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[導(dǎo)讀]臺(tái)積電年底40納米即將導(dǎo)入量產(chǎn),對(duì)次世代32納米技術(shù)也有了新規(guī)劃,除了提供一般型及低功耗的32納米技術(shù)外,近期業(yè)內(nèi)已傳出將提供高介電金屬柵電極(High-K Metal Gate,HKMG)技術(shù)。

據(jù)Chinatimes報(bào)道,臺(tái)積電年底40納米即將導(dǎo)入量產(chǎn),對(duì)次世代32納米技術(shù)也有了新規(guī)劃,除了提供一般型及低功耗的32納米技術(shù)外,近期業(yè)內(nèi)已傳出將提供高介電金屬柵電極(High-K Metal Gate,HKMG)技術(shù),此舉等同于可提供中央處理器(CPU)代工服務(wù),業(yè)內(nèi)預(yù)期這是為了爭(zhēng)取AMD處理器訂單而先行鋪路。 

臺(tái)積電于今年3月底正式推出40納米晶圓共乘服務(wù),提供客戶泛用型制程(40G)及低耗電制程(40LP)等兩種制程,下半年亦有多個(gè)產(chǎn)品完成設(shè)計(jì)定案(tape-out),明年第二季將推出行動(dòng)通訊制程(40LPG),確實(shí)已獲得數(shù)十個(gè)客戶進(jìn)行產(chǎn)品設(shè)計(jì)。臺(tái)積電預(yù)計(jì)年底40納米的量產(chǎn)將如期進(jìn)行,明年將轉(zhuǎn)入40納米投片的客戶,已包括高通(Qualcomm)、阿爾特拉(Altera)、英偉達(dá)(NVIDIA)、AMD等。 

臺(tái)積電持續(xù)基于摩爾定律進(jìn)行制程微縮工程,明年底將推出32納米制程,原本只計(jì)劃提供泛用型制程(32G)及低耗電制程(32LP)等兩種,但是臺(tái)積電已經(jīng)開始著手32納米的HKMG制程,以利其后續(xù)爭(zhēng)取更多的中央處理器代工訂單。 

設(shè)備商表示,目前先進(jìn)制程微縮至32納米有兩大挑戰(zhàn),一是微影技術(shù)(Lithography)的微縮問題,二是愿意導(dǎo)入32納米的邏輯組件訂單十分有限,且每項(xiàng)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)研發(fā)金額高達(dá)7,500萬美元,較45及40納米高出50%。臺(tái)積電為了如期提供32納米技術(shù),已透過雙重曝影(double patterning)方式,將浸潤(rùn)式(immersion)微影技術(shù)應(yīng)用延伸至32納米,現(xiàn)在面臨的問題則是要找到夠多的訂單填補(bǔ)開出的產(chǎn)能。 

業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電希望以處理器代工訂單做為32納米最大需求來源,所以才會(huì)增加32納米HKMG技術(shù),因?yàn)槌似錇镾un計(jì)算機(jī)代工的Sparc處理器,可能需要用到HKMG技術(shù)來降低漏電,也可開始為其一年來積極爭(zhēng)取的AMD處理器代工訂單進(jìn)行鋪路,因?yàn)?strong>AMD已透露32納米世代可能導(dǎo)入HKMG技術(shù)。
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