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[導(dǎo)讀]聯(lián)電將跳過20奈米(nm)制程節(jié)點(diǎn),全力卡位14奈米鰭式電晶體(FinFET)市場。由于20奈米研發(fā)所費(fèi)不貲,加上市場需求仍不明朗,因此聯(lián)電已計(jì)劃在量產(chǎn)28奈米后,直接跨過20奈米節(jié)點(diǎn),加速挺進(jìn)更具投資效益的14奈米FinFET世

聯(lián)電將跳過20奈米(nm)制程節(jié)點(diǎn),全力卡位14奈米鰭式電晶體(FinFET)市場。由于20奈米研發(fā)所費(fèi)不貲,加上市場需求仍不明朗,因此聯(lián)電已計(jì)劃在量產(chǎn)28奈米后,直接跨過20奈米節(jié)點(diǎn),加速挺進(jìn)更具投資效益的14奈米FinFET世代,以與臺積電、格羅方德(GLOBALFOUNDRIES)和三星(Samsung)一較高下。
聯(lián)電市場行銷處處長黃克勤表示,20奈米制程帶來的效益將不如從40奈米演進(jìn)至28奈米的水準(zhǔn),且須導(dǎo)入雙重曝光(Double Patterning)方案,勢將增加一筆可觀花費(fèi),已使處理器業(yè)者的導(dǎo)入意愿開始動(dòng)搖;再加上主要晶圓代工業(yè)者皆規(guī)畫在2015年推出16或14奈米FinFET制程,在多方權(quán)衡之下,聯(lián)電遂決定放緩20奈米投資,專心克服14奈米FinFET牽涉的材料摻雜、測試驗(yàn)證和晶圓前后段混搭制程等技術(shù)挑戰(zhàn),以因應(yīng)即將到來的FinFET市場卡位戰(zhàn)。

據(jù)悉,28奈米高介電系數(shù)金屬閘極(HKMG)系一具主導(dǎo)性、生命周期較長的制程方案;相形之下,20奈米可能成為非主流制程(Weak Node),因晶片效能提升與投資成本效益不一定勝過直接導(dǎo)入14奈米FinFET,僅有一線處理器大廠為維持技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢才會計(jì)劃采用。

事實(shí)上,聯(lián)電在今年首季即公布其未來的制程演進(jìn)藍(lán)圖與主力推動(dòng)技術(shù),其中獨(dú)漏20奈米規(guī)畫已現(xiàn)端倪。黃克勤指出,目前聯(lián)電已將火力對準(zhǔn)中國大陸應(yīng)用處理器開發(fā)商,以及智慧電視(Smart TV)和機(jī)上盒(STB)晶片商導(dǎo)入28奈米制程的龐大需求商機(jī),積極拉攏新客戶,以刺激旗下28奈米制程營收成長。

至于下一階段的發(fā)展策略,聯(lián)電亦已押寶14奈米FinFET制程,將于2015年上市,與臺積電、格羅方德三星等大廠展開廝殺。

黃克勤強(qiáng)調(diào),英特爾(Intel)率先投入FinFET制程量產(chǎn),大幅提高處理器效能并降低功耗,近來在行動(dòng)裝置品牌市場已有不錯(cuò)成績;一旦其市占持續(xù)攀升,勢將影響高通(Qualcomm)與相關(guān)晶圓代工供應(yīng)鏈的投資計(jì)劃,并加速制程研發(fā)步調(diào),以免技術(shù)差距持續(xù)被拉大。因應(yīng)此一趨勢,聯(lián)電遂傾向?qū)①Y源集中在FinFET技術(shù)上,并跳過20奈米制程發(fā)展以免節(jié)外生枝。

圖說:聯(lián)電市場行銷處處長黃克勤認(rèn)為,2015年底聯(lián)電將揭橥具體的10奈米FinFET制程生產(chǎn)計(jì)劃,以配合處理器世代更迭的需求。



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