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[導(dǎo)讀]美國(guó)Kyma公司新推出高摻雜n+型氮化鎵體單晶襯底,尺寸為10 ′10 mm-2和18 ′18 mm-2,同時(shí)他們也正在研發(fā)直徑2英寸的氮化鎵襯底,下一步是進(jìn)入量產(chǎn)階段。這次Kyma新研制的高摻雜n+型氮化鎵襯底的電阻率小于0.02歐姆厘

美國(guó)Kyma公司新推出高摻雜n+型氮化鎵單晶襯底,尺寸為10 ′10 mm-2和18 ′18 mm-2,同時(shí)他們也正在研發(fā)直徑2英寸的氮化鎵襯底,下一步是進(jìn)入量產(chǎn)階段。這次Kyma新研制的高摻雜n+型氮化鎵襯底的電阻率小于0.02歐姆厘米,導(dǎo)電能力得到極大提高,電阻率比他們以前的n型氮化鎵襯底低兩個(gè)數(shù)量級(jí)。此外,Kyma也成功開發(fā)了高摻雜n+型氮化鎵襯底晶片,n型載流子濃度達(dá)到了6′1018 cm-3,對(duì)應(yīng)電阻率僅為0.005歐姆厘米。Kyma公司此前的n型氮化鎵產(chǎn)品仍然在出售,以后將被標(biāo)記為n-型號(hào)。

對(duì)于很多半導(dǎo)體材料和器件研究而言,盡管n-型氮化鎵仍可作為一種較好的初始生長(zhǎng)材料,n+型氮化鎵則更有優(yōu)勢(shì),特別是對(duì)于垂直結(jié)構(gòu)器件和降低器件接觸電阻方面。在垂直功率電子器件方面,n+型氮化鎵可獲得超低的電阻,同時(shí)也降低了寄生電阻。而在LED等光電子器件方面,n+型氮化鎵可獲得低的垂直電阻,有效降低電流擁擠效應(yīng)的發(fā)生。通過(guò)這些具有高電子濃度導(dǎo)電襯底的使用,將會(huì)使功率電子器件和光電子器件的性能和使用壽命得到大幅度提高,具有重大應(yīng)用價(jià)值。

Kyma公司是一家專門生產(chǎn)氮化鎵和氮化鋁晶體材料的公司,這些材料在高性能的氮化物半導(dǎo)體器件方面具有廣泛應(yīng)用。從長(zhǎng)期看,氮化物半導(dǎo)體器件市場(chǎng)預(yù)計(jì)超過(guò)900億美元,其中在可見光領(lǐng)域的市場(chǎng)應(yīng)用超過(guò)600億美元,在功率微電子器件方面的應(yīng)用超過(guò)300億美元,市場(chǎng)前景廣闊。



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