Molex子公司Polymicro Technologies提供一系列特種光纖

21ic訊 Molex公司的子公司Polymicro Technologies現(xiàn)在提供一系列Field-Beam-Protease-Inhibitor (FBPI)光纖和Hollow Silica光纖產(chǎn)品，非常適合光譜應(yīng)用。Polymicro Technologies業(yè)務(wù)發(fā)展經(jīng)理Robert Dauphinais表示：“許多光譜應(yīng)用需要高性能光纖，在寬光譜范圍進(jìn)行光傳輸。與受限于傳輸光譜范圍的標(biāo)準(zhǔn)光纖不同，Polymicro公司的專有光纖可以傳輸范圍更廣的波長(zhǎng)，并且在整個(gè)波長(zhǎng)范圍具有相對(duì)的一致性。”

完整的產(chǎn)品線包括用于光譜應(yīng)用的基于硅石(silica-based)的專有FBPI光纖和用于IR激光發(fā)送的Hollow Silica Wavelength (HSW)光纖產(chǎn)品。

· FBPI光纖

Polymicro公司基于硅石(silica-based)的FBPI光纖專為NIR衰減和UV防曬而優(yōu)化，在更廣泛的光譜范圍具有改進(jìn)的傳輸特性，提供了業(yè)界首個(gè)全景攝譜儀和傳感器分析。提供50-600 μm的一系列內(nèi)芯，具有低氫氧基(low –OH)純硅石內(nèi)芯的寬光譜FBPI光纖具有顯著減少的UV缺陷和其它UV吸收中心點(diǎn)含量。在超過2100 nm的近紅外(near-infrared，NIR)波長(zhǎng)區(qū)域，Polymicro FBPI光纖的衰減等同于具有低氫氧基(low –OH)硅石內(nèi)芯和加氟(F-doped)覆層的標(biāo)準(zhǔn)NIR光纖。FBPI光纖的抗曝曬性能可與具有高耐輻射性的標(biāo)準(zhǔn)UV優(yōu)化高氫氧基(high –OH)光纖相媲美，并且具有低至200 nm的UV傳輸性能。

· Hollow Silica Wavelength (HSW)光纖

堅(jiān)固且靈活的用于CO2激光發(fā)送的Polymicro HSW光纖可以優(yōu)化用于IR區(qū)域3-20 μm波長(zhǎng)的一系列應(yīng)用，包括在醫(yī)療和牙科激光應(yīng)用、工業(yè)切割和激光印刷和標(biāo)記應(yīng)用中替代高成本的笨重的剛性鉸接臂。實(shí)現(xiàn)≤100W的高激光功率輸出，中空結(jié)構(gòu)硅石可以簡(jiǎn)化終端端接，在嚴(yán)苛的環(huán)境中減少磨損并提供強(qiáng)勁的緩沖。可以輕易改變生物相容性光纖的幾何形狀，以便用于部件定制。可提供定制緩沖，HSW帶有可移動(dòng)並可重用的Poly-Lok™ 連接器，是原型構(gòu)建的理想選擇。