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[導讀]《福布斯》:納米技術(shù)能否拯救芯片制造工業(yè)

 導讀:《福布斯》網(wǎng)站日前刊登了分析文章指出,對于芯片業(yè)制造業(yè)的未來發(fā)展,不少業(yè)界人士曾表示,在未來的10年中,整個芯片業(yè)都將依賴于納米技術(shù)。那么納米技術(shù)是否像眾多專家所說的那樣,將在芯片業(yè)的未來制造過程中扮演起至關(guān)重要的角色呢?

  多年來,芯片業(yè)一直采用著光刻的方法來進行芯片制造。如英特爾及AMD都是如此。所謂光刻法,就是利用光源的引導對硅片進行蝕刻加工的過程。但為了使摩爾定律(即每隔18個月芯片的處理能力會提高一倍;換句話說,每隔18個月同等面積芯片上的晶體管數(shù)目會增加一倍)繼續(xù)保持它的有效性,傳統(tǒng)的光刻法在未來芯片制造過程中就會面臨著諸多難題。

  英特爾在1971年推出自己的首款芯片4004時,它上面的晶體管數(shù)目為2000個;但目前普通芯片上的晶體管數(shù)目已經(jīng)高達1億多個。按照這種發(fā)展速度,傳統(tǒng)的光刻法總有一天無法發(fā)揮它的作用。那么在未來的芯片制造中,該由什么樣的新技術(shù)來取代傳統(tǒng)的光刻法呢?有關(guān)專家由此提出了“納米蝕刻法(Nanoimprint lithography,簡稱NIL)”。

  美國普林斯頓大學工程學教授斯蒂芬-周(Stephen Chou)是納米蝕刻法思想的最初倡導者。對于納米蝕刻技術(shù)的工作原理,授斯蒂芬實驗室的工作人員克里斯-凱梅爾(Chris Keimel)作了如下解釋:“NIL的工作原理與報刊印刷一樣,這就是要先設(shè)計好相應的模型。NIL也是先設(shè)計好相應的模型,然后蝕刻到芯片上,再通過紫外線對其進行加熱或矯正,如此就能今后芯片的加工準確度達到10納米的標準?!?/P>

  美國的NanoNex是一家只有10名員工的科技創(chuàng)業(yè)公司。它與斯蒂芬-周的實驗室建立了技術(shù)伙伴合作關(guān)系。目前NanoNex已經(jīng)在向市場銷售3種類型的納米蝕刻機器。其中包括遮光板、聚合體材料及相應的制造工序。其中最重要的材料是NanoNex所銷售的聚合體材料。這也是NanoNex最值錢的產(chǎn)品,原因是對于這種聚合體的合成方法,NanoNex是絕對不會泄露給外人的,就像可口可樂的神秘配方一樣。

  然而NanoNex目前也面臨著自己的市場壓力。原因是世界范圍內(nèi)的許多科技公司受到了斯蒂芬-周上述思想的啟發(fā)后,他們也在自我開發(fā)與NIL相類似的技術(shù)。其中的一家名為Molecular Imprints的美國公司就對NanoNex構(gòu)成了很大的壓力。Molecular Imprints在研發(fā)資金上得到了摩托羅拉、Lam Research及KLA-Tencor三家公司的大力支持。

  Molecular Imprints對斯蒂芬-周的最初方案進行了相應修訂,并將之命名為“步進與閃光蝕刻技術(shù)(簡稱SFIL)”。與NIL技術(shù)相比,SFIL在生物及醫(yī)學芯片的制造上還超過了前者。除此之外,Molecular Imprints還聲稱自己的產(chǎn)品價格也更有競爭力。目前Molecular Imprints共有33名員工。由于在研發(fā)資金上沒有后顧之憂,該公司已經(jīng)取得了較好的市場業(yè)績。

  與此同時,歐洲的兩家公司也對NanoNex構(gòu)成了潛在的市場威脅。它們是瑞典的Obducat AB和奧地利的EV集團。自2001年下半年以來,Obducat已經(jīng)推出了25種納米技術(shù)蝕刻機器。美國通用電氣旗下的Plastics業(yè)務部門此前已經(jīng)與Obducat建立了合作開發(fā)關(guān)系,以共同生產(chǎn)更高級的聚合體材料。EV集團也在該業(yè)務領(lǐng)域取得了不俗的業(yè)績,它的未來發(fā)展也非常值得關(guān)注。

  業(yè)界人士認為,如果上述公司不建立起自己的行業(yè)聯(lián)盟,則它們中的一家或全部都很有可能在將來被芯片巨頭并購掉。斯蒂芬-周表示,目前上述數(shù)家公司首先應該聯(lián)合起來,這樣才能解決好大家都面臨的一些技術(shù)難題。只有在技術(shù)上真正過關(guān)了,各大芯片制造商們就會對新的納米制造技術(shù)表現(xiàn)出強烈的興趣。由此看來,納米技術(shù)最終取代傳統(tǒng)的光刻制造技術(shù),也只是個時間早晚的問題。(原文作者:Josh Wolfe;明月編譯)

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