NVIDIA上周發(fā)布了圖靈架構的新一代GeForce RTX顯卡，主要有RTX 2080 Ti、RTX 2080及RTX 2070三款顯卡，它們使用的是12nm FFN工藝的Turing圖靈核心。圖靈架構顯卡帶來了全新的光線追蹤渲染技術，不過它的架構、工藝跟Volta變化并不是很大，而且這代卡主打高端市場，中低端產(chǎn)品可能不會有的。NVIDIA再下一代的顯卡代號Ampere安培，將升級到7nm工藝，雖然性能還是未知數(shù)，但是7nm工藝的一個好處就是核心面積大幅降低，現(xiàn)在754mm2的GV102或者TU102核心面積將降低到440mm2左右。
3DCenter網(wǎng)站在上周的一篇文章中總結(jié)了NVIDIA公司2016-2020年的GPU芯片路線圖，Pascal架構的那一代不用說了，主要是新的Volta/Turing 12nm芯片及未來的Ampere 7nm芯片。
他們這個路線圖其實也不是最近才有的了，之前3DCenter就做過一個匯總，不同的是這次做了更直觀的圖表，在12nm工藝的Volta/Turing顯卡中，目前主要有三種核心——GV100的核心面積高達815mm2，GV102也就是現(xiàn)在的TU102核心是754mm2，GV014也就是TU104核心面積他們估算的是500mm2，實際上我們之前也做過精確測算，核心面積在530-550mm2左右。
Volta/Turing架構的芯片可能就只有這三款了，之前一直傳聞還有RTX 2060顯卡，不過現(xiàn)在也不確定一定會有，12nm節(jié)點的GPU架構更適合高性能計算及AI運算，圖靈雖然增加了游戲用的光線追蹤核心，但是總體還是Volta的架構，核心面積比Pascal這一代都大多了，成本很高，對低端產(chǎn)品更不利。
主流市場玩家還是等下一代的7nm工藝Ampere顯卡吧，雖然現(xiàn)在還沒影子，不過3DCenter根據(jù)7nm工藝的特點做了估算，使用新工藝之后安培架構的GPU核心面積大幅降低，GA100會降至550mm2左右，GA102核心降至440mm2，GA104核心只有290mm2，而主流市場的GA106只有190mm2、GA107則是120mm2，入門級的GA108核心只有67mm2。
對比來看的話，7nm安培GPU核心面積同比下降了大概30-40%，這對降低成本以及制造難度都有幫助。
NVIDIA的7nm GPU也將是臺積電代工，在7nm節(jié)點臺積電也準備了多個分發(fā)，7nm高性能工藝已經(jīng)可以用來給AMD代工高端CPU了。根據(jù)臺積電消息，與16nm FF工藝(12nm FFN工藝也是16nm工藝的改進版)相比，臺積電的7nm工藝(代號N7)將提升35%的性能，降低65%的能耗，同時晶體管密度是之前的三倍。2019年初則會推出EUV工藝的7nm+(代號N7+)工藝，晶體管密度再提升20%，功耗降低10%，不能性能沒有變化。
下載文檔
