TTL—Transistor-Transistor Logic 三極管-三極管邏輯
MOS—Metal-Oxide Semiconductor 金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管
CMOS—Complementary Metal-Oxide Semiconductor互補型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管
1、TTL電路
TTL電路以雙極型晶體管(三極管)為開關(guān)元件,所以又稱雙極型集成電路。雙極型數(shù)字集成電路是利用電子和空穴兩種不同極性的載流子進行電傳導(dǎo)的器件。
它具有速度高(開關(guān)速度快)、驅(qū)動能力強等優(yōu)點,但其功耗較大,集成度相對較低。
根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同,它分為54系列和74系列,前者為軍品,一般工業(yè)設(shè)備和消費類電子產(chǎn)品多用后者。
74系列數(shù)字集成電路是國際上通用的標(biāo)準(zhǔn)電路。其品種分為六大類:74(標(biāo)準(zhǔn))、74S(肖特基)、74LS××(低功耗肖特基)、74AS××(先進肖特基)、74ALS××(先進低功耗肖特基)、74F××(高速)、其邏輯功能完全相同。
2、CMOS電路
CMOS電路是由絕緣場效應(yīng)晶體管組成,由于只有一種載流子,因而是一種單極型晶體管集成電路。
它的主要優(yōu)點是輸入阻抗高、功耗低、抗干擾能力強且適合大規(guī)模集成。特別是其主導(dǎo)產(chǎn)品CMOS集成電路有著特殊的優(yōu)點,如靜態(tài)功耗幾乎為零,輸出邏輯電平可為VDD或VSS,上升和下降時間處于同數(shù)量級等,因而CMOS集成電路產(chǎn)品已成為集成電路的主流之一。
其品種包括4000系列的CMOS電路以及74系列的高速CMOS電路。其中74系列的高速CMOS電路又分為三大類:HC為CMOS工作電平;HCT為TTL工作電平(它可與74LS系列互換使用);HCU適用于無緩沖級的CMOS電路。74系列高速CMOS電路的邏輯功能和引腳排列與相應(yīng)的74LS系列的品種相同,工作速度也相當(dāng)高,功耗大為降低。
74系列可以說是我們平時接觸的最多的芯片,74系列中分為很多種,而我們平時用得最多的應(yīng)該是以下幾種:74LS,74HC,74HCT這三種
輸入電平 | 輸出電平 | |
74LS | ?TTL電平 | TTL電平 |
74HC | ?CMOS電平 | CMOS電平 |
74HCT | TTL電平 | CMOS電平 |
另外,隨著推出BiCMOS集成電路,它綜合了雙極和MOS集成電路的優(yōu)點,普通雙極型門電路的長處正在逐漸消失,一些曾經(jīng)占主導(dǎo)地位的TTL系列產(chǎn)品正在逐漸退出市場。CMOS門電路不斷改進工藝,正朝著高速、低耗、大驅(qū)動能力、低電源電壓的方向發(fā)展。BiCMOS集成電路的輸入門電路采用CMOS工藝,其輸出端采用雙極型推拉式輸出方式,既具有CMOS的優(yōu)勢,又具有雙極型的長處,已成為集成門電路的新寵。
3、CMOS集成電路的性能及特點
- 功耗低
- 工作電壓范圍寬
- 邏輯擺幅大
- 抗干擾能力強
隨著電源電壓的增加,噪聲容限電壓的絕對值將成比例增加。對于VDD=15V的供電電壓(當(dāng)VSS=0V時),電路將有7V左右的噪聲容限。
- 輸入阻抗高
- 溫度穩(wěn)定性能好
- 扇出能力強
- 抗輻射能力強
- 可控性好
- 接口方便
Q為什么BJT比CMOS速度要快?A主要是受遷移率的影響。以NPN管和NMOS為例,BJT中的遷移率是體遷移率,大約為1350cm2/vs。NMOS中是半導(dǎo)體表面遷移率,大約在400-600cm2/vs。所以BJT的跨導(dǎo)要高于MOS的,速度快于MOS。這也是NPN(NMOS)比PNP(PMOS)快的原因。
NPN比PNP快也是因為載流子遷移率不同,NPN中的基區(qū)少子是電子,遷移率大(1350左右);PNP的基區(qū)少子是空穴(480左右)。所以同樣的結(jié)構(gòu)和尺寸的管子,NPN比PNP快。所以在雙極工藝中,是以作NPN管為主,PNP都是在兼容的基礎(chǔ)上做出來的。MOS工藝都是以N阱PSUB工藝為主,這種工藝可做寄生的PNP管,要做NPN管就要是P阱NSUB工藝。
BJT是之所以叫bipolar,是因為基區(qū)中既存在空穴又存在電子,是兩種載流子參與導(dǎo)電的;而MOS器件的反形層中只有一種載流子參與導(dǎo)電。
但并不是因為兩種載流子導(dǎo)電總的遷移率就大了。而且情況可能恰恰相反。因為載流子的遷移率是與溫度和摻雜濃度有關(guān)的。半導(dǎo)體的摻雜濃度越高,遷移率越小。而在BJT中,少子的遷移率起主要作用。
NPN管比PNP管快的原因是NPN的基子少子是電子,PNP的是空穴,電子的遷移率比空穴大。NMOS比PMOS快也是這個原因。
而NPN比NMOS快的原因是NPN是體器件,其載流子的遷移率是半導(dǎo)體內(nèi)的遷移率;NMOS是表面器件,其載流子的遷移率是表面遷移率(因為反形層是在柵氧下的表面形成的)。而半導(dǎo)體的體遷移率大于表面遷移率。
END
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