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摘 要: 設(shè)計了一種低功耗的多電源多地電壓多米諾電路。該電路在多電源電壓技術(shù)的基礎(chǔ)上,通過提高地電壓并采用共阱工藝降低功耗及優(yōu)化面積。該設(shè)計采用Charter 0.35 ?滋m 2P4M N阱CMOS標準工藝完成。Spectre仿真結(jié)果表明,在相同的速度下,多電源多地電壓多米諾電路比傳統(tǒng)的多米諾電路的功耗減少了25%左右。
關(guān)鍵詞: 低功耗;多電源多地電壓;共阱工藝

多米諾電路以其速度快的優(yōu)良特性,被廣泛應(yīng)用于微處理器、存儲器、緩存器和探測器中的高速運算電路及其關(guān)鍵路徑中,是工作頻率在2 GHz以上系統(tǒng)中的最主流動態(tài)邏輯電路[1-3]。但是,隨著半導(dǎo)體工藝的飛速發(fā)展和芯片工作頻率的提高,芯片的功耗迅速增加。尤其在手機、掌上電腦(PDA)、筆記本電腦等大量便攜式設(shè)備出現(xiàn)以后,人們對低功耗的要求更加迫切[4,5]。
在現(xiàn)有諸多降低多米諾電路功耗的方法中,多電源電壓技術(shù)是被業(yè)界廣泛應(yīng)用和認可的低功耗技術(shù)[6]。但是,多電源電壓技術(shù)只考慮電源電壓,而忽略了地電壓,如果同時對地電壓進行優(yōu)化,多米諾電路的功耗可以進一步降低。另外,由于N阱工藝設(shè)計規(guī)則對N阱隔離的要求,不同的電源必須置于不同的N阱之中,由此造成版圖面積急劇增大。因此,進一步優(yōu)化多電源技術(shù)的功耗特性,同時解決該技術(shù)版圖過大的問題,是電路設(shè)計者面臨的關(guān)鍵問題。本文對多電源電壓多米諾電路的地電壓進行了有效的優(yōu)化,并提出了共阱多地技術(shù),節(jié)省了版圖面積,從而使多米諾電路滿足當今集成電路發(fā)展中在速度、功耗和面積方面的要求,具有更加廣闊的應(yīng)用前景。
1 共阱多地技術(shù)的提出
傳統(tǒng)的多電源電壓多米諾電路如圖1(a)所示,在電路中采用低電源電壓VDDl來代替高電源電壓VDDh,由CMOS電路的功耗模型(式(1))可知,隨著電源電壓的降低,多米諾電路的功耗將明顯減小。多米諾電路的版圖設(shè)計如圖1(b)所示,由于兩個PMOS管分別與不同的電源電壓相連接,所以兩N阱隔離。但是從圖中可以明顯看出,應(yīng)用此種方法,版圖設(shè)計復(fù)雜且大大增加了面積。此外,從式(1)還可以看出,除了降低電源電壓即在電路中應(yīng)用低電源電壓技術(shù)外,還可以通過降低邏輯擺幅Vswing的方法,抑制電路的功耗,即應(yīng)用高地電壓GNDh (GNDh>0 V),使邏輯擺幅由原來的VDD-GND變?yōu)閂DDl-GND,或是VDD-GNDh,或是VDDl-GNDh,如圖2和表1所示。

管的源極連接在低電源電壓VDDl電源線上,襯底連接在高電源電壓VDDh上,NMOS的源極連接在高地電壓GND上,襯底連接在標準地電壓GND上。所以,不論是NMOS管還是PMOS管,均存在襯底反偏效應(yīng),如式(2)所示。



本文分析了四種電路結(jié)構(gòu)的多米諾門:第一種結(jié)構(gòu)是最基本的,即未采用任何優(yōu)化方法的多米諾結(jié)構(gòu);第二種是采用多電源電壓技術(shù)但不采用共阱工藝的多米諾結(jié)構(gòu);第三種是采用多電源電壓技術(shù)并采用共阱工藝的多米諾結(jié)構(gòu);第四種是采用共阱工藝的多電源和多地電壓技術(shù)的多米諾結(jié)構(gòu)。仿真結(jié)果如圖4和圖5所示,圖中的功耗和面積數(shù)值分別以第一種結(jié)構(gòu)的多米諾門的功耗和面積進行了歸一化。
圖4顯示出了不同多米諾門的功耗特性。由圖4可以看出,多電源電壓多米諾結(jié)構(gòu)比傳統(tǒng)多米諾結(jié)構(gòu)的功耗減少了16%;采用共阱工藝的多電源電壓多米諾結(jié)構(gòu)比未采用共阱工藝的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的功耗略小,這主要是MOS管反偏的結(jié)果;而多電源電壓多地共阱結(jié)構(gòu)則比傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的功耗減少了25%以上,比只采用了多電源電壓結(jié)構(gòu)的多米諾電路功耗減小了13%,這說明多電源電壓多地共阱結(jié)構(gòu)具有最優(yōu)的功耗特性。

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