Altera與臺積宣布在55納米嵌入式閃存工藝技術領域合作

公司與臺積公司()今日共同宣布在55納米嵌入式閃存 (EmbFlash) 工藝技術上展開合作，公司將采用臺積公司的55納米前沿嵌入式閃存工藝技術生產可程序器件，廣泛支持汽車及工業(yè)等各類市場的多種低功耗、大批量應用。

相較于前一代的嵌入式閃存工藝，臺積公司55納米嵌入式閃存工藝提供更快速的計算能力，邏輯門密度提高十倍，而且閃存及單位元尺寸減小幅度分別達到70%及80%，公司采用臺積公司55納米嵌入式閃存工藝生產的可程序器件能支持大批量應用開發(fā)人員構建功能豐富的非易失系統(tǒng)。

Altera公司工藝技術開發(fā)副總裁Reda Razouk表示：“我們與臺積公司的關系構建在共同承諾的基礎之上，致力于提供客戶最新的工藝技術，在我們的系列產品中增加新的55納米嵌入式閃存產品將延續(xù)Altera公司所秉承的訂制策略，在工藝技術、架構、體系結構和專用IP基礎上進行產品優(yōu)化以滿足系統(tǒng)性能的需求。”

臺積公司全球業(yè)務暨營銷資深副總經(jīng)理陳俊圣表示：“臺積公司在55納米嵌入式閃存等技術上的持續(xù)投入為Altera及客戶拓展更多商機，藉由相互謀合雙方在事業(yè)與技術上所追求的目標，Altera公司進一步提升客戶產品的競爭力。”