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生產光罩（光掩模版）的設備老化，缺貨問題愈發(fā)突出
光掩?；媸且环N硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是當前及未來微細加工光掩膜制作的主流感光材料(相當于照相用的感光膠卷)。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射(SP)沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上涂敷一層光致抗蝕劑(又稱光刻膠)或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。光掩?；嬗幸韵聨追N叫法：勻膠鉻版，光掩?；妗⒖瞻坠庹?、拽英文的話就叫做Maskblanks)
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光掩膜板怎么樣？產業(yè)規(guī)模穩(wěn)步增長，行業(yè)高度依賴進口
光掩模屬于高端半導體材料，在光刻環(huán)節(jié)，利用掩膜版上已設計好的圖案，通過透光與非透光的方式進行圖像復制，從而實現(xiàn)批量生產，其功能類似相機“底片”，占據全球晶圓制造材料的12%，根據2020年晶圓制造市場規(guī)模349億美元測算，全球半導體光掩模市場規(guī)模在41.9億美元左右。
