功率MOSFET的應(yīng)用問(wèn)題分析20180420
問(wèn)題1:在功率MOSFET的應(yīng)用中主要考慮哪些參數(shù)?在負(fù)載開關(guān)的應(yīng)用中,如?何計(jì)算其導(dǎo)通時(shí)間?PCB的設(shè)計(jì)?,銅箔面積開多大會(huì)比較好?D、S極的銅箔面??積大小是否需要一樣?有公式可以計(jì)算嗎??回復(fù):?MOSFET主要參數(shù)包括BVDSS,RDS(on),Crss,Coss以及VGS(th);同步BUCK變換器的下管、半橋和全橋電路,以及有些隔離變換器副邊同步整流管還要考慮內(nèi)?部二極管反向恢復(fù)等參數(shù),要結(jié)合具體的應(yīng)用。下面波形為感性負(fù)載功率MOSFET開通的過(guò)程。
VGS(th)和VGP在功率MOSFET的數(shù)據(jù)表中可以查到,有些數(shù)據(jù)表中沒有標(biāo)出VGP,可以通過(guò)計(jì)算得到平臺(tái)的電壓值。產(chǎn)生開通損耗的時(shí)間段為t1-t2、t2-t3,t0-t1時(shí)間段不產(chǎn)生開通損耗但是會(huì)產(chǎn)生延時(shí)。?????????????????????????
在負(fù)載開關(guān)的應(yīng)用中,要保證在t3時(shí)間后,輸出電容充電基本完成,就是電容的電壓基本等于輸入電壓,在這個(gè)過(guò)程中,MOSFEGT工作在線性區(qū),控制平臺(tái)的電壓VGP,就相當(dāng)于控制了最大的浪涌電流,浪涌電流就不會(huì)對(duì)系統(tǒng)產(chǎn)生影響。因此導(dǎo)通時(shí)間要多長(zhǎng),由輸出的電容和負(fù)載的大小決定。
具體的計(jì)算步驟是:設(shè)定最大的浪涌電流Ipk,最大的輸出電容Co和上電過(guò)程中輸出負(fù)載Io。如果是輸出電壓穩(wěn)定后,輸出才加負(fù)載,則?。篒o=0。由下式可以算出輸出電容充電時(shí)間:負(fù)載開關(guān)的應(yīng)用通常在D、G極并聯(lián)外部電容,因此t2-t3時(shí)間遠(yuǎn)大于t1-t2,t1-t2可以忽略,因此可以得到:t=t2-t3,由公式可以求出D和G極并聯(lián)的外部電容值。然后由上面的值對(duì)電路進(jìn)行實(shí)際的測(cè)試,以滿足設(shè)計(jì)的要求。
負(fù)載開關(guān)的穩(wěn)態(tài)功耗并不大,但是瞬態(tài)的功耗很大,特別是長(zhǎng)時(shí)間工作在線性區(qū)會(huì)產(chǎn)生熱失效問(wèn)題。因此PCB的設(shè)計(jì),特別是貼片的MOSFET,要注意充分敷設(shè)銅皮進(jìn)行散熱。在MOSFET的數(shù)據(jù)表中,熱阻的測(cè)量是元件裝在1平方英2OZ銅皮的電路板上。Drain的銅皮鋪在整個(gè)1平方英寸2OZ銅皮的電路板。實(shí)際應(yīng)用中,Drain的銅皮不可能用1平方英2OZ銅皮的電路板,只有盡可能的用大的銅皮來(lái)保證熱性能。具體的降額值可能值可以參見下圖。如果是多面板,最好D和S極對(duì)應(yīng)銅皮位置的每個(gè)層都敷設(shè)銅皮,用多個(gè)過(guò)孔連接,孔的尺寸約為0.3mm。
??????? SO8標(biāo)準(zhǔn)熱阻:RθJA=90C/W,RθJC=12C/W。 SO8銅皮封裝熱阻:RθJA=50C/W,RθJC=2.5C/W。
問(wèn)題2:功率MOSFET的Qgs,Qgd,Ciss,Crss,Coss,tr和tf的關(guān)系?回復(fù):如下圖,在一定的測(cè)試條件下,Qgs與Ciss相關(guān),Qgd與Crss相關(guān),Qg與Crss、Ciss都相關(guān),驅(qū)動(dòng)的電壓決定其最終的電荷值。Qgs和Qgd都是基于相關(guān)的電容的計(jì)算值。
上升和下降的延時(shí)和Crss、Ciss都相關(guān),測(cè)量條件是阻性負(fù)載。如果是感性負(fù)載,電感電流不能突變,那么由于電感的續(xù)流,這個(gè)時(shí)間就和負(fù)載的特性相關(guān)。
上升延時(shí)tr:上升延時(shí)的定義是在MOSFET的開通過(guò)程中,VGS的電壓上升,從其10%值開始,到VDS下降到為10%VDS值為止。在開通的過(guò)程中,VGS上升米勒電容平臺(tái)前的時(shí)間由Ciss決定,米勒電容平臺(tái)的時(shí)間Crss由決定,過(guò)了米勒電容平臺(tái)到VDS下降到為10%VDS的時(shí)間又由Ciss決定。下降延時(shí)tf和tr定義類似。
問(wèn)題3:AOD4126的數(shù)據(jù)表中,紅色標(biāo)注的ID、IDSM、IDM有什么區(qū)別?PD和PDM的值是否有標(biāo)錯(cuò)?另外關(guān)于RθJA和RθJC,作為用戶要按照備注中的哪一項(xiàng)判定?對(duì)于同樣規(guī)格的MOSFET,雙通道和單通道相比,優(yōu)勢(shì)在哪里?是不是簡(jiǎn)單的RDS(on)減半、ID加倍等參數(shù)合成?回復(fù):MOSFET的數(shù)據(jù)表中,ID和IDSM都是計(jì)算值,ID是基于RθJC和RDS(on)以及最高允許結(jié)溫計(jì)算得到的,IDSM是基RθJA和RDS(on)以及最高允許結(jié)溫計(jì)算得到的,PD和PDM也是基于上述條件的計(jì)算值。
計(jì)算的時(shí)候取TC=25C,而實(shí)際應(yīng)用中很多時(shí)候TC超過(guò)100C,而且由于器件所用的散熱條件不一樣,在開關(guān)過(guò)程中還要考慮動(dòng)態(tài)參數(shù),所以基于電流降額選用MOSFET沒有意義,ID沒有實(shí)際的意義。
RθJA和RθJC是二個(gè)不同的熱阻值,具體的定義在數(shù)據(jù)表中有詳細(xì)的說(shuō)明,數(shù)據(jù)表中的熱阻值都是在一定的條件下測(cè)量得到的,實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中由于條件不同,得到的測(cè)量結(jié)果并不相同。
使用雙通道和單通道的MOSFET,要綜合考慮開關(guān)損耗和導(dǎo)通損耗,RDS(on)不是簡(jiǎn)單的減半,因?yàn)槎€(gè)功率管并聯(lián)工作,不平衡性的問(wèn)題永遠(yuǎn)存在,而且動(dòng)態(tài)的開關(guān)的過(guò)程中容易產(chǎn)生動(dòng)態(tài)的不平衡。如果不考慮開關(guān)損耗,僅僅考慮導(dǎo)通損耗,那么還是要對(duì)RDS(on)作一定的降額。
問(wèn)題4:不同的測(cè)試的條件為影響MOSFET的數(shù)據(jù)表中的VGS(th)和BVDSS嗎?ATE是如何判斷的?回復(fù):不同測(cè)試條件結(jié)果會(huì)不同,因此在數(shù)據(jù)表中會(huì)標(biāo)明詳細(xì)的測(cè)試條件,從而使測(cè)試結(jié)果具有可重復(fù)性。對(duì)于AET的測(cè)試,以VGS(th)為例,它和Igss相關(guān),如AON6718L,當(dāng)G、S極加上最大20V電壓,VDS=0V,Igss小于100nA就表明通過(guò)測(cè)試。不同的公司ST、Fairchild、IR、Vishay等,可能使用不同的Igss,如IR1010使用200nA,IR3205使用100nA,目前行業(yè)內(nèi)使用100nA更通用。
BVDSS的測(cè)試條件:IDSS=250uA,VGS=0V,有些公司使用350uA、500uA甚至1mA,如果IDSS越大,BVDSS電壓值越高。
問(wèn)題5:100V的MOSFET,VGS耐壓大概只能到30V。在器件處于關(guān)斷的時(shí)刻,VGD大概能到100V,是因?yàn)镚、S極間的柵氧化層厚度比較厚,還是說(shuō)壓降主要在沉底和飄移電阻上面?回復(fù):G、S的電壓主要由柵氧化層厚度控制,G、D的電壓主要由外延層EPI 層厚度來(lái)控制,所以VGD耐壓高。
問(wèn)題6:關(guān)于雪崩,下面描述是否正確?
(1)單純的一次過(guò)壓不會(huì)損壞MOSFET?回復(fù):很多時(shí)候就是測(cè)1千片,或者1萬(wàn)片,電壓高于額定的電壓值,MOSFET也不會(huì)損壞,功率MOSFET具有一定的抗雪崩能力。
(2)雪崩損壞MOSFET有兩種情況:一種是快速高功率脈沖,直接使寄生二極管產(chǎn)生較大雪崩電流,芯片快速加熱過(guò)溫?fù)p壞。另一種是寄生三極管導(dǎo)通,并發(fā)生二次擊穿?回復(fù):是的,特別是新一代工藝的MOSFET,基本上是后一種損壞方式:寄生三極管導(dǎo)通。寄生三極管的導(dǎo)通,發(fā)生二次擊穿并不全是因?yàn)檠┍腊l(fā)生,還可能由于dv/dt過(guò)高的原因而導(dǎo)致。
(3)雪崩損壞都發(fā)生在VDS大于額定值的情況?回復(fù):是的。但是在高溫條件下,一些大電流的關(guān)斷,可能在關(guān)斷過(guò)程中,發(fā)生寄生三極管導(dǎo)通而損壞,雖然看不到過(guò)壓的情況,但是作者仍然將其定義為雪崩UIS損壞。
(4)關(guān)于(2)中兩種情況,什么情況下傾向于第一種發(fā)生,什么情況下傾向于第二種發(fā)生?回復(fù):如果單元非常一致,散熱非常好均勻、熱平衡好,第一種情況發(fā)生,早期的平面工藝有時(shí)候就會(huì)看到這種損壞模式。現(xiàn)在新的工藝導(dǎo)致單元的密度越來(lái)越集中,產(chǎn)生的損壞通常用就是第二種。
體內(nèi)寄生三極管導(dǎo)通產(chǎn)生雪崩損壞,同時(shí)伴隨著體內(nèi)寄生三極管發(fā)生二次擊穿,此時(shí)集電極電壓在瞬態(tài)時(shí)間幾個(gè)n秒內(nèi),減少到耐壓的1/2,原因在于內(nèi)部耗盡層載流子發(fā)生雪崩注入,電場(chǎng)電流密度很大,接近硅片臨界電場(chǎng)。電流大,電壓高,電場(chǎng)大,電離強(qiáng),大量的空穴電流流過(guò)基區(qū)P體電阻RB,寄生三極管導(dǎo)通,集電極電壓快速返回到基極開路時(shí)的擊穿電壓。增益大時(shí),三極管中產(chǎn)生雪崩擊穿,此耐壓值低。
三極管中產(chǎn)生雪崩注入條件:電場(chǎng)應(yīng)力,正向偏置熱不穩(wěn)定性。
MOSFET關(guān)斷時(shí)溝道漏極電流減小,感性負(fù)載使VDS升高,以維持ID電流的恒定,ID電流由溝道電流和位移電流組成。位移電流是體二極管耗盡層電流,和dV/dT成比例。VDS升高和基極放電、漏極耗盡層充電速度相關(guān)。漏極耗盡層充電速度和電容Coss、ID相關(guān)。ID越大,VDS升高越快。漏極電壓升高,體二極管雪崩產(chǎn)生載流子,全部ID電流雪崩流過(guò)二極管,溝道電流為0。
很多的工程師問(wèn)這樣的一個(gè)問(wèn)題:如果說(shuō)UIS的雪崩損壞時(shí)電壓通常會(huì)達(dá)到耐壓值的1.2~1.3倍,可以明顯看到電壓有箝位,通俗說(shuō)法就是波形砍頭,那么對(duì)于100V的器件工作在105V或者110V是否安全?如上所述,100V的器件加上110V的電壓不會(huì)損壞,那么安全的原則是什么呢?
對(duì)于設(shè)計(jì)工程師來(lái)說(shuō),所要求的就是在最極端的條件下設(shè)計(jì)的參數(shù)有一定的裕量,也就是從設(shè)計(jì)的角度來(lái)說(shuō)保持系統(tǒng)的安全和可靠性,永遠(yuǎn)都排在最優(yōu)先的位置。因此筆者建議的原則是:在動(dòng)態(tài)的極端條件下瞬態(tài)的電壓峰值不要超過(guò)MOSFET的額定值。
問(wèn)題7:MOSFET在放大區(qū)有負(fù)溫度系數(shù)效應(yīng),所以容易產(chǎn)生熱點(diǎn),這是否就是MOSFET的二次擊穿,不同工藝產(chǎn)品是否不同?但是,看資料MOSFET的RDS(on)是正溫度系數(shù)效應(yīng),不會(huì)產(chǎn)生二次擊穿,這一點(diǎn)一直都沒有了解過(guò),能否指點(diǎn)一下,后面再請(qǐng)教詳細(xì)情況。回復(fù):平面工藝和Trench工藝的MOSFET都有這個(gè)特點(diǎn),這是MOSFET固有特性。RDS(on)的正溫度系數(shù)效應(yīng)是在完全導(dǎo)通的穩(wěn)態(tài)的條件才具有這樣的特性,可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)態(tài)的電流均流。
MOSFET在動(dòng)態(tài)開通的過(guò)程中會(huì)跨越負(fù)溫度系數(shù)區(qū)進(jìn)入到完全開通的正溫度系數(shù)區(qū);在關(guān)斷過(guò)程中跨越完全開通的正溫度系數(shù)區(qū)進(jìn)入負(fù)溫度系數(shù)區(qū)。只是因?yàn)槠矫婀に嚨膯卧芏确浅P?,產(chǎn)生局部過(guò)流和過(guò)熱的可能性小,因此熱平衡好,相對(duì)的動(dòng)態(tài)經(jīng)過(guò)負(fù)溫度系數(shù)區(qū)時(shí)抗熱沖擊好。通常在設(shè)計(jì)過(guò)程中要快速的通過(guò)此區(qū)域,減小熱不平衡的產(chǎn)生。
問(wèn)題8:關(guān)于寄生二極管和三極管,如下理解是否正確?下圖中,S極并沒有和P型層直接接觸,那么就不存在寄生二極管,只有寄生三極管。但是這個(gè)三極管很容易誤導(dǎo)通,所以將P型層也直接連到S級(jí),以消弱三極管效應(yīng)。那么此時(shí)就體現(xiàn)為明顯的寄生二極管?回復(fù):是的,上述的理解正確,目前功率MOSFET的S極都和P+連接在一起,很少用圖中這樣不連接的結(jié)構(gòu)。主要的原因在于:對(duì)于內(nèi)部寄生的三極管,S極和P+連接在一起相當(dāng)于基級(jí)和發(fā)射級(jí)短路,不連接在一起相當(dāng)于開路,由于三級(jí)管的VCBO>>VCEO,從而提高功率MOSFET的耐壓,這樣的內(nèi)部連接也導(dǎo)致內(nèi)部的寄生二極管功能連接到外部電路。
問(wèn)題9:關(guān)于米勒電容Crss,在文檔MOSFET的動(dòng)態(tài)參數(shù)中,有公式如下參考圖片,Crss電容是柵極通過(guò)氧化層對(duì)漏極的電容,對(duì)于開關(guān)過(guò)程,在第2階段,溝道打開后,Ciss為什么增加了,是什么原因?另外,AON6450規(guī)格書上的測(cè)試條件是VDS=50V的情況,這個(gè)測(cè)試的條件基于什么原因?是否可以給出其它條件下的電容值?
回復(fù):Ciss增加的原因是Crss增加,圖中器件導(dǎo)通后,Wdep減小,Crss就增加。對(duì)于100V的器件,比如AON6450,由于在米勒平臺(tái)區(qū),極限的情況VGD將從100V降到10V以內(nèi)。Coss、Crss都是動(dòng)態(tài)電容,容值隨著VDS而變化,而且不是線性關(guān)系。數(shù)據(jù)表中所采用的測(cè)試條件,是行業(yè)通常采用的標(biāo)準(zhǔn),以50%的VDS測(cè)試。數(shù)據(jù)表中提供了電容曲線,可以查到80%或100%的數(shù)據(jù)。
問(wèn)題10:功率MOSFET的SOA曲線如何得到的,可以用來(lái)作為設(shè)計(jì)的安全標(biāo)準(zhǔn)嗎?回復(fù):任何一家公司的SOA曲線上,主要有3部分組成:電阻限制區(qū)、幾條由脈沖功率限制的電流電壓直線和最大電壓直線。最大電壓值就是數(shù)據(jù)表中的額定值。幾條由脈沖功率限制的電流電壓直線,實(shí)際上是計(jì)算值,就是基于數(shù)據(jù)表中的瞬態(tài)熱阻、導(dǎo)通電阻以及最大的允許結(jié)溫計(jì)算得到的,而且都是基于TC=25度,TC代表的是封裝裸露銅皮的溫度,在實(shí)際應(yīng)用中,TC的溫度遠(yuǎn)高于25度,因此,SOA曲線是不能用來(lái)作為設(shè)計(jì)的驗(yàn)證標(biāo)準(zhǔn)。
問(wèn)題11:VGS大于VGS(th)時(shí)MOSFET導(dǎo)通,MOSFET剛進(jìn)入米勒平臺(tái),是否就算達(dá)到了飽和?如果是這樣,此時(shí)停止向G極供電,假定忽略柵極氧化層的漏電,這時(shí)VDS會(huì)一直維持比較高壓降嗎?感覺有點(diǎn)不可思議,因?yàn)槠滹柡鸵院?,RDS(on)已經(jīng)降了下來(lái)。如果說(shuō)沒有飽和,也感覺說(shuō)不過(guò)去,RDS(on)和VGS有關(guān),達(dá)到10V以后,RDS(on)已經(jīng)很小了,壓降也應(yīng)該降下來(lái)。如果說(shuō)壓降自動(dòng)會(huì)降下來(lái),那不是說(shuō)米勒平臺(tái)后期的充電沒有什么用?回復(fù):VGS大于VGS(th)時(shí)MOSFET開始導(dǎo)通,此時(shí)電流非常小,從開通到其剛進(jìn)入米勒平臺(tái),MOSFET都工作在放大區(qū),而且器件都沒有完全導(dǎo)通,此時(shí)MOSFET導(dǎo)通電阻非常大,D極的電壓由整個(gè)MOSFET承受,因此電流較小,電流乘上電阻也等于VDS值,也就是D、S極所加的電源電壓值。
MOSFET工作在線性區(qū)時(shí),和線性電壓調(diào)節(jié)器也就是LDO,如LM7805的工作原理相同,如:當(dāng)輸入電壓為10V,輸出5V,壓降就是5V;輸入電壓12V,輸出還是5V,壓降是7V,MOSFET相當(dāng)于調(diào)節(jié)管,輸入電壓和輸出電壓的差值,都由MOSFET來(lái)承擔(dān)。到了米勒平臺(tái)區(qū),電流為系統(tǒng)的最大電流,電流不能再增加,那么,VDS的電壓開始下降,即使是VDS的電壓下降一點(diǎn)點(diǎn),所產(chǎn)生的電壓變化率也非常大,因此驅(qū)動(dòng)回路的電流,將全部被米勒電容Crss所抽取,此時(shí)就看到了所謂的米勒平臺(tái),VDS的電壓在一定的時(shí)間內(nèi)維持一個(gè)穩(wěn)定的值,直到VDS完全下降到最小值,VDS的電壓變化率為0時(shí)才結(jié)束米勒平臺(tái)區(qū)。
問(wèn)題12:(1)請(qǐng)教一個(gè)AO3401A的問(wèn)題:現(xiàn)在使用AO3401A的導(dǎo)通電阻RDS(on)作為隔離電阻,用來(lái)緩沖熱插入移動(dòng)硬盤的瞬間沖擊電流,防止瞬間把主機(jī)芯電壓拉低,電路圖如下,5V_USB是插移動(dòng)硬盤的地方, 5V_Normal來(lái)自主機(jī)芯電壓。將VGS設(shè)計(jì)在固定的-1.6V左右,此時(shí)的RDS(on)大約在100mΩ左右,插上移動(dòng)硬盤瞬間的沖擊電流由原來(lái)的9A下降到了5A左右,沖擊電流持續(xù)時(shí)間80微秒左右,效果很明顯,移動(dòng)硬盤正常工作時(shí)電流約300mA。如果將VGS設(shè)計(jì)在-2.5V左右,RDS(on)只有幾十mΩ,對(duì)沖擊電流的抑制作用不大。這個(gè)電路的設(shè)計(jì)原則是什么?回復(fù):VGS=-1.6V時(shí),可以保證MOSFET導(dǎo)通,注意要考慮電阻阻值的分散性,在最差的條件下,如果使用電阻的精度為10%,VGS電壓絕對(duì)值:1.3 1.6*20%=1.64V,MOSFET仍然可以工作。如果電阻的精度為15%,考慮到MOSFET的VGS(th)電壓的分散性,在一定的條件下如低溫時(shí),MOSFET就有可能不工作,而且VGS(th)電壓是負(fù)溫度系數(shù),溫度越低,其值越大。
驅(qū)動(dòng)電壓的穩(wěn)定值要結(jié)合輸入電壓最低值和分壓電阻值的精度、VGS(th)以及其溫度系數(shù)等最極端的條件,來(lái)選擇合適的分阻電阻的分壓比,保證系統(tǒng)的設(shè)計(jì)要求。PCB布板設(shè)計(jì)時(shí),S和D都用大的銅皮連接。如果是多層板,在每層都放上相應(yīng)大小的的銅皮,用多個(gè)10-15mil的過(guò)孔連接散熱。
(2)AO3401的VGS(th)規(guī)格書中標(biāo)的可以到-1.3V,設(shè)置VGS=-1.6V,電壓絕對(duì)值大于-1.3V,是否該MOSFET正常導(dǎo)通,應(yīng)該沒有問(wèn)題吧?現(xiàn)在損耗并不是考慮的問(wèn)題,0.03V的RDS(on)的壓降對(duì)系統(tǒng)沒有任何影響。原來(lái)使用一個(gè)0.1歐姆的氧化膜電阻來(lái)做隔離的,但是該電阻體積太大,用這個(gè)電路的目的就是想替換這個(gè)電阻。這個(gè)電路中MOSFET是在電視機(jī)開機(jī)后一直導(dǎo)通的,MOSFET一直導(dǎo)通的狀態(tài)下來(lái)插入移動(dòng)硬盤的,而不是插入移動(dòng)硬盤后再打開MOSFET的,所以覺得調(diào)節(jié)R45/R46/C18的值不能起到降低沖擊電流的作用。希望利用MOSFET的恒流區(qū)特性來(lái)降低沖擊電流,如果把VGS調(diào)整到-2.5V以上,對(duì)沖擊電流的限制作用就非常小了,只能從9A降到8A左右,這樣的做法對(duì)MOSFET來(lái)說(shuō)會(huì)有問(wèn)題嗎????????????????????????
回復(fù):上面的電路是利于MOSFET在開通過(guò)程中,較長(zhǎng)時(shí)間工作在線性區(qū)(放大區(qū),也就是恒流區(qū)),從而控制上電時(shí)瞬態(tài)大負(fù)載,如熱插撥移動(dòng)硬盤,因?yàn)橛脖P帶有較大的容性負(fù)載,切入瞬間形成較大的浪涌電流。如果MOSFET已經(jīng)導(dǎo)通,后面再插入移動(dòng)硬盤這樣的大容性負(fù)載,浪涌電流主要由輸出端的大電容來(lái)提供,因此MOSFET無(wú)法限制浪涌電流。
MOSFET工作在線性區(qū)時(shí)電阻遠(yuǎn)大于完全導(dǎo)通的電阻,因此也可以理解為用電阻抑止浪涌電流。通常這種負(fù)載開關(guān)電路設(shè)計(jì)時(shí),分壓電阻是為了防止VGS的最大電壓超過(guò)額定的最高電壓,串聯(lián)在G極的電阻調(diào)節(jié)MOSFET的開通速度。在保證要求的開通速度條件下,VGS不能超過(guò)最大額定電壓時(shí),可以適當(dāng)提高電阻值,這樣在正常的工作狀態(tài)下,MOSFET完全導(dǎo)通后,減小產(chǎn)生的靜態(tài)損耗。
(3)在AO3401規(guī)格書的第1頁(yè)有寫operation with gate votages as low as 2.5V,是否是要求G極電壓必須大于2.5V?VGS必須小于-2.5V?設(shè)計(jì)VGS=-1.6V有沒有問(wèn)題?如果繼續(xù)加大VGS到-1V呢?是不是VGS的大小沒有關(guān)系,只要保證RDS(on)產(chǎn)生的功耗不要導(dǎo)致MOSFET過(guò)熱就行,是否正確?回復(fù):不能那么認(rèn)為,這句話的含義是:AO3401可以工作在VGS=-2.5V,此時(shí)導(dǎo)通電阻約為120mOhm。如果VGS電壓太小,低于閾值電壓VGS(th),AO3401可能無(wú)法完全開通,無(wú)法正常工作。還是建議將VGS設(shè)計(jì)在-2.5V以上,如-3.5V左右,通過(guò)調(diào)節(jié)(增加)R45/46和C18來(lái)降低沖擊電流。
問(wèn)題13:使用如下電路,用CPU的GPIO口直接控制一個(gè)MOSFET管,MOSFET作為后端負(fù)載的開關(guān),這種應(yīng)用有什么風(fēng)險(xiǎn)?回復(fù):檢查VCC以及MR34/MR35分壓后的電壓值VGS,VGS絕對(duì)值要比MQ1的VGS(th)高才能保證MOSFET完全打開,否則后面的系統(tǒng)可能不工作;同時(shí)檢查GPIO口的驅(qū)動(dòng)能力,是否滿足驅(qū)動(dòng)的要求。如果很小,最好用GPIO口驅(qū)動(dòng)一個(gè)三極管的B極,三極管的集電極C下拉MOSFET的G極。
由實(shí)際的浪涌電流再調(diào)整MC11值,以及MR34/MR35值。在PCB設(shè)計(jì)時(shí),MQ1的D,S用大銅皮連接,如果多層板,在多個(gè)層放銅皮,用多個(gè)過(guò)孔分別進(jìn)行連接。
問(wèn)題14:想請(qǐng)教一個(gè)有關(guān)MOSFET的關(guān)斷時(shí)D、S電壓振蕩的問(wèn)題,在同一個(gè)電路上測(cè)試了兩個(gè)不同廠商的30V的MOSFET,得到了關(guān)斷時(shí)不同的VDS電壓波形,如下圖。可以看到器件1的尖峰較高,但是振蕩抑制的很快;器件2的尖峰較低,但是振蕩抑制的較慢。因?yàn)槭窃谕粔KPCB上測(cè)量的,所以電路的寄生電感,電阻等參數(shù)是不變的,現(xiàn)在只有器件不同。這種尖峰是電路上的寄生電感和MOSFET的電容諧振引起,但是不明白具體是這兩個(gè)器件哪個(gè)參數(shù)的差別,會(huì)使得這種振蕩表現(xiàn)這么不同。是否能夠從器件數(shù)據(jù)的某些參數(shù)對(duì)比來(lái)選擇一款實(shí)際應(yīng)用峰值較低,振蕩又能快速消除的MOSFET??????????????????????????????
回復(fù):這樣的振蕩波形,對(duì)于一個(gè)電源的工程師來(lái)說(shuō),經(jīng)??吹?,在這里首先談一下測(cè)量方法的問(wèn)題:
(1)如同測(cè)量輸出電壓的紋波一樣,所有工程師都知道,要去除示波器探頭的帽子,直接將探頭的信號(hào)尖端和地線接觸被測(cè)量位置的兩端,減小地線的環(huán)路,從而減小空間耦合的干擾信號(hào)。
(2)帶寬的問(wèn)題,測(cè)量輸出電壓紋波的時(shí)候,通常用20MHZ的帶寬,但是,測(cè)量MOSFET的VDS電壓時(shí)候,用多少帶寬才是正確的測(cè)量方法?事實(shí)上,如果用不同的帶寬,測(cè)量到的尖峰電壓的幅值是不同的。
具體原則是:①確定被測(cè)量信號(hào)的最快上升Tr和下降時(shí)間Tf;②計(jì)算最高的信號(hào)頻率:f=0.5/Tr,Tr取測(cè)量信號(hào)的10%~90%;f=0.4/Tr,Tr取測(cè)量信號(hào)的20%~80%;③確定所需的測(cè)量精確度,然后計(jì)算所需的帶寬。
在上圖波形中,被測(cè)量信號(hào)最快的下降時(shí)間為2ns(10%~90%),判斷一個(gè)高斯響應(yīng)示波器在測(cè)量被測(cè)數(shù)字信號(hào)時(shí)所需的最小帶寬:f=0.5/2ns=250MHz。若要求3%的測(cè)量誤差:所需示波器帶寬=1.9*250MHz=475MHz;若要求20%的測(cè)量誤差:所需示波器帶寬=1.0*250MHz =250MHz。因此,決定示波器帶寬的重要因素是:被測(cè)信號(hào)的最快上升時(shí)間。注意:示波器的系統(tǒng)帶寬由示波器帶寬和探頭帶寬共同決定。
高斯頻響的系統(tǒng)帶寬:( 示波器帶寬2 探頭帶寬2)1/2/2
最大平坦頻響系統(tǒng)帶寬:min(示波器帶寬,探頭帶寬)
VDS的振蕩波形由PCB寄生回路電感和MOSFET的寄生電容形成高頻諧振而產(chǎn)生的,在寄生電感值一定的條件下,寄生電容越小,振蕩的頻率越高,幅值也越高,同時(shí)振蕩的幅值和回路的初始電流值相關(guān)。
特別注意的是:寄生電容Coss不是線性的,隨著電壓的增大而減小,因此可以的看到波形振蕩的頻率并不是固定的。VDS的高頻振蕩是無(wú)法消除的,增加Coss或在D、S極外部并聯(lián)電容,可以降低振蕩的頻率和幅值,Snubber電路也是利用這個(gè)原理,抑制電壓的尖峰。
問(wèn)題15:功率MOSFET的耐壓為什么是正溫度系數(shù)?溫度高,功率MOSFET的耐壓高,那是不是表明MOSFET對(duì)電壓尖峰有更大的裕量,MOSFET更安全?回復(fù):隨著溫度的升高,晶格的熱振動(dòng)加劇,致使載流子運(yùn)動(dòng)的平均自由路程縮短。因此,在與原子碰撞前由外加電場(chǎng)加速獲得的能量減小,發(fā)生碰撞電離的可能性也相應(yīng)減小。在這種情況下,只有提高反向電壓,進(jìn)一步增強(qiáng)電場(chǎng)才能發(fā)生雪崩擊穿,因此雪崩擊穿電壓隨溫度升高而提高,具有正的溫度系數(shù)。
MOSFET耐壓的測(cè)量基于一定的漏極電流,溫度升高時(shí),為了達(dá)到同樣的測(cè)量漏極電流,只有提高電壓,表面上看起來(lái),測(cè)量的耐壓提高了。但是MOSFET損壞的最終原因是溫度,更多時(shí)候是局部的過(guò)溫,導(dǎo)致局部的過(guò)熱損壞,在整體溫度提高的條件下,MOSFET更容易發(fā)生單元的熱和電流不平衡,從而導(dǎo)致?lián)p壞。
問(wèn)題16:使用下圖的電路,進(jìn)行不同電平信號(hào)間的轉(zhuǎn)換,VCC_SIM=5V,SIM_DATA、SIM_CARD_I/O屬于I/O雙向傳輸。SIM_DATA為輸入信號(hào),可以理解:SIM_DATA為高時(shí),Q7截止,SIM_CARD_I/O接收為5V信號(hào);SIM_DATA為低時(shí),Q7導(dǎo)通,SIM_CARD_I/O接收為低電平信號(hào)。當(dāng)SIM_DATA為輸出信號(hào)時(shí),如何理解SIM_CARD_I/O輸入為低電平信號(hào)???? 回復(fù):功率MOSFET的電流可以從D到S,也可從S到D,只是從S到D是不可控的,此時(shí)體內(nèi)寄生的二極管導(dǎo)通。當(dāng)功率MOSFET作同步整流管時(shí)候,通常也是寄生二極管先導(dǎo)通,然后柵極信號(hào)驅(qū)動(dòng)MOSFET的導(dǎo)通:溝道導(dǎo)通,用以減小導(dǎo)通損耗。
SIM_DATA為輸出信號(hào)時(shí),SIM_CARD_I/O為低電平,Q7體內(nèi)寄生二極管導(dǎo)通,信號(hào)SIM_DATA也拉低,接收低電平信號(hào)。SIM_CARD_I/O輸出高電平5V時(shí),Q7體內(nèi)寄生二極管截止,信號(hào)SIM_DATA上拉到3.3V,接收高電平信號(hào)。
問(wèn)題17:超結(jié)型高壓功率MOSFET的UIS雪崩能力為什么比平面工藝低?回復(fù):超結(jié)結(jié)構(gòu)穿透到底部的P區(qū),增加工藝的復(fù)雜程度,很難完全控制中間耗盡層和橫向電場(chǎng)的對(duì)稱性,容易發(fā)生局部的電場(chǎng)集中。
問(wèn)題18:功率MOSFET的損壞模式有那些?如何判斷MOSFET的損壞方式?回復(fù):主要有ESD、過(guò)壓、過(guò)流和過(guò)溫的損壞,參考文獻(xiàn):開關(guān)電源中功率MOSFET損壞模式及分析,電子技術(shù)應(yīng)用:2013.3
問(wèn)題19:功率MOSFET的數(shù)據(jù)表中dv/dt為什么有二種不同的額定值?如何理解體二極管反向恢復(fù)特的dv/dt?回復(fù):在反激電源中,原邊主開關(guān)管關(guān)斷過(guò)程中,VDS的波形從0開始增大,因此產(chǎn)生一定的斜率dv/dt,同時(shí)產(chǎn)生電壓尖峰,就是寄生回路的電感和MOSFET的寄生電容振蕩形成的。這個(gè)dv/dt會(huì)通常通過(guò)米勒電容耦合到柵極,在柵極上產(chǎn)生電壓,如果柵極電壓大于閾都電壓,MOSFET會(huì)誤導(dǎo)通產(chǎn)生損壞,因此要限制MOSFET關(guān)斷過(guò)程中的dv/dt。
另一種情況就是在LLC、半橋和全橋電路,以及同步BUCK的下管,當(dāng)下管關(guān)斷后下管的寄生二極管先導(dǎo)通續(xù)流,然后對(duì)應(yīng)的上橋臂的上管開通,二極管在反向恢復(fù)過(guò)程中也會(huì)產(chǎn)生dv/dt的問(wèn)題。通常二極管反向恢復(fù)的dv/dt額定值,遠(yuǎn)小于MOSFET本身的dv/dt額定值。
二極管在反向恢復(fù)過(guò)程中,如果存儲(chǔ)的電荷沒有完全清除,二極管也就是下管是不能承受壓降的,下管相當(dāng)于短路,那么在上管開通的過(guò)程,電源的電壓就只能加在回路的雜散電感上:下管短路,輸入電流要急劇增加,回路的雜散電感將限制電流增加,因此電源的電壓就只能加在回路的雜散電感上,這個(gè)過(guò)程持續(xù)時(shí)間越長(zhǎng),短路電流沖擊越大,MOSFET就可能在二極管的反向恢復(fù)過(guò)程中發(fā)生損壞。至于損壞的是上管還是下管,取決于那個(gè)功率的抗沖擊能力強(qiáng)。參考文獻(xiàn):理解功率MOSFET體二極管反向恢復(fù)特性,今日電子:2012.11
問(wèn)題20:AOD2922用于BOOST電路LED背光驅(qū)動(dòng)器,發(fā)現(xiàn)其中有一顆MOSFET失效,G、D、S短路,繼續(xù)工作一些時(shí)間后,D、S又變成開路,為什么?回復(fù):開始的失效發(fā)生在硅片內(nèi)部,應(yīng)該是內(nèi)部D、G擊穿,從而導(dǎo)致G、D、S短路,繼續(xù)工作一些時(shí)間后,由于大電流的沖擊,導(dǎo)致S和硅片的連線熔化燒斷開,因此,D、S開路。
問(wèn)題21:在應(yīng)用中會(huì)存在米勒平臺(tái)掉溝的現(xiàn)象,這個(gè)掉到開啟電壓以下是否存在風(fēng)險(xiǎn)?回復(fù):如果是反激單管工作,DCM沒有影響,如果是反激的CCM,系統(tǒng)容易不穩(wěn)定,影響MOSFET的安全性。如果是PFC的多管并聯(lián)工作,那么MOSFET在開通過(guò)程不能很好的均流,損壞的風(fēng)險(xiǎn)很大。
問(wèn)題22:在一些應(yīng)用中常用幾個(gè)MOSFET并聯(lián)擴(kuò)流或散熱,當(dāng)用有保護(hù)的電源調(diào)試系統(tǒng)時(shí)不小心電路出了問(wèn)題時(shí)通常只會(huì)燒一個(gè)管,如何判斷是那個(gè)MOSFET損壞?回復(fù):用萬(wàn)用表打在電阻擋,檢測(cè)每個(gè)MOSFET的D-G的電壓,紅筆接D,電阻最小的那個(gè)MOSFET就是損壞的那個(gè)。
問(wèn)題23:480W的隔離電源模塊中,是原邊全橋整流管。模塊輸入電壓51V~56VDC,額定輸出10.8V,48A。這次壞掉的是一個(gè)橋臂上的兩顆管子。在應(yīng)用時(shí)因?yàn)橥鈬娐樊惓T斐啥蝹?cè)電流反灌到原邊整流管,電流從Source流向Drain的狀態(tài)。結(jié)合FA報(bào)告中的Source面上的燒毀痕跡,原因分析是電流的EOS,能否證明是因?yàn)殡娏鲝腟往D流動(dòng)造成source燒掉?回復(fù):對(duì)于同步整流,輸出的反灌電流是最惡劣的一種條件,在設(shè)計(jì)的過(guò)程中要盡可能的減小輸出的反灌。
(1) 輸出反灌形成輸出整流管的雪崩,導(dǎo)到輸出同步的整流管損壞,取決于輸出同步的整流管的雪崩能力,以及反灌電流形成的負(fù)向電流的大小。
(2)輸出反灌電流會(huì)影響原邊MOSFET工作。
當(dāng)輸出形成反向電流的時(shí)候,若Q1、Q2是一個(gè)半橋臂,Q1為上管,Q2為下管;Q3、Q4是另外一個(gè)半橋臂,Q3為上管,Q4為下管;若不是全橋移相軟開關(guān)而是PWM硬開關(guān)工作,由于輸出是反向電流,因此當(dāng)Q1、Q4導(dǎo)通前,電流從Q1、Q4二極管中流過(guò);當(dāng)Q1/4導(dǎo)通后,會(huì)從Q1、Q4溝道流過(guò)。當(dāng)副邊輸出電感的能量足夠大時(shí),其原邊電流不足以反向,因此Q1、Q4關(guān)斷后電流還得從Q1、Q4二極管中流過(guò),經(jīng)過(guò)死區(qū)時(shí)間后,Q2、Q3導(dǎo)通。此時(shí)由于Q1、Q4二極管中流過(guò)電流時(shí)間長(zhǎng),電流也比較大,而且死區(qū)時(shí)間短,對(duì)于一些MOSFET的二極管,反向恢復(fù)的時(shí)間不是夠的,就是Q1、Q4體二極管電荷沒有完全恢復(fù),這時(shí)Q2、Q3導(dǎo)通,就會(huì)導(dǎo)致上下橋臂直通直到損壞。
至于損壞的是上橋還是下橋,那就看那個(gè)管子承受短路的能力更強(qiáng)。是損壞原邊還是副邊,也看那邊管子的能力更強(qiáng)。
?-- 對(duì)于副邊,是大電流關(guān)斷后的電壓雪崩。
?-- 對(duì)于原邊,是二極管反向恢復(fù)上下橋直通形成大電流損壞。
通常二極管也是負(fù)溫度系數(shù),其導(dǎo)致?lián)p壞和開通時(shí)過(guò)線性區(qū)熱量的積累導(dǎo)致的損壞形態(tài)比較接近,對(duì)應(yīng)著二極管沒有完全恢復(fù)的MOSFET形態(tài)。因些對(duì)于這個(gè)例子,最好的辦法,從設(shè)計(jì)角度來(lái)說(shuō)還是減小輸出反灌電流。從器件來(lái)說(shuō),提高原邊MOSFET的體二極管的反向恢復(fù)特性,可以提高原邊器件的安全性,最終的方法還是控制輸出反灌電流,才能真正保持系統(tǒng)安全性。
問(wèn)題24:MOSFET的電壓測(cè)量時(shí)候電流是250uA,而數(shù)據(jù)表中IDSS電流只有幾個(gè)uA,為什么?回復(fù):IDSS電流小,表明實(shí)際的漏電流小于測(cè)試規(guī)范的要求,因此是合格的。
問(wèn)題25:MOSFET損壞后,阻抗變?yōu)橐粋€(gè)中間值,有時(shí)工作有時(shí)不工作,為什么?回復(fù):通常MOSFET損壞后,如果電源沒有電流保護(hù),經(jīng)過(guò)更大的電流沖擊導(dǎo)致內(nèi)部的金屬線熔化汽化,系統(tǒng)不工作后MOSFET冷卻下來(lái),熔化汽化的金屬凝固,局部的區(qū)域連通形成較大的阻抗。MOSFET通電工作后,這些局部的連通區(qū)域又?jǐn)嚅_,MOSFET停止工作。有時(shí)也會(huì)出現(xiàn)這樣的現(xiàn)象:冷卻凝固后內(nèi)部的金屬斷開,通電后金屬熔化又導(dǎo)致內(nèi)部區(qū)域連通。
問(wèn)題26:測(cè)試高壓MOSFET體內(nèi)二極管的反向恢復(fù)時(shí),IF越低,Qrr越大,電壓尖峰越高,為什么?回復(fù):在MOSFET的體二極管導(dǎo)通時(shí),電荷在PN結(jié)積累,當(dāng)二極管開始承受阻斷電壓時(shí),這些電荷將被清除。如果IF低,PN結(jié)積累的電荷水平低,清除的速度快,dv/dt就大,C*dv/dt的偏移電流就大。測(cè)試的Qrr包括真正的Qrr以及C*dv/dt相關(guān)的少子,因此測(cè)試的Qrr在IF低時(shí)就越大。
問(wèn)題27:客戶用一個(gè)外部信號(hào)控制PMIC的管腳ID,PMIC由電池供電,ID管腳內(nèi)部由10M的電阻上拉后接到電池,當(dāng)外部信號(hào)為0時(shí),300K外部電阻要接到ID管腳;當(dāng)外部信號(hào)為1時(shí),300K外部電阻和ID管腳斷開,如何實(shí)現(xiàn)?回復(fù):使用二個(gè)AON1605,如圖,R1為PMIC的ID管腳內(nèi)部上拉電阻,R2為外部的300K電阻,V_driver為外部的控制信號(hào),V_driver為0時(shí),Q2關(guān)斷,Q1導(dǎo)通,ID由300K電阻下拉接到地。V_driver為1時(shí),Q2導(dǎo)通,Q1關(guān)斷,ID由內(nèi)部10M電阻上拉接到電池,此時(shí)R3產(chǎn)生靜態(tài)損耗。R3越大,功耗越小。Q1導(dǎo)通時(shí),Q1的S極電壓:3.8V*300K/(10M 300K) =0.11V。
問(wèn)題28:請(qǐng)問(wèn)功率MOSFET電容的溫度系數(shù)是正溫度系數(shù)還是負(fù)溫度系數(shù)?回復(fù):功率MOSFET的電容在正常的溫度范圍內(nèi)<500K時(shí),不隨溫度的變化而變化,特別是Ciss,Cgs和Crss(Cgd)。
Coss(Cds Cgd)由MOSFET的Cgd和PN結(jié)電容二者組成,如果溫度太高,接近硅的本征溫度,本征半導(dǎo)體載流子的濃度增加非常多,PN結(jié)的電容將增加,溫度從300K增加到600K的仿真結(jié)果如圖。
問(wèn)題29:圖中上端的功率MOSFET管Q3使用這種背靠背二極管的P管的結(jié)構(gòu),這種結(jié)構(gòu)有什么優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)?是不是這種結(jié)構(gòu)不存在體二極管?回復(fù):這種結(jié)構(gòu)沒有什么特別,平面工藝,N和P都容易做,主要是驅(qū)動(dòng)簡(jiǎn)單,單芯片設(shè)計(jì)就簡(jiǎn)單了許多。MOSFET的結(jié)構(gòu)都有這二個(gè)背靠背的二極管,用平面橫向的MOSFET結(jié)構(gòu),二個(gè)體寄生二極管在內(nèi)部沒有引出;用VDMOS結(jié)構(gòu),源極和P區(qū)不連接,寄生二極管也不會(huì)連出來(lái)。
問(wèn)題30:功率MOSFET標(biāo)稱的VGS(th)最小值為0.4V,是指所有情況嗎,還是溫度高了還有可能更加低?回復(fù):測(cè)量的條件是25C,250uA電流,溫度越高,VGS(th)值會(huì)越低。
問(wèn)題31:VDS超過(guò)最大額定電壓,但通過(guò)的電流很小,會(huì)使MOSFET損壞嗎?回復(fù):不會(huì)。
問(wèn)題32:外封裝對(duì)結(jié)電容、開關(guān)時(shí)間影響有多大?回復(fù):封裝的主要影響是引線產(chǎn)生的寄生電感和電阻,對(duì)電容影響非常小。
問(wèn)題33:如果驅(qū)動(dòng)電阻調(diào)大,開關(guān)速度變慢,Eoss會(huì)有變化嗎?回復(fù):Eoss是Coss的儲(chǔ)能,在硬開關(guān)的開通過(guò)程中放電消耗掉,和RG沒有關(guān)系,RG影響開關(guān)損耗。
問(wèn)題34:超結(jié)結(jié)構(gòu)和普通VDMOS比起來(lái),Coss會(huì)高很多嗎?同普通Trench MOSFET相比,SGT降低Crss,但是會(huì)增加Cds,那Coss是變好還是變差了呢?回復(fù):超結(jié)結(jié)構(gòu)功率MOSFET的Coss在高偏壓時(shí),比普通VDMOS小很多。相對(duì)而言,Coss的值比較大,SGT額外產(chǎn)生的Cds,對(duì)Coss增加比例非常小。
問(wèn)題35:高壓應(yīng)用場(chǎng)合計(jì)算開通損耗時(shí),VDS一般在四五百伏,計(jì)算關(guān)斷損耗時(shí)VDS應(yīng)該比較小,二者通過(guò)數(shù)據(jù)表查出來(lái)的Crss差距比較大,或者說(shuō)開通、關(guān)斷損耗計(jì)算按照整個(gè)開關(guān)過(guò)程中的電壓平均值或者有效值查找Crss?回復(fù):開通時(shí),VDS電壓從高壓VDD到0V;關(guān)斷時(shí),VDS電壓從0V到VDD,電壓變化基本一樣,只是米勒平臺(tái)的電流不一樣,米勒平臺(tái)電壓也不一樣,二者會(huì)有差別。另外,開通、關(guān)斷的驅(qū)動(dòng)回路不一樣,也會(huì)有差別。
問(wèn)題36:開通損耗和關(guān)斷損耗計(jì)算時(shí),Ciss和Crss分別一樣嗎,都是通過(guò)數(shù)據(jù)表查找出VDS=VDD時(shí)對(duì)應(yīng)的值嗎?還是計(jì)算開通損耗時(shí),選擇VDS=VDD的電容值,計(jì)算關(guān)斷損耗時(shí),選擇VDS=ID*RDS(on)對(duì)應(yīng)的電容值?回復(fù):Ciss隨電壓的變化影響不大,Crss隨電壓變化影響非常大,計(jì)算時(shí)只能做工程簡(jiǎn)化,關(guān)斷過(guò)程和開關(guān)過(guò)程電容可以用同樣的值,具體定義請(qǐng)看公共號(hào)中功率MOSFET的電容的相關(guān)文章。
問(wèn)題37:降低米勒平臺(tái)電壓值會(huì)有什么影響?超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET設(shè)計(jì)中,反而不刻意追求快速開關(guān)?回復(fù):降低米勒平臺(tái)電壓值,可以減小開通損耗,但會(huì)提高關(guān)斷損耗。超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET由于速度太快,通常會(huì)在G極的驅(qū)動(dòng)端電容、電阻降低開關(guān)速度,減小G極的震蕩,同時(shí)控制dv/dt,極端的情況,甚至在G、D之間加電容。
問(wèn)題38:(1)用小電感大電流時(shí),線路上的雜散電感和等效直流電阻都會(huì)引起雪崩測(cè)量偏差嗎?(2)FT用小電感是為了測(cè)試效率,小電感測(cè)試時(shí)Eas比大電感時(shí)低的原因是什么?(3)如果標(biāo)稱的是能量,是不是根據(jù)能量大小就可以評(píng)估雪崩耐量而不需要去考慮用的電感量呢?回復(fù):(1)如果線路的雜散電感和測(cè)量所用的電感相比非常小,影響可以忽略,否則就要考慮雜散電感的影響。(2)小電感測(cè)量時(shí)上升的速度快、電流大,發(fā)生雪崩前器件熱量由于熱容的影響不容易耗散,器件的瞬態(tài)溫度非常高,因此雪崩能量降低。電感值越大,電流上升的時(shí)間慢,發(fā)生雪崩前器件熱量相對(duì)的耗散更多,因此雪崩能量大。電感值越大,測(cè)試時(shí)間就越長(zhǎng),拉低生產(chǎn)效率。(3)不能,仍然要考慮電感值的影響。
問(wèn)題39:輸出電容越大,Eas性能會(huì)越好,但實(shí)際上也需要輸出電容小,這兩者是不可調(diào)和的矛盾嗎?回復(fù):輸出電容只是表象,不是真正的原因,同樣的技術(shù)平臺(tái),輸出電容越大,表明硅片的尺寸越大,相對(duì)的雪崩能量更大。除了輸出電容,功率MOSFET的結(jié)構(gòu),比如加場(chǎng)板、場(chǎng)環(huán)以及工藝特點(diǎn)等許多其它因素,對(duì)雪崩能量也會(huì)有很大的影響。
問(wèn)題40:開關(guān)電源經(jīng)常會(huì)遇到雪崩情況,如同步整流能量反灌,如何確定功率MOSFET不壞?回復(fù):輸出電壓低如5V以下問(wèn)題不大,輸出電壓高如12V、19V就會(huì)產(chǎn)生問(wèn)題,從二個(gè)方面保證:輸出加反向電流檢測(cè),限制反灌電流的大小;使用雪崩能量滿足要求的功率MOSFET。
問(wèn)題41:如果每次測(cè)試雪崩,會(huì)不會(huì)造成MOSFET傷害?回復(fù):由于測(cè)量值有較大的降額,正常的規(guī)范下測(cè)量不會(huì)有傷害。
問(wèn)題42:線性區(qū)中的空穴電流由epi中耗盡層產(chǎn)生,那么這個(gè)空穴電流不是和截止?fàn)顟B(tài)時(shí)產(chǎn)生的漏電流一模一樣嗎?如果是一樣的話,截止?fàn)顟B(tài)下不會(huì)激活NPN那么線性狀態(tài)下也不會(huì)。回復(fù):工作的條件不同,如果在截止?fàn)顟B(tài)將電壓提高到雪崩電壓,就會(huì)出現(xiàn)所說(shuō)的情況。線性區(qū)電壓沒有到雪崩,但是流過(guò)大的電流,溫度和電子濃度高,加劇碰撞電離。
問(wèn)題42:(1)MOSFET開通過(guò)程中,米勒平臺(tái)振蕩,如何計(jì)算有足夠的能量打開MOSFET,以避免振蕩發(fā)生?振蕩的原因是不是VGS在米勒平臺(tái)持續(xù)的時(shí)間不夠,VDS電壓沒有完全降下去,也就是ID的電流沒有完全導(dǎo)掉,VGS已經(jīng)停止給CGD充電,但I(xiàn)D有多余的電路,反而給CGD充電,重新拉回VGS,這個(gè)過(guò)程反復(fù)循環(huán)造成振蕩?回復(fù):通常原因是VDS下降比較快,從CGD抽走電流超過(guò)了IG能提供的電流,導(dǎo)致VGS產(chǎn)生了下降,由于VGS正好處于MOSFET臨界開通的門檻電壓上,VGS輕微的下降會(huì)導(dǎo)致ID迅速變小,VDS的下降速率因此會(huì)變慢,這樣反過(guò)來(lái)減少CGD抽走的電流,于是VGS又開始上升,這樣就構(gòu)成了一個(gè)振蕩周期,寄生電感也參入振蕩的過(guò)程。
(2)實(shí)際應(yīng)用中推薦在G、S間加一個(gè)1uF左右電容,如果在G、D間加電容以增加VGS的續(xù)電流的時(shí)間,ID完全導(dǎo)掉,沒有多余的電流對(duì)CGD反向充電,應(yīng)該更容易避免振蕩。那么在G、S間加電容是什么原因呢?效果和在G、D間加電容一樣嗎,原理是什么?回復(fù):由問(wèn)題(1)的回答,振蕩的起源是從VGS的下降開始,增大CGS可以抵抗VGS的下降,因此可以有效抑制振蕩,但是缺點(diǎn)是會(huì)拉長(zhǎng)開通時(shí)間,增加損耗。G、D加電容,可以減小電容CGD隨電壓非線性突變產(chǎn)生的振蕩。
(3)如何在電路設(shè)計(jì)中避免類似的振蕩的發(fā)生?可以計(jì)算嗎?如果可以計(jì)算,是否可以利用VGS上升的斜率大于VDS下降的斜率來(lái)避免振蕩發(fā)生?回復(fù):選用開關(guān)速度較慢的MOSFET,G、D間加電容增大CGD,G、S間加電容增大CGS,但是會(huì)增加開關(guān)損耗。調(diào)整驅(qū)動(dòng)能力,優(yōu)化RG,RG增大或減小都有可能,要根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整。D、S間并聯(lián)snubber,也會(huì)增加損耗。
(4)開關(guān)損耗的計(jì)算公式中,T1-T2、T2-T3是變量嗎?會(huì)隨負(fù)載變化嗎?算出開關(guān)損耗,RG和Ciss又如何考慮?回復(fù):開關(guān)損耗的時(shí)間隨負(fù)載、MOSFET參數(shù)、PCB設(shè)計(jì)、驅(qū)動(dòng)等條件變化有很大區(qū)別,只能大致估算,如果能看到開關(guān)波形,根據(jù)波形計(jì)算是較為準(zhǔn)確的辦法。
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