封裝,則參照GJB 2438A標(biāo)準(zhǔn)要求;若產(chǎn)品為灌封等非氣密封裝,則參照SJ 20668標(biāo)準(zhǔn)要求;

9)參照GJB 3312A—2011《微波電子管通用規(guī)范》,9a)和9b)表2 檢驗(yàn)項(xiàng)目表,9c)4.9 保證使用壽命,9d)3.6.9 儲(chǔ)存壽命。

(1)失效率(λ)要求。

失效率(λ)是指工作到時(shí)刻t時(shí)尚未失效的產(chǎn)品在單位時(shí)間內(nèi)失效的概率,失效率要求規(guī)定了產(chǎn)品在有效工作壽命期內(nèi)允許發(fā)生隨機(jī)失效的概率上限。可以用失效率等級(jí)、失效率預(yù)計(jì)值或失效率計(jì)算值、規(guī)定條件下穩(wěn)態(tài)壽命或間歇壽命的期望來(lái)表征元器件及其組件的失效率要求。

失效率等級(jí),是針對(duì)元器件失效率高低劃分的等級(jí)。根據(jù)GB1772—79《電子元器件失效率試驗(yàn)方法》中的定義,元器件失效率等級(jí)共分為七級(jí),由低至高依次為:亞五級(jí),五級(jí),…,十級(jí),失效率單位為1/小時(shí)或1/10次,可以通過(guò)該標(biāo)準(zhǔn)的試驗(yàn)方法,對(duì)壽命符合指數(shù)分布的元器件產(chǎn)品進(jìn)行失效率定級(jí)、等級(jí)維持和升級(jí)。

失效率預(yù)計(jì),是指利用以往累積的現(xiàn)場(chǎng)使用失效數(shù)據(jù),對(duì)壽命符合指數(shù)分布的元器件,預(yù)計(jì)其工作狀態(tài)下的失效率。根據(jù)GJB/Z299C—2006《電子設(shè)備可靠性預(yù)計(jì)手冊(cè)》,采用元器件應(yīng)力分析可靠性預(yù)計(jì)法,對(duì)國(guó)產(chǎn)元器件的基本失效率或工作失效率進(jìn)行預(yù)計(jì),進(jìn)口元器件則采用相關(guān)的預(yù)計(jì)手冊(cè)。

失效率計(jì)算,是利用加速應(yīng)力試驗(yàn)的失效數(shù)據(jù),對(duì)壽命符合指數(shù)分布的半導(dǎo)體器件,計(jì)算器件FIT級(jí)失效率。根據(jù)JESD 85(2001),對(duì)半導(dǎo)體器件在單一失效機(jī)理、多失效機(jī)理狀態(tài)下的失效率進(jìn)行計(jì)算。

穩(wěn)態(tài)壽命或間歇壽命,是指利用產(chǎn)品在1000小時(shí)或規(guī)定開(kāi)關(guān)次數(shù)內(nèi)、在最高允許殼溫或環(huán)境溫度下的額定功率試驗(yàn)數(shù)據(jù)。針對(duì)壽命符合指數(shù)分布的分立器件、HIC、MCM、微波組件、微電路模塊、SiP/SoP等,測(cè)定某批次產(chǎn)品可靠性是否符合規(guī)定條件下的失效率(λ)要求,或者說(shuō)測(cè)定某批次產(chǎn)品是否已處于失效率浴盆曲線的有效工作壽命期,而不具有早期失效的特征。根據(jù)GJB 33A—97《半導(dǎo)體分立器件總規(guī)范》、GJB 597B—2012《半導(dǎo)體集成電路通用規(guī)范》、GJB 2438A—2002《混合集成電路通用規(guī)范》、SJ 20527A—2003《微波組件通用規(guī)范》、SJ 20668—1998《微電路模塊總規(guī)范》和GJB 922—90《電子管總規(guī)范》,開(kāi)展規(guī)定條件下的穩(wěn)態(tài)壽命、間歇壽命等試驗(yàn)。

(2)壽命要求。壽命是指產(chǎn)品在規(guī)定條件下,從開(kāi)始使用到必須大修或報(bào)廢的壽命單位數(shù)(工作時(shí)間、循環(huán)次數(shù))。對(duì)元器件及其組件產(chǎn)品而言,壽命要求則是規(guī)定了產(chǎn)品在有效工作壽命期或儲(chǔ)存期至少應(yīng)達(dá)到的壽命,可以用平均壽命(MTTF或MTBF)、工作壽命和儲(chǔ)存壽命的期望來(lái)表征元器件及其組件的壽命要求。

平均壽命,是指產(chǎn)品壽命這一隨機(jī)變量的平均值,標(biāo)志著一批產(chǎn)品平均能工作多長(zhǎng)時(shí)間的量,對(duì)于不可修復(fù)的元器件而言,元器件平均壽命是失效前的平均時(shí)間,即平均失效前時(shí)間MTTF(Mean Time to Failure);對(duì)于可修復(fù)的微波組件、光電組件、真空電子器件產(chǎn)品而言,其平均壽命是平均失效間隔時(shí)間,記為MTBF(Mean Time Between Failure)。當(dāng)元器件或組件產(chǎn)品壽命符合指數(shù)分布時(shí),MTTF/MTBF表示可靠度R=0.368時(shí)的壽命,這時(shí)可以通過(guò)MTTF或MTBF獲取其失效率,λ=1/MTTF或1/MTBF。根據(jù)GJB 899A—2009《可靠性鑒定和驗(yàn)收試驗(yàn)》,可以對(duì)微波組件、光電組件、真空電子器件進(jìn)行試驗(yàn)獲得MTBF。

工作壽命,在這里是指元器件和組件連續(xù)工作或發(fā)生性能退化而不再滿足要求時(shí)的耗損壽命,是一種表征產(chǎn)品退化特性的壽命參數(shù),與失效率浴盆曲線的有效工作壽命區(qū)(隨機(jī)失效階段)的寬度對(duì)應(yīng)。元器件和組件的耗損壽命應(yīng)大于配套整機(jī)的連續(xù)工作壽命,無(wú)論元器件和組件是穩(wěn)態(tài)工作還是間歇(開(kāi)關(guān))工作,整機(jī)中最短耗損壽命(短板壽命)的元器件決定了整機(jī)的工作壽命。根據(jù)GB 2689.1~2689.4—81、JEP 122G(2011),可以對(duì)元器件和組件開(kāi)展加速壽命試驗(yàn)和評(píng)估,獲取耗損壽命參數(shù)。

儲(chǔ)存壽命,是指產(chǎn)品在規(guī)定儲(chǔ)存條件下能夠滿足規(guī)定要求的儲(chǔ)存期限。元器件和組件的儲(chǔ)存壽命應(yīng)大于配套整機(jī)的儲(chǔ)存壽命,目前行業(yè)對(duì)元器件和組件儲(chǔ)存壽命的指標(biāo)要求有5年、8年、13年和15年。根據(jù)GB 2689.1~2689.4—81和JEP 122G(2011),結(jié)合儲(chǔ)存環(huán)境的溫度、濕度及運(yùn)輸應(yīng)力條件,可以對(duì)元器件和組件開(kāi)展儲(chǔ)存加速壽命試驗(yàn)和評(píng)估,獲取儲(chǔ)存壽命。儲(chǔ)存期間元器件非工作狀態(tài)的失效率預(yù)計(jì),可以按照GJB/Z 108—98《電子設(shè)備非工作狀態(tài)可靠性預(yù)計(jì)手冊(cè)》進(jìn)行。

2)溫度、機(jī)械環(huán)境適應(yīng)性要求

表4給出了與溫度、機(jī)械相關(guān)的6類環(huán)境適應(yīng)性要求,這些要求來(lái)自電子元器件、組件和模塊產(chǎn)品通用規(guī)范的相關(guān)環(huán)境適應(yīng)性考核要求。評(píng)價(jià)產(chǎn)品是否達(dá)到規(guī)定的適應(yīng)性要求的試驗(yàn)方法,除前面列出的標(biāo)準(zhǔn)GJB 128A—97、GJB 360B、GJB 548B、GJB 616A外,還有標(biāo)準(zhǔn)GJB 150A—2009《軍用裝備實(shí)驗(yàn)室環(huán)境試驗(yàn)方法》、GB/T 2423《電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 方法系列》、GB/T 2424《電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 導(dǎo)則系列》。

表4 電子元器件、組件和模塊環(huán)境適應(yīng)性要求——溫度/機(jī)械(標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范)


注:1)參照GJB 33A—97《半導(dǎo)體分立器件總規(guī)范》。1a)表3“A組檢驗(yàn)”;1b)表7“E組檢驗(yàn)”;表4b“B組檢驗(yàn)”;1c)、1d)和1e)表5“C組檢驗(yàn)”;1f)表4b“B組檢驗(yàn)”。

2)參照各類電子元件總規(guī)范,如:GJB 63B—2001《有可靠性指標(biāo)的固體電解質(zhì)鉭電容器總規(guī)范》、GJB 601A—98《熱敏電阻器總規(guī)范》等。2a)GJB 63B—2001表11“穩(wěn)定性試驗(yàn)溫度”;2b)GJB 63B—2001 4.7.13.1 溫度沖擊;2c)GJB 63B—2001 4.7.11 高頻振動(dòng);2d)GJB 63B 4.7.10 沖擊(規(guī)定脈沖);

3)參照GJB 597B—2012《半導(dǎo)體集成電路通用規(guī)范》。3a)表B.2“A組電測(cè)試”;3b)、3c)、3d)、3e)和3f)表B.5“D組檢驗(yàn)”。

4)參照GJB 2438A—2002《混合集成電路通用規(guī)范》。4a)表C.11“A組檢驗(yàn)”;4b)、4c)、4e)和4f)表C.14“C組檢驗(yàn)”;4d)需要時(shí)根據(jù)用戶需求規(guī)定。

5)參照SJ 20527A—2003《微波組件通用規(guī)范》。5a)表2“A組檢驗(yàn)”;5b)表3“C組檢驗(yàn)”;5c)和5d)表3“C組檢驗(yàn)”。

6)參照SJ 20786—2000《半導(dǎo)體光電組件總規(guī)范》。6a)表1、表4和表5;6b)、6c)和6d)表6“C組檢驗(yàn)”。

7)參照SJ 20668—1998《微電路模塊總規(guī)范》。7a)表2“鑒定檢驗(yàn)”;7c)、7d)和7e)表4“C組試驗(yàn)”。

8)根據(jù)產(chǎn)品類別,選用相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)要求,通常情況下,若SiP/SoP產(chǎn)品為氣密封裝,則參照GJB 2438A標(biāo)準(zhǔn)要求;若產(chǎn)品為灌封等非氣密封裝,則參照SJ 20668或SJ 20527A標(biāo)準(zhǔn)要求。

9)參照GJB 3312A—2011《微波電子管通用規(guī)范》。9a)表2“檢驗(yàn)項(xiàng)目表 高溫工作、低溫工作”;9b)、9d)和9e)表2“檢驗(yàn)項(xiàng)目表 溫度循環(huán)、振動(dòng)、機(jī)械沖擊”;9c)參照產(chǎn)品詳細(xì)規(guī)范要求。

(1)溫度環(huán)境適應(yīng)性要求。溫度環(huán)境適應(yīng)性是指產(chǎn)品在其壽命期預(yù)計(jì)可能遇到的各種溫度環(huán)境下進(jìn)行工作或儲(chǔ)存,仍能實(shí)現(xiàn)預(yù)定功能、性能且不被破壞的能力,溫度環(huán)境適應(yīng)性要求則規(guī)定了產(chǎn)品應(yīng)能耐受的溫度應(yīng)力水平。可以用高溫/低溫環(huán)境適應(yīng)性、溫度循環(huán)適應(yīng)性、溫度沖擊適應(yīng)性的期望來(lái)表征元器件及其組件的溫度環(huán)境適應(yīng)性要求。

高溫/低溫環(huán)境適應(yīng)性,是指產(chǎn)品在最高、最低額定外殼溫度或環(huán)境溫度條件下工作,能夠滿足規(guī)定功能和性能的適應(yīng)能力。極端高溫/低溫會(huì)使元器件和組件產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)和物理性能發(fā)生很大變化,導(dǎo)致產(chǎn)品損傷或發(fā)生性能變化,如:高溫使有機(jī)材料快速老化、半導(dǎo)體器件PN結(jié)漏電流增加、絕緣材料性能下降,低溫使有機(jī)材料喪失彈性或破裂、金屬和塑料脆性開(kāi)裂、氣密封裝器件內(nèi)部水汽凝露發(fā)生參數(shù)超差或短路等。采用高溫/低溫試驗(yàn),可以對(duì)元器件及其組件的高溫/低溫環(huán)境適應(yīng)性進(jìn)行考核,其最高溫度和最低溫度以產(chǎn)品詳細(xì)規(guī)范中“工作條件-溫度范圍”規(guī)定的最低殼/環(huán)溫度和最高殼/環(huán)溫度為依據(jù)。

溫度循環(huán)適應(yīng)性,是指產(chǎn)品在極端高溫和極端低溫,以及極端高溫與極端低溫緩慢交替變化(ΔT/min≤20℃)條件下工作,能夠滿足規(guī)定功能和性能的適應(yīng)能力。高溫、低溫及高低溫緩慢交替變化應(yīng)力的持續(xù)施加,會(huì)使元器件和組件產(chǎn)品材料界面的韌性材料發(fā)生疲勞和蠕變,導(dǎo)致局部導(dǎo)電性能和機(jī)械強(qiáng)度下降,如:使元器件焊點(diǎn)材料熱疲勞導(dǎo)致開(kāi)裂、使塑封器件水汽沿引腳框架滲入導(dǎo)致芯片腐蝕、使氣密封裝器件內(nèi)部水汽凝結(jié)并蒸發(fā)導(dǎo)致芯片腐蝕加速等。采用溫度循環(huán)試驗(yàn),可以對(duì)元器件及其組件的溫度循環(huán)適應(yīng)性進(jìn)行考核,其溫循應(yīng)力水平以標(biāo)準(zhǔn)或產(chǎn)品詳細(xì)規(guī)范要求為準(zhǔn)。

溫度沖擊適應(yīng)性,是指產(chǎn)品經(jīng)歷溫度劇變(ΔT/min≥20℃)后仍能保持結(jié)構(gòu)完整性的能力。溫度劇烈變化,會(huì)使元器件和組件內(nèi)部在材料界面迅速形成強(qiáng)烈應(yīng)力響應(yīng),可能導(dǎo)致產(chǎn)品快速產(chǎn)生裂紋和結(jié)構(gòu)損傷,如:使硬焊料燒結(jié)的芯片破裂、使密封器件玻璃絕緣子開(kāi)裂水汽滲入、使元件涂敷層脫落等。采用溫度沖擊試驗(yàn),可以對(duì)元器件及其組件的溫度沖擊適應(yīng)性進(jìn)行考核,試驗(yàn)應(yīng)力水平參考相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。

(2)機(jī)械環(huán)境適應(yīng)性要求。機(jī)械環(huán)境適應(yīng)性是指產(chǎn)品在其壽命期預(yù)計(jì)可能遇到的多種機(jī)械環(huán)境的作用下,仍能實(shí)現(xiàn)預(yù)定功能、性能且不被破壞的能力,機(jī)械環(huán)境適應(yīng)性要求規(guī)定了產(chǎn)品應(yīng)能適應(yīng)的機(jī)械應(yīng)力水平??梢杂脵C(jī)械振動(dòng)適應(yīng)性、機(jī)械沖擊適應(yīng)性、恒定加速度(或穩(wěn)態(tài)加速度)適應(yīng)性的期望來(lái)表征元器件及其組件的機(jī)械環(huán)境適應(yīng)性要求。

機(jī)械振動(dòng)適應(yīng)性,是指產(chǎn)品在經(jīng)歷機(jī)械振動(dòng)后或在機(jī)械振動(dòng)條件下工作,仍能保持結(jié)構(gòu)完整或滿足規(guī)定功能和性能的能力。機(jī)械振動(dòng)會(huì)使產(chǎn)品結(jié)構(gòu)產(chǎn)生裂紋損傷或振動(dòng)疲勞破壞,如:繼電器觸點(diǎn)接觸不良、PCB板上元器件引腳焊點(diǎn)振動(dòng)疲勞脫開(kāi)、氣密性封裝組件蓋板焊縫開(kāi)裂等。為模擬地面固定裝置、船舶航行等引起的正弦振動(dòng),模擬火箭發(fā)射、噴氣發(fā)動(dòng)機(jī)和車輛行駛等引起的隨機(jī)振動(dòng),標(biāo)準(zhǔn)給出了掃頻振動(dòng)和振動(dòng)疲勞試驗(yàn)(10~2000Hz掃頻或定頻的正弦振動(dòng)激勵(lì))以及隨機(jī)振動(dòng)試驗(yàn)(10~2000Hz同時(shí)在所有頻率上進(jìn)行激勵(lì)),考核產(chǎn)品抗振能力和振動(dòng)疲勞壽命。

機(jī)械沖擊適應(yīng)性,是指產(chǎn)品在經(jīng)歷機(jī)械沖擊后,仍能保持結(jié)構(gòu)完整的能力。機(jī)械沖擊產(chǎn)生于產(chǎn)品裝卸、車輛緊急制動(dòng)和碰撞等過(guò)程,由于產(chǎn)品突然受力或運(yùn)動(dòng)狀態(tài)發(fā)生突然變化,使元器件和組件產(chǎn)品結(jié)構(gòu)瞬間變形并產(chǎn)生瞬態(tài)沖擊響應(yīng),可能導(dǎo)致產(chǎn)品結(jié)構(gòu)破損,如:氣密封裝蓋板塌陷導(dǎo)致內(nèi)引線變形損傷、HIC電路陶瓷基板開(kāi)裂、高密度陶封電路內(nèi)引線觸碰短路等。采用機(jī)械沖擊試驗(yàn),可以對(duì)元器件及其組件的機(jī)械沖擊適應(yīng)性進(jìn)行考核。

恒定加速度(或穩(wěn)態(tài)加速度)適應(yīng)性,是指產(chǎn)品在經(jīng)歷某種恒定加速度作用后,仍能保持結(jié)構(gòu)完整的能力。恒定加速度產(chǎn)生于車輛、飛機(jī)和導(dǎo)彈的加速、減速、轉(zhuǎn)彎等過(guò)程,由于產(chǎn)品不斷受到恒定加速度的作用,使元器件或組件內(nèi)部組裝結(jié)構(gòu)持續(xù)受到與加速度方向相反的應(yīng)力作用,可能導(dǎo)致產(chǎn)品外殼、引線、封接等處損傷,導(dǎo)致電性能變壞,如:加速度過(guò)載使MEMS器件微硅質(zhì)量塊系統(tǒng)發(fā)生不可恢復(fù)的形變、電感或電容器量值變化、繼電器誤動(dòng)作、組件內(nèi)部表面貼裝元件脫落等。一般采用離心方式的恒定加速度試驗(yàn),對(duì)元器件和集成電路封裝結(jié)構(gòu)、模塊電路組裝結(jié)構(gòu)的恒定加速度適應(yīng)性進(jìn)行考核。

3)濕熱、鹽霧、電磁、輻射、低氣壓環(huán)境適應(yīng)性要求

表5列出了與濕熱、鹽霧、電磁、輻射、低氣壓5類環(huán)境的適應(yīng)性要求,這些要求來(lái)自電子元器件、組件和模塊產(chǎn)品通用規(guī)范的相關(guān)環(huán)境適應(yīng)性考核要求,評(píng)價(jià)其是否達(dá)到規(guī)定的適應(yīng)性要求的試驗(yàn)方法,除前面列出的標(biāo)準(zhǔn)GJB 128A—97、GJB 360B、GJB 548B、GJB 616A、GJB 150A、GB/T 2423和GB/T 2424外還依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)GB/T 10125—2012《人造氣氛腐蝕試驗(yàn) 鹽霧試驗(yàn)》等。

表5 電子元器件、組件和模塊環(huán)境適應(yīng)性要求——濕熱/鹽霧/電磁/輻照/低氣壓(標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范)


注:1)參照GJB 33A—97《半導(dǎo)體分立器件總規(guī)范》。1a)表5“C組檢驗(yàn) 耐濕”;1b)表5“C組檢驗(yàn) 鹽霧”;1c)“4.5.2.1 ESD等級(jí)鑒定”;1d)表1b“輻射強(qiáng)度保證等級(jí)和要求”;1e)表7“E組檢驗(yàn)(僅對(duì)>200V器件)”。

2)參照各類電子元件總規(guī)范。如:GJB 63B—2001《有可靠性指標(biāo)的固體電解質(zhì)鉭電容器總規(guī)范》,2a)表4“C組檢驗(yàn) 耐濕”;2b)表4“C組檢驗(yàn) 鹽霧”。GJB 601A—98《熱敏電阻器總規(guī)范》。

3)參照GJB 597B—2012《半導(dǎo)體集成電路通用規(guī)范》。3a)表B.5“D組檢驗(yàn) 耐濕”;3b)表B.5“D組檢驗(yàn) 鹽霧”;3c)檢測(cè)方法:IEC 61967,Ed.2∶Integrated circuits-Measurement of electromagnetic emissions-Part 3∶ Measurement of radiated emissions-Surface scan method.2013;3d)3.4.2.4 ESDS等級(jí)鑒定;3e)表2“RHA等級(jí)”。

4)參照GJB 2438A—2002《混合集成電路通用規(guī)范》。4a)表C.15“與封裝有關(guān)的D組檢驗(yàn) 耐濕”;4b)表C.15“與封裝有關(guān)的D組檢驗(yàn) 鹽霧”;4c)3.8.5.7.3 ESDS識(shí)別標(biāo)志;4d)表E.1“RHA等級(jí)”;4e)GJB1027A—2005《運(yùn)載器、上面級(jí)和航天器試驗(yàn)要求》6.4.4組件鑒定熱真空試驗(yàn)。

5)參照SJ 20527A—2003《微波組件通用規(guī)范》。5a)表3“C組檢驗(yàn) 穩(wěn)態(tài)濕熱”;5b)表3“C組檢驗(yàn) 鹽霧”;5c)3.810.8.2 靜電敏感標(biāo)志;5d)6.1 預(yù)定用途 特殊要求在詳細(xì)規(guī)范中規(guī)定;5e)表3“C組檢驗(yàn)低氣壓”。

6)參照SJ 20786—2000《半導(dǎo)體光電組件總規(guī)范》。6a)表6“C組檢驗(yàn) 穩(wěn)態(tài)濕熱”;6b)表6“C組檢驗(yàn)鹽霧”;6c)表6“C組檢驗(yàn) 電磁兼容試驗(yàn)”;6d)表6“C組檢驗(yàn) 靜電放電敏感度試驗(yàn)”。

7)參照SJ 20668—1998《微電路模塊總規(guī)范》。7a)表2“鑒定檢驗(yàn) 穩(wěn)態(tài)濕熱”;7b)表2“鑒定檢驗(yàn) 鹽霧”。

8)根據(jù)產(chǎn)品類別,選用相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)要求,通常情況下,若SiP/SoP產(chǎn)品為氣密性封裝,則參照GJB 2438A標(biāo)準(zhǔn)要求;若產(chǎn)品為灌封等非氣密封裝,則參照SJ 20668或SJ 20527A標(biāo)準(zhǔn)要求。

9)參照GJB 3312A—2011《微波電子管通用規(guī)范》。9a)、9b)和9c)表2“檢驗(yàn)項(xiàng)目表 防潮、鹽霧、低氣壓、熱真空”。

(1)濕熱環(huán)境適應(yīng)性要求。濕熱環(huán)境適應(yīng)性是指產(chǎn)品在高濕、高熱環(huán)境下工作或儲(chǔ)存,仍能實(shí)現(xiàn)預(yù)定功能、性能且不被破壞的能力,濕熱環(huán)境適應(yīng)性要求規(guī)定了產(chǎn)品應(yīng)能耐受的濕度/溫度應(yīng)力水平。一般用標(biāo)準(zhǔn)的穩(wěn)態(tài)濕熱試驗(yàn)、耐濕試驗(yàn),分別模擬雨季高溫不通風(fēng)場(chǎng)合(地下室或坑道)的高溫高濕環(huán)境、熱帶和亞熱帶日夜間的循環(huán)高溫高濕環(huán)境,對(duì)元器件及其組件的濕熱環(huán)境適應(yīng)性進(jìn)行考核。

穩(wěn)態(tài)濕熱試驗(yàn),是使產(chǎn)品連續(xù)暴露在高溫高濕(90%~95%RH/40℃)條件下,促使材料吸潮后膨脹,性能變壞,引起絕緣材料性能下降,甚至可能引起金屬材料表面嚴(yán)重腐蝕,引腳斷裂。產(chǎn)品受潮機(jī)理以水汽吸附、吸收和擴(kuò)散為主。

耐濕試驗(yàn),是使產(chǎn)品暴露在高濕和溫度循環(huán)(80%~100%RH/25~65℃)條件下,反復(fù)經(jīng)受高濕和溫度循環(huán)的共同作用,引起材料表面凝露和腐蝕、絕緣材料性能下降,同時(shí)凝露水汽所引起的應(yīng)力將會(huì)造成材料裂縫加寬。產(chǎn)品受潮機(jī)理以表面凝露、蒸發(fā)的“呼吸”過(guò)程為主,而“呼吸”作用會(huì)加速材料的腐蝕。

(2)鹽霧環(huán)境適應(yīng)性要求。鹽霧環(huán)境適應(yīng)性是指產(chǎn)品在含有很多鹽分的大氣環(huán)境下工作或儲(chǔ)存,外部封裝材料仍能保持規(guī)定的電性能、機(jī)械性能和外觀要求的能力,鹽霧環(huán)境適應(yīng)性要求規(guī)定了產(chǎn)品應(yīng)能耐受的鹽霧應(yīng)力水平。一般用標(biāo)準(zhǔn)的鹽霧試驗(yàn),模擬海洋氣候環(huán)境,考核元器件及其組件封裝材料和外引腳材料的鹽霧適應(yīng)性。

鹽霧試驗(yàn),是使產(chǎn)品暴露在鹽霧沉積率為(20~50)g/m2·d的條件下,使產(chǎn)品封裝鍍涂層表面發(fā)生銹蝕,降低元器件及其組件的封裝可靠性。

(3)電磁環(huán)境適應(yīng)性要求。電磁環(huán)境適應(yīng)性包括產(chǎn)品的電磁兼容(EMC)性、電磁干擾(EMI)性以及抗靜電損傷(ESD)能力,電磁環(huán)境適應(yīng)性要求規(guī)定了產(chǎn)品應(yīng)能滿足的電磁發(fā)射、電磁干擾應(yīng)力水平,以及應(yīng)能耐受的靜電放電電壓水平。一般采用IEC 61967或GB/T 17626標(biāo)準(zhǔn)方法對(duì)集成電路、光電組件、微波組件等微組裝產(chǎn)品進(jìn)行EMC和EMI測(cè)試,采用GJB 1649或GB/T 17626標(biāo)準(zhǔn)方法的人體靜電放電模型對(duì)分立器件、集成電路、混合集成電路、微波組件等微組裝產(chǎn)品進(jìn)行抗ESD水平測(cè)試。

(4)輻射環(huán)境適應(yīng)性要求。輻射環(huán)境適應(yīng)性即抗輻射能力,包括:電離輻射(總劑量)、中子輻射,輻射環(huán)境適應(yīng)性要求規(guī)定了產(chǎn)品能抵抗輻射應(yīng)力的水平。空間輻射環(huán)境中的γ射線、X射線、高能電子流、快中子流、α射線和β射線都能引起材料的電離,即發(fā)生電離輻射效應(yīng),在半導(dǎo)體器件中引起瞬時(shí)光電流、寄生漏電流、表面效應(yīng)和化學(xué)效應(yīng),可能導(dǎo)致器件性能退化和失效;空間輻射環(huán)境中的中子、電子和γ射線均能在半導(dǎo)體材料中造成位移損傷,即位移輻射效應(yīng),其中以中子輻射影響最大[40]。一般采用GJB 128A—97標(biāo)準(zhǔn)中的“方法1019穩(wěn)態(tài)總劑量輻照程序”和GJB 548B—2005標(biāo)準(zhǔn)中的“方法1017中子輻射試驗(yàn)程序”“方法1019.2電離輻射(總劑量)試驗(yàn)程序”“方法1020.1劑量率感應(yīng)鎖定試驗(yàn)程序”“方法1021.1數(shù)字微電路的劑量翻轉(zhuǎn)試驗(yàn)”“方法1023.1線性微電離的劑量率響應(yīng)和翻轉(zhuǎn)閾值”,對(duì)微電子器件產(chǎn)品進(jìn)行抗輻射能力檢測(cè)。

(5)低氣壓/真空環(huán)境適應(yīng)性要求。低氣壓/真空環(huán)境適應(yīng)性是指產(chǎn)品在空氣稀薄環(huán)境或真空環(huán)境下工作或儲(chǔ)存,仍能實(shí)現(xiàn)預(yù)定功能、性能的能力。低氣壓/真空環(huán)境適應(yīng)性要求規(guī)定了產(chǎn)品所能適應(yīng)的低氣壓/真空應(yīng)力水平。一般用標(biāo)準(zhǔn)的低氣壓試驗(yàn)和熱真空試驗(yàn),分別模擬高原和高山地帶的對(duì)流層環(huán)境和航天器在空間的真空環(huán)境,對(duì)元器件及其組件的低氣壓/真空環(huán)境適應(yīng)性進(jìn)行考核。

低氣壓試驗(yàn),是使產(chǎn)品暴露在低氣壓((0.15~0.32)×10-6kPa)條件下,使得產(chǎn)品通過(guò)空氣對(duì)流換熱的效率降低,導(dǎo)致升溫;使氣密封裝產(chǎn)品產(chǎn)生由內(nèi)部指向外部的壓力,發(fā)生封裝結(jié)構(gòu)變形和泄漏;使產(chǎn)品的空氣絕緣性能下降,產(chǎn)生局部火花或微放電問(wèn)題。一般用GJB 360B標(biāo)準(zhǔn)“方法105低氣壓試驗(yàn)”和GJB 616A標(biāo)準(zhǔn)“方法1002A低氣壓試驗(yàn)”,對(duì)電子電氣元件、微波組件和微波真空器件的低氣壓環(huán)境適應(yīng)性進(jìn)行檢測(cè)。

熱真空試驗(yàn),是使航天用電子組件產(chǎn)品處于真空(6.65×10-3Pa)和熱循環(huán)(-35~70℃)條件,使得產(chǎn)品散熱能力急劇下降,導(dǎo)致產(chǎn)品內(nèi)部溫度大幅上升;同時(shí)伴隨溫度循環(huán)過(guò)程,使得產(chǎn)品在不同材料界面處產(chǎn)生熱失配,特別是氣密封裝產(chǎn)品外引腳的玻璃絕緣子,易因此發(fā)生破裂。一般用GJB 1027A標(biāo)準(zhǔn)“6.4.4飛行器鑒定熱真空試驗(yàn)”或GJB 3758標(biāo)準(zhǔn)“5.1外熱流模擬”“5.2溫度模擬”,對(duì)航天用電子組件產(chǎn)品的熱真空適應(yīng)性進(jìn)行檢測(cè)。

3.微組裝可靠性與載荷應(yīng)力的關(guān)系

由圖1可知,電子微組裝包括芯片級(jí)互連、1級(jí)封裝和2級(jí)封裝,對(duì)于每個(gè)微組裝部位(分別指互連結(jié)構(gòu)、封裝結(jié)構(gòu)和內(nèi)裝元器件)而言,其可靠性與產(chǎn)品中該部位實(shí)際承受的載荷應(yīng)力及載荷時(shí)間有關(guān),如果用可靠度來(lái)度量某個(gè)微組裝部位的可靠性,則該部位的可靠度Ri是其載荷應(yīng)力Fr和載荷時(shí)間t的函數(shù);而載荷應(yīng)力Fr作為產(chǎn)品微組裝部位對(duì)外部環(huán)境應(yīng)力F的真實(shí)響應(yīng),其大小與環(huán)境應(yīng)力F、微組裝結(jié)構(gòu)參數(shù)S、微組裝材料參數(shù)M、內(nèi)裝元器件規(guī)格參數(shù)P有關(guān),則微組裝載荷應(yīng)力Fr是F、S、M、P的函數(shù),Ri是F、S、M、P的函數(shù)。

若產(chǎn)品中有n個(gè)微組裝部位,則第j(j=1~n)個(gè)微組裝部位的可靠度Rj是其局部載荷應(yīng)力Fr,j和載荷時(shí)間tj的函數(shù),即


而第j個(gè)微組裝部位的局部載荷應(yīng)力Fr,j是F、Sj、Mj、Pj的函數(shù),即


則,第j個(gè)微組裝部位的可靠度Rj是F、Sj、Mj、Pj的復(fù)合函數(shù),即



式中,Tj是產(chǎn)品的壽命;Rj(t)是第j個(gè)微組裝的可靠度;Fr,j是第j個(gè)微組裝的直接載荷應(yīng)力(即響應(yīng)應(yīng)力,如半導(dǎo)體器件芯片PN結(jié)溫TJ、內(nèi)引線鍵合諧振頻率fV和模態(tài)振型X-Y/Y-Z/Z-X、芯片焊料溫變載荷ΔT、腔內(nèi)水汽含量X%H2O等);tj是第j個(gè)微組裝載荷應(yīng)力時(shí)間;fj是第j個(gè)微組裝Rj(t)與Fr,j的函數(shù)關(guān)系;F是產(chǎn)品外部環(huán)境應(yīng)力;Sj是第j個(gè)微組裝部位的結(jié)構(gòu)幾何參數(shù);Mj是第j個(gè)微組裝部位的材料參數(shù);Pj是第j個(gè)微組裝部位內(nèi)裝元器件的規(guī)格參數(shù);gj是第j個(gè)微組裝部位的Fr,j與微組裝設(shè)計(jì)參數(shù)F、Sj、Mj、Pj的函數(shù)關(guān)系。

如果建立了微組裝產(chǎn)品的可靠性數(shù)學(xué)模型R(t),如最常用的串聯(lián)模型,可靠度


這里Rj(t)是把產(chǎn)品中每個(gè)互連結(jié)構(gòu)、封裝結(jié)構(gòu)和內(nèi)裝元器件分別視為一個(gè)獨(dú)立微組裝單元,共計(jì)n個(gè)獨(dú)立微組裝單元,則微組裝產(chǎn)品的可靠度R(t)可以表示為


實(shí)際上,環(huán)境應(yīng)力F對(duì)微組裝可靠性的影響與局部載荷應(yīng)力Fr,j的類別及應(yīng)力大小相關(guān),如果按應(yīng)力類別考慮局部載荷應(yīng)力,如溫度載荷應(yīng)力Fr1、機(jī)械載荷應(yīng)力Fr2、潮濕載荷應(yīng)力Fr3、…、m類載荷應(yīng)力Frm,以及局部多應(yīng)力耦合載荷應(yīng)力Fr(1∩m),可以更準(zhǔn)確地把握微組裝可靠性設(shè)計(jì)的物理切入點(diǎn)。為清晰表示這些局部載荷應(yīng)力,參照式(1-3),給出影響產(chǎn)品第j個(gè)微組裝可靠性的(m+1)類載荷應(yīng)力矩陣[Fr(i,j)]m+1,j(m類應(yīng)力、1∩m耦合應(yīng)力),即


影響產(chǎn)品n個(gè)微組裝可靠性的載荷應(yīng)力矩陣[Fr(i,j)](m+1)×n為


式中,包含n個(gè)微組裝的產(chǎn)品,有(m+1)×n個(gè)載荷應(yīng)力元素Fri,j(應(yīng)力類別i=1,2,…,m,1∩m;微組裝部位j=1,2,…,n);Fr1,j是第j個(gè)微組裝部位的溫度載荷應(yīng)力,包括恒定溫度T、溫度變化 ΔT、溫度梯度?T、溫度變化率?T/?t等;Fr2,j是第j個(gè)微組裝部位的機(jī)械載荷應(yīng)力,包括諧振頻率fj和振型(X-Y/Y-Z/Z-X)、機(jī)械沖擊力FS、離心力Fa等;Fr3,j是第j個(gè)微組裝部位的潮濕載荷應(yīng)力,包括相對(duì)濕度%RH、水汽壓e、腔內(nèi)水汽含量X%H2O、…;Fr4,j是第j個(gè)微組裝部位的電磁場(chǎng)/靜電載荷應(yīng)力,包括電場(chǎng)E、磁場(chǎng)H、靜電放電ESD等;Fr5,j是第j個(gè)微組裝部位的鹽霧載荷應(yīng)力,包括局部鹽霧沉積率SF、溫度T等;Fr6,j是第j個(gè)微組裝部位的輻射載荷應(yīng)力,包括封裝內(nèi)局部電離輻射(總劑量)Cy、中子輻射Cn等;Fr7,j是第j個(gè)微組裝部位的低氣壓載荷應(yīng)力,包括局部低氣壓或真空度PV等;Fr8,j是第j個(gè)微組裝部位的電載荷應(yīng)力,包括電流I、電壓V、功耗PD、阻性/感性/容性負(fù)載R/RL/RC等;Frm,j是第j個(gè)微組裝部位的第m類其他載荷應(yīng)力;Fr(1∩m),j是第j個(gè)微組裝部位的多應(yīng)力耦合(1∩2∩…∩m)載荷應(yīng)力,包括不同類應(yīng)力的耦合(如:金屬腐蝕中的“濕度∩溫度”耦合,焊料低周/高周疲勞的“溫循∩振動(dòng)”耦合)和同類應(yīng)力的耦合(如:MCM內(nèi)部多熱源之間的熱耦合)。

所以,元器件、組件和模塊產(chǎn)品的微組裝可靠性是其局部實(shí)際載荷應(yīng)力的函數(shù),而式(1-10)是產(chǎn)品微組裝可靠性設(shè)計(jì)需要考慮與控制的各類載荷應(yīng)力,通過(guò)建立式(1-4)的可靠度Rj(t)與載荷應(yīng)力Fr,j之間的函數(shù)關(guān)系,建立式(1-5)中的載荷應(yīng)力Fr,j與F、Sj、Mj、Pj的函數(shù)關(guān)系,并求解式(1-10)中各類局部載荷應(yīng)力的閾值Sri,j(Fri,j的最大允許值或最小允許值),則可算出針對(duì)載荷應(yīng)力閾值控制的F、Sj、Mj、Pj等關(guān)鍵設(shè)計(jì)參數(shù)。研究表明,微電子產(chǎn)品局部(j=k)單一退化型失效機(jī)理的應(yīng)力閾值,可以在


條件下,基于tj≥ML的要求進(jìn)行計(jì)算(tj是針對(duì)失效機(jī)理模型預(yù)測(cè)的失效時(shí)間,ML是器件要求的工作壽命)。

實(shí)際工程應(yīng)用中,可以參考現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)給出的微電子產(chǎn)品可靠性與載荷應(yīng)力關(guān)系的典型數(shù)學(xué)模型Rj(t)=fj(Fr,j,tj),以及載荷應(yīng)力與產(chǎn)品性能參數(shù)之間的典型數(shù)學(xué)模型Fr,j=gj(F,Sj,Mj,Pj),或者通過(guò)可靠性試驗(yàn)、有限元仿真等手段,建立微組裝載荷應(yīng)力與產(chǎn)品結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系模型,提取每個(gè)部位微組裝載荷應(yīng)力Fri,j以及與Fri,j相關(guān)的環(huán)境應(yīng)力、結(jié)構(gòu)材料及內(nèi)裝元器件規(guī)格參數(shù),獲得滿足可靠性指標(biāo)的設(shè)計(jì)和使用控制參數(shù):F、Sj、Mj、Pj。這種以微組裝載荷應(yīng)力控制的設(shè)計(jì)策略,正是電子微組裝可靠性設(shè)計(jì)的核心思想。

例如,混合集成電路(HIC)失效率控制的設(shè)計(jì),產(chǎn)品失效率按指數(shù)分布考慮,其失效率是溫度的函數(shù),


元器件基本失效率與其工作溫度的函數(shù)關(guān)系,采用GJB 299中的數(shù)學(xué)模型:半導(dǎo)體器件


電阻器


電容器


感性元件


等。根據(jù)以上函數(shù)關(guān)系可以算出滿足失效率指標(biāo)要求的所有內(nèi)裝元器件的工作溫度上限TJ(器件PN結(jié)結(jié)溫或元件熱點(diǎn)溫度),采用熱阻模型TJ=RJ-C·PD+TC,計(jì)算與TJ相關(guān)的設(shè)計(jì)參數(shù)和使用控制參數(shù):熱阻Rj、元器件功耗Pj、殼溫TC,從結(jié)構(gòu)、材料、元器件選擇等方面提出最優(yōu)設(shè)計(jì)方案。如果考慮HIC耗損壽命控制設(shè)計(jì),則采用由Arrhenius模型導(dǎo)出的壽命模型


4.電子微組裝可靠性要求

在產(chǎn)品設(shè)計(jì)階段,電子微組裝可靠性要求是指微組裝可靠性設(shè)計(jì)要求。微組裝可靠性設(shè)計(jì)的目的,是消除影響產(chǎn)品可靠性的主要失效模式并控制性能退化速率,使產(chǎn)品設(shè)計(jì)達(dá)到預(yù)期可靠性與環(huán)境適應(yīng)性要求。

微組裝失效模式和退化機(jī)理,與微組裝的載荷應(yīng)力類別和水平有關(guān)。相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和專著,在對(duì)微組裝失效模式、失效機(jī)理及其數(shù)理模型的研究和應(yīng)用中,重點(diǎn)關(guān)注溫度應(yīng)力、機(jī)械應(yīng)力和潮濕應(yīng)力的影響,如長(zhǎng)期穩(wěn)態(tài)溫度應(yīng)力可導(dǎo)致微電子器件性能退化、長(zhǎng)期溫變應(yīng)力可導(dǎo)致表貼(表面貼裝)焊點(diǎn)低周疲勞開(kāi)裂、振動(dòng)應(yīng)力可導(dǎo)致GBA焊點(diǎn)高周疲勞、水汽滲入可導(dǎo)致內(nèi)裝芯片腐蝕等。

1)溫度載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求

溫度載荷應(yīng)力,包括穩(wěn)態(tài)溫度應(yīng)力和變化溫度應(yīng)力,不同類型的溫度應(yīng)力及應(yīng)力水平,對(duì)電子微組裝帶來(lái)不同的退化機(jī)制和失效機(jī)理。表6為溫度載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求(可靠性設(shè)計(jì)指標(biāo)),表7給出了電子微組裝熱降額設(shè)計(jì)指標(biāo)要求。

表6 溫度載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求(可靠性設(shè)計(jì)指標(biāo))



注:1)表中溫度退化的第j個(gè)失效機(jī)理的耗損壽命模型tj(T)、基于溫變疲勞的第j個(gè)失效機(jī)理的耗損壽命Nj(ΔT)

2)λ是微組裝組件失效率指標(biāo),t是微組裝組件耗損壽命指標(biāo);

3)降額等級(jí)控制,具體要求見(jiàn)GJB/Z 35—93《元器件降額準(zhǔn)則》“附錄G元器件降額準(zhǔn)則一覽表”;4)依據(jù)元器件產(chǎn)品詳細(xì)規(guī)范或數(shù)據(jù)手冊(cè);

5)參考JEP 149(2004)Application Thermal Derating Methodologies;

6)參考IPC-SM-785(1992)Guidelines for Accelaerated Reliability Testing of Surface Mount Solder Attachments,Nj(ΔT)為熱疲勞壽命,Δα為CET差異、ε′f為疲勞韌性系數(shù)、h為焊料厚度。

表7 電子微組裝熱降額設(shè)計(jì)指標(biāo)要求


2)機(jī)械載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求

機(jī)械載荷應(yīng)力,包括:機(jī)械振動(dòng)、機(jī)械沖擊、恒定加速度,不同類型的機(jī)械應(yīng)力及應(yīng)力水平,對(duì)電子微組裝帶來(lái)不同的退化機(jī)制和失效機(jī)理。表1-8為機(jī)械載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求(可靠性設(shè)計(jì)指標(biāo))。

表8 機(jī)械載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求(可靠性設(shè)計(jì)指標(biāo))


注:1)表中振動(dòng)疲勞壽命模型Nj(fV)

2)Nj(fV)為振動(dòng)導(dǎo)致的第j個(gè)微組裝結(jié)構(gòu)高周疲勞;

3)Pj為第j個(gè)微組裝結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,F(xiàn)j為第j個(gè)微組裝結(jié)構(gòu)承受的機(jī)械沖擊力或離心力。

3)潮濕載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求

潮濕載荷應(yīng)力,一般通過(guò)與其他應(yīng)力耦合產(chǎn)生作用,從可靠性設(shè)計(jì)的角度,潮濕載荷應(yīng)力包括:濕度、濕度-溫度、濕度-溫度-偏壓,不同類型的潮濕應(yīng)力及應(yīng)力水平,會(huì)給電子微組裝帶來(lái)不同的退化機(jī)制和失效機(jī)理。表9所示為潮濕載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求(可靠性設(shè)計(jì)指標(biāo))。

表9 潮濕載荷應(yīng)力下電子微組裝可靠性要求(可靠性設(shè)計(jì)指標(biāo))


注:1)表中露點(diǎn)溫度模型Td(X)、水汽腐蝕壽命模型tc(RH%,T)、水汽滲入時(shí)間模型ti(Pin,Pout)、表面絕緣電阻溫濕度退化模型IR(RH,T)、CAF極限濕度條件模型;

2)參考GJB 548B—2005《微電子器件試驗(yàn)方法和程序》,X%H2O為氣密封裝器件內(nèi)部水汽含量,L為細(xì)檢漏等效表中漏率,Td為露點(diǎn)溫度,Tmin為產(chǎn)品最低工作溫度;

3)參考GB/T 2423.3—2006《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)》第2部分 試驗(yàn)方法 試驗(yàn)Cab:恒定濕熱試驗(yàn);

4)參考JEP 122G(2011)Failure Mechanisms and Models for Semiconductor Devices;

5)參考GJB 548B—2005《微電子器件試驗(yàn)方法和程序》方法1031 薄膜腐蝕試驗(yàn)。


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