近日,網(wǎng)傳清華大學(xué)的國產(chǎn) EUV 方案通過用“空間”換“時(shí)間”的方式,通過將光刻機(jī)放大為光刻廠的方案來規(guī)避技術(shù)難點(diǎn),實(shí)現(xiàn)“換道超車”。對(duì)此,昨天下午中國電子工程設(shè)計(jì)院官方表示,該項(xiàng)目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機(jī)工廠,而是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目(HEPS)。
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