三星明年推出7nm和11nm工藝,性能大漲

 三星宣布，新加入了11nm LPP工藝，性能比此前的14nm提升了15%，單位面積的功耗降低了10%。三星將于9月15日在東京舉辦的半導(dǎo)體會(huì)議上公布，未來的技術(shù)還會(huì)有所提升。

三星表示，10nm用于旗艦手機(jī)，11nm用于中高端，來提供給不同需求，預(yù)計(jì)2018年上半年在市場投放。與此同時(shí)，三星也成為了市場上最先確認(rèn)7nm的企業(yè)，其7nm LPP定于2018下半年量產(chǎn)，采用EUV極紫外光刻技術(shù)。