光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對準(zhǔn)光刻,所以叫 Mask Alignment System。
日前,KLA-Tencor公司宣布推出兩款全新缺陷檢測產(chǎn)品,在硅晶圓和芯片制造領(lǐng)域中針對先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的邏輯和內(nèi)存元件,為設(shè)備和工藝監(jiān)控解決兩項(xiàng)關(guān)鍵挑戰(zhàn)。