此前曾有消息稱,臺積電計劃推出一種新的12nm制造工藝,但并非全新研發(fā),而是16nm工藝的第四代改良版本。
在最近的一次財務(wù)會議上,有分析師詢問臺積電高層,是否真的有12nm,得到回應(yīng)稱確實在研究類似的東西,但沒有明確提及12nm,可能對于這個命名還不是很確定。
臺積電同時表示,其策略始終都是持續(xù)改進每一代工藝,包括28nm。
按照此前報道,臺積電所謂的12nm相比于現(xiàn)在的16nm,可帶來更高的晶體管集成度、更好的性能、更低的功耗,配得上12nm這個名字,同時也可以更好地用來反擊三星、GlobalFoundries、中芯國際等對手的14nm
目前,臺積電16nm工藝已經(jīng)有多個版本,包括FinFET、FinFET Plus、FinFET Compact等,適用于不同領(lǐng)域。
臺積電的下一步是10nm,目前已經(jīng)進入初步量產(chǎn)階段,首批重點客戶包括蘋果A11、華為麒麟970、聯(lián)發(fā)科Helio X30。高通的驍龍835則使用三星10nm。
Intel:我費心費力終于快搞出10nm,你這改個名字就快追上我了……