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[導讀]與包括SiC MOSFET、硅MOSFET和GaN HEMT在內(nèi)的其他可用功率晶體管相比,常開型SiC JFET的單位芯片面積具有更低的導通阻抗。如圖1a所示,當?shù)蛪篗OSFET堆疊在JFET上時,為了實現(xiàn)圖1b的共源共柵架構(gòu),就形成了低阻抗常關(guān)斷型開關(guān)

功率半導體開關(guān)通常在用于電路設(shè)計時,能夠在不增加開關(guān)損耗的情況下減小電流傳導期間的損耗,這是其一大優(yōu)勢。在各種電路保護應(yīng)用中,器件需要連續(xù)傳送電流,較低的傳導態(tài)損耗有利于使系統(tǒng)保持較高的效率,并將產(chǎn)生的廢熱降至最低。如果在這些應(yīng)用中需要放心地使用這些功率開關(guān),必須滿足各種類型的耐用性標準。

在本文中,我們將討論最先進的低阻抗功率半導體開關(guān),介紹其關(guān)鍵特性和應(yīng)用優(yōu)勢。這些開是由UnitedSiC開發(fā),采用堆疊式共源共柵(cascode)技術(shù),其中將一個特殊設(shè)計,阻抗低于1mΩ的硅低壓MOSFET堆疊在一個阻抗低于10mΩ的650~1200V常開型碳化硅(SiC) JFET之上。所形成的復合器件被稱為SiC FET,可以像標準硅器件一樣進行驅(qū)動,但是與硅IGBT、硅MOSFET和SiC MOSFET相比,具有許多優(yōu)勢。

什么是堆疊式共源共柵?

與包括SiC MOSFET、硅MOSFET和GaN HEMT在內(nèi)的其他可用功率晶體管相比,常開型SiC JFET的單位芯片面積具有更低的導通阻抗。如圖1a所示,當?shù)蛪篗OSFET堆疊在JFET上時,為了實現(xiàn)圖1b的共源共柵架構(gòu),就形成了低阻抗常關(guān)斷型開關(guān),稱為堆疊式共源共柵,其阻抗是低壓MOSFET和SiC JFET阻抗之和,根據(jù)所選擇的MOSFET和JFET的不同,其阻抗可能比JFET阻抗高5~20%。

顯示了8.6mΩ,1200V堆疊芯片UF3SC12009Z的尺寸。由于在組裝之前將低壓MOSFET預堆疊在JFET上,因此該復合器件與標準組裝管芯連接和引線鍵合設(shè)備兼容。而且,很有意義的是,該器件適合用于電源模塊,并且還可通過TO247-4L封裝提供(器件名稱UF3SC12009K4S)。

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