Mentor Graphics 增強(qiáng)對(duì)TSMC 7納米工藝初期設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)和10納米工藝量產(chǎn)的支援

時(shí)間：2016-03-25 10:16:12

關(guān)鍵字： 7nm finfet graphics mentor 工藝工藝制程

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[導(dǎo)讀]Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)今天宣布，借由完成 TSMC 10 納米FinFET V1.0 認(rèn)證，進(jìn)一步增強(qiáng)和優(yōu)化Calibre®平臺(tái)和Analog FastSPICE™ (AFS)平臺(tái)。除此之外，Calibre 和 Analog FastSPICE 平臺(tái)已

Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)今天宣布，借由完成 TSMC 10 納米FinFET V1.0 認(rèn)證，進(jìn)一步增強(qiáng)和優(yōu)化Calibre®平臺(tái)和Analog FastSPICE™ (AFS)平臺(tái)。除此之外，Calibre 和 Analog FastSPICE 平臺(tái)已可應(yīng)用在基于TSMC 7 納米 FinFET 工藝最新設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè) (DRM) 和 SPICE 模型的初期設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)和 IP 設(shè)計(jì)。

為協(xié)助共同客戶(hù)能準(zhǔn)備好使用先進(jìn)工藝做設(shè)計(jì)，Mentor 為T(mén)SMC 10 納米工藝改進(jìn)物理驗(yàn)證工具，加速Calibre nmDRC™ sign-off 工具的運(yùn)行時(shí)間，使其優(yōu)于去年初針對(duì) 10 納米精確度進(jìn)行認(rèn)證時(shí)的工具運(yùn)行時(shí)間。Calibre nmLVS™ 工具已可支持10納米工藝中新的組件參數(shù)抽取，以獲取更精準(zhǔn)的 SPICE 模型和自熱仿真。同時(shí)，Mentor 還提升了Calibre xACT™ 解決方案的寄生參數(shù)精確度，并積極改善布局寄生參數(shù)抽取流程以滿(mǎn)足 10 納米技術(shù)的要求。

Calibre 平臺(tái)還可幫助設(shè)計(jì)工程師提高設(shè)計(jì)可靠度和可制造性。在為 10 納米工藝電阻和電流密度檢查做了技術(shù)的改進(jìn)后，現(xiàn)在 TSMC倚賴(lài) Calibre PERC™ 可靠性驗(yàn)證解決方案做可靠度確認(rèn)。在可制造性設(shè)計(jì) (DFM) 方面，Mentor 添加了色彩感知填充和更精密的對(duì)齊和間距規(guī)則在Calibre YieldEnhancer 工具的SmartFill 功能中。此外，Mentor 還優(yōu)化了Calibre DESIGNrev™協(xié)助芯片最后完工工具、Calibre RVE™ 結(jié)果查看器和Calibre RealTime 界面，為設(shè)計(jì)工程師在多重曝光、版圖布局與電路圖 (LVS) 比較以及電氣規(guī)則檢查 (ERC) 及可靠性驗(yàn)證方面提供更容易整合和除錯(cuò)功能。

如今，Mentor 和 TSMC 攜手合作，將 Calibre 平臺(tái)的多樣化功能應(yīng)用至 7 納米FinFET 工藝中。Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具已通過(guò)客戶(hù)早期設(shè)計(jì)的驗(yàn)證。TSMC 和 Mentor 正擴(kuò)大 SmartFill 和 Calibre 多重曝光功能的使用功能，為 7 納米的工藝需求提供技術(shù)支持。

為獲得快速、準(zhǔn)確的電路仿真，TSMC 認(rèn)證AFS 平臺(tái)，包含 AFS Mega 電路仿真器可用于TSMC 10 納米 V1.0 工藝。AFS 平臺(tái)還通過(guò)了最新版 7 納米DRM和 SPICE 可用于早期設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)。

為支持10 納米工藝先進(jìn)的設(shè)計(jì)規(guī)則，Mentor 增強(qiáng)了包括Olympus-SoC™ 系統(tǒng)在內(nèi)的布局布線(xiàn)平臺(tái)，并且優(yōu)化其結(jié)果能與sign-off 參數(shù)抽取和靜態(tài)時(shí)序分析工具有相關(guān)性。這項(xiàng)優(yōu)化也擴(kuò)展至7 納米工藝。

“我們將繼續(xù)與 Mentor Graphics 合作，提供設(shè)計(jì)解決方案和服務(wù)于我們的共同客戶(hù)，幫助他們?cè)?7 納米工藝設(shè)計(jì)方面獲得成功，” TSMC 設(shè)計(jì)建構(gòu)營(yíng)銷(xiāo)部資深處長(zhǎng) Suk Lee說(shuō)。“通過(guò)攜手合作，我們能支持10 納米設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。”

“現(xiàn)今杰出的 SoC 設(shè)計(jì)工程師要能掌握最先進(jìn)的工藝，需要晶圓代工廠和 EDA 供貨商兩者之間的緊密合作，”Mentor Graphics Design to Silicon 事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理 Joe Sawicki 表示。“對(duì)于 TSMC 在其未來(lái)的生態(tài)系統(tǒng)策略上能繼續(xù)利用已經(jīng)證明具有高質(zhì)量、高性能和全面性的Mentor 平臺(tái)，我們感到非常榮幸。”