一、應(yīng)用背景:磁控濺射是一種磁控運行模式的二次濺射。此種技術(shù)廣泛應(yīng)用于鍍膜設(shè)備上,它不僅適用于廣泛的鍍膜靶材(如:銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料),而且鍍膜時還
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