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euv芯片

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臺積電公布了兩項業(yè)內震驚的重大突破！

全球一號代工廠臺積電宣布了有關極紫外光刻(EUV)技術的兩項重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在2019年4月開始試產。今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產

單片機
2018-10-10

7nm 臺積電蘋果a12 euv芯片流片

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