刻蝕,英文為Etch,它是半導(dǎo)體制造工藝,微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。是與光刻 [1] 相聯(lián)系的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。
Sense.i為刻蝕技術(shù)的未來設(shè)定步伐
通過推動(dòng)相關(guān)材料的創(chuàng)新,泛林能夠提供更優(yōu)秀的刻蝕設(shè)備,在滿足高深寬比相關(guān)苛刻要求的同時(shí),保障卓越性能和成本效益。
?近日,泛林集團(tuán)發(fā)布了專為其最智能化的刻蝕平臺(tái)Sense.i?所設(shè)計(jì)的最新介電質(zhì)刻蝕技術(shù)Vantex??;诜毫旨瘓F(tuán)在刻蝕領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位,這一開創(chuàng)性的設(shè)計(jì)將為目前和下一代NAND和DRAM存儲(chǔ)設(shè)備提供更高的性能和更大的可延展性。
泛林集團(tuán)全新的Sense.i平臺(tái)提供了行業(yè)領(lǐng)先的產(chǎn)量和創(chuàng)新的傳感技術(shù)。