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[導讀]晶圓代工廠邁入高投資與技術門檻的鰭式場效電晶體(FinFET)制程世代后,與整合元件制造商(IDM)的競爭將更為激烈,因此臺積電正積極籌組大聯(lián)盟(Grand Alliance),串連矽智財(IP)、半導體設備/材料,以及電子設計自動化

晶圓代工廠邁入高投資與技術門檻的鰭式場效電晶體(FinFET)制程世代后,與整合元件制造商(IDM)的競爭將更為激烈,因此臺積電正積極籌組大聯(lián)盟(Grand Alliance),串連矽智財(IP)、半導體設備/材料,以及電子設計自動化(EDA)供應商等合作夥伴的力量,強化在FinFET市場的競爭力。

臺積電董事長暨總執(zhí)行長張忠謀提到,今年臺積電雖屢創(chuàng)季營收新高,但第四季因客戶調整庫存可能出現(xiàn)微幅下滑的情形。

臺積電董事長暨總執(zhí)行長張忠謀表示,臺積電在20奈米(nm)市場仍未看到具威脅性的對手,可望延續(xù)制程領先腳步,目前已開始安裝設備,明年第一季將如期量產。然而,他也坦言,隨著一線晶圓廠紛紛于2015年進入14或16奈米FinFET制程后,臺積電確實將面臨更大的競爭壓力,特別是來自三星、英特爾等IDM大廠的威脅力道最劇,必須提早發(fā)動因應策略。

事實上,F(xiàn)inFET技術更復雜、投資金額也更巨大,晶圓代工廠很難再以孤軍奮戰(zhàn)的策略進行研發(fā),因此臺積電正如火如荼組織產業(yè)同盟,目前已與益華電腦(Cadence)、明導國際(Mentor Graphics)等EDA工具商,以及安謀國際(ARM)和Imagination等IP業(yè)者達成共識,未來將共同在臺積電開放創(chuàng)新平臺(OIP)上挹注創(chuàng)新技術能量,加速優(yōu)化16奈米FinFET制程。張忠謀認為,產業(yè)大聯(lián)盟重要性在于相互融合不同廠商的長處,以研制最出色的制程解決方案,這將是臺積電與IDM較勁最關鍵的優(yōu)勢。

除聯(lián)合異業(yè)夥伴共同出擊外,張忠謀也透露,臺積電在今明兩年都將以95~100億美元的高額資本支出,不斷擴充FinFET研發(fā)團隊和產能,現(xiàn)已與大客戶展開合作,搶先掌握許多16奈米FinFET設計定案(Tape Out)。

此外,臺積電也緊鑼密鼓投入再下一代的10奈米FinFET制程布局,避免在任何新技術節(jié)點的發(fā)展被對手超前。據悉,該公司與艾司摩爾(ASML)共同投入研發(fā)次世代極紫外光(EUV)微影技術,已逐步進入收割階段,可望在2017年正式用于10奈米晶圓,大幅提高吞吐量與生產效率。

張忠謀強調,在FinFET時代,臺積電以晶圓代工廠的定位與IDM角逐市場還算有競爭力,但比較辛苦;若以產業(yè)大聯(lián)盟的方式將非常有競爭力,有信心能提供更完整的制程服務和更高品質的晶片。

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