離子注入機(jī)是高壓小型加速器中的一種,應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子,經(jīng)過加速得到幾百千電子伏能量的離子束流,用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離子注入,還用于金屬材料表面改性和制膜等。
M EVVA源是金屬蒸汽真空弧離子源的縮稱。這是上世紀(jì)80年代中期由美國加州大學(xué)伯克利分校的布朗博士由于核物理研究的需要發(fā)明研制成功的。這種新型的強(qiáng)流金屬離子源問世后很快就被應(yīng)用于非半導(dǎo)體材料離子注入表面改性,并引起了強(qiáng)流金屬離子注入的一場革命,這種獨(dú)特的離子注入機(jī)被稱為新一代金屬離子注入機(jī)。
由于眾所周知的原因,近期國外尤其是美國對中國的科技“卡脖子”打擊,這也掀起了我國自主研發(fā)突破國外封鎖的一波熱潮,近期也是捷報(bào)頻頻。在芯片方面,離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備,中國電子科技集團(tuán)有限公司近日公布,該集團(tuán)旗下電科裝備已成功實(shí)現(xiàn)離子注入機(jī)全譜系產(chǎn)品國產(chǎn)化,可為全球芯片制造企業(yè)提供離子注入機(jī)一站式解決方案。
6月30日消息 新華社報(bào)道,中國電子科技集團(tuán)宣布,由該集團(tuán)旗下電科裝備自主研制的高能離子注入機(jī)成功實(shí)現(xiàn)百萬電子伏特高能離子加速,性能達(dá)到國際先進(jìn)水平。獲悉,離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造
近期由國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)資訊,萬業(yè)企業(yè)全資子公司上海凱世通半導(dǎo)體股份有限公司(以下簡稱“凱世通”)的低能大束流集成電路離子注入機(jī)已搬進(jìn)杭州灣潔凈室,目前正在