三星或于下年推出7nm和11nm半導體工藝

三星宣布，新加入了11nm LPP工藝，性能比此前的14nm提升了15%，單位面積的功耗降低了10%。三星將于9月15日在東京舉辦的半導體會議上公布，未來的技術還會有所提升。

三星表示，10nm用于旗艦手機，11nm用于中高端，來提供給不同需求，預計2018年上半年在市場投放。與此同時，三星也成為了市場上最先確認7nm的企業(yè)，其7nm LPP定于2018下半年量產，采用EUV極紫外光刻技術。