Vishay發(fā)布應(yīng)用于國(guó)防和航天的新款QPL氮化鉭薄膜片式電阻

賓夕法尼亞、MALVERN — 2012 年 11 月1 日 — 日前， Intertechnology, Inc.( 股市代號(hào)：VSH)宣布，推出通過(guò)QPL MIL-PRF-55342測(cè)試的新款表面貼裝---E/H (Ta2N) QPL，保證可靠性達(dá)到的“M”級(jí)失效率。新的E/H (Ta2N) QPL電阻使用耐潮的氮化鉭電阻膜技術(shù)制造，為國(guó)防和應(yīng)用提供了增強(qiáng)的性能規(guī)格，包括0.1%的容差和25ppm/℃的TCR。

E/H (Ta2N) QPL電阻適用于國(guó)防和應(yīng)用的控制系統(tǒng)，這些應(yīng)用需要考慮在潮濕條件下工作或長(zhǎng)期的儲(chǔ)存問(wèn)題。器件的氮化鉭電阻膜可確保耐潮水平超過(guò)MIL-PRF-55342限值的50倍。

E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜電阻具有不到-25dB的極低噪聲和0.5ppm/V的電壓系數(shù)。電阻的卷繞式端接采用了一個(gè)粘性很強(qiáng)的粘合層，上面覆蓋的電鍍鎳柵層可適應(yīng)+150℃的工作條件，對(duì)典型電阻的影響小于0.010?。

新電阻采用01至12的外形尺寸，功率等級(jí)為50mW～1000mW，工作電壓為40V～，根據(jù)不同的容差，阻值范圍為49.9?～3.3M?。

E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜現(xiàn)已量產(chǎn)，供貨周期為八周到十周。