NVIDIA下下代顯卡路線圖來了：代號(hào)安培，7nm，核心面積大降

NVIDIA上周發(fā)布了圖靈架構(gòu)的新一代GeForce RTX顯卡，主要有RTX 2080 Ti、RTX 2080及RTX 2070三款顯卡，它們使用的是12nm FFN工藝的Turing圖靈核心。圖靈架構(gòu)顯卡帶來了全新的光線追蹤渲染技術(shù)，不過它的架構(gòu)、工藝跟Volta變化并不是很大，而且這代卡主打高端市場，中低端產(chǎn)品可能不會(huì)有的。NVIDIA再下一代的顯卡代號(hào)Ampere安培，將升級到7nm工藝，雖然性能還是未知數(shù)，但是7nm工藝的一個(gè)好處就是核心面積大幅降低，現(xiàn)在754mm2的GV102或者TU102核心面積將降低到440mm2左右。

3DCenter網(wǎng)站在上周的一篇文章中總結(jié)了NVIDIA公司2016-2020年的GPU芯片路線圖，Pascal架構(gòu)的那一代不用說了，主要是新的Volta/Turing 12nm芯片及未來的Ampere 7nm芯片。

他們這個(gè)路線圖其實(shí)也不是最近才有的了，之前3DCenter就做過一個(gè)匯總，不同的是這次做了更直觀的圖表，在12nm工藝的Volta/Turing顯卡中，目前主要有三種核心——GV100的核心面積高達(dá)815mm2，GV102也就是現(xiàn)在的TU102核心是754mm2，GV014也就是TU104核心面積他們估算的是500mm2，實(shí)際上我們之前也做過精確測算，核心面積在530-550mm2左右。

Volta/Turing架構(gòu)的芯片可能就只有這三款了，之前一直傳聞還有RTX 2060顯卡，不過現(xiàn)在也不確定一定會(huì)有，12nm節(jié)點(diǎn)的GPU架構(gòu)更適合高性能計(jì)算及AI運(yùn)算，圖靈雖然增加了游戲用的光線追蹤核心，但是總體還是Volta的架構(gòu)，核心面積比Pascal這一代都大多了，成本很高，對低端產(chǎn)品更不利。

主流市場玩家還是等下一代的7nm工藝Ampere顯卡吧，雖然現(xiàn)在還沒影子，不過3DCenter根據(jù)7nm工藝的特點(diǎn)做了估算，使用新工藝之后安培架構(gòu)的GPU核心面積大幅降低，GA100會(huì)降至550mm2左右，GA102核心降至440mm2，GA104核心只有290mm2，而主流市場的GA106只有190mm2、GA107則是120mm2，入門級的GA108核心只有67mm2。

對比來看的話，7nm安培GPU核心面積同比下降了大概30-40%，這對降低成本以及制造難度都有幫助。

NVIDIA的7nm GPU也將是臺(tái)積電代工，在7nm節(jié)點(diǎn)臺(tái)積電也準(zhǔn)備了多個(gè)分發(fā)，7nm高性能工藝已經(jīng)可以用來給AMD代工高端CPU了。根據(jù)臺(tái)積電消息，與16nm FF工藝(12nm FFN工藝也是16nm工藝的改進(jìn)版)相比，臺(tái)積電的7nm工藝(代號(hào)N7)將提升35%的性能，降低65%的能耗，同時(shí)晶體管密度是之前的三倍。2019年初則會(huì)推出EUV工藝的7nm+(代號(hào)N7+)工藝，晶體管密度再提升20%，功耗降低10%，不能性能沒有變化。