KLA-Tencor公司今日宣布推出兩款全新缺陷檢測產(chǎn)品,旨在解決各類集成電路(IC)所面臨的封裝挑戰(zhàn)。 Kronos™ 1080系統(tǒng)為先進封裝提供適合量產(chǎn)的、高靈敏度的晶圓檢測,為工藝控制和材料處置提供關(guān)鍵的信息。
日前,KLA-Tencor公司宣布推出兩款全新缺陷檢測產(chǎn)品,在硅晶圓和芯片制造領(lǐng)域中針對先進技術(shù)節(jié)點的邏輯和內(nèi)存元件,為設(shè)備和工藝監(jiān)控解決兩項關(guān)鍵挑戰(zhàn)。
解決工藝和設(shè)備監(jiān)控中的兩個關(guān)鍵挑戰(zhàn)......
2017年半導(dǎo)體行業(yè)成長了20%,而半導(dǎo)體設(shè)備成長了27%,比業(yè)界成長的還要高。這主要有兩方面原因:一方面主要由物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、自動駕駛、5G、VR/AR等新應(yīng)用推動;另一方面,中國正在大力發(fā)展投資半導(dǎo)體晶圓廠。2018
在描述手機芯片性能的時候,我們經(jīng)常會聽到22nm、14nm、10nm這些數(shù)值,其實這些數(shù)值指的就是半導(dǎo)體的制程工藝。一款芯片制程工藝的具體數(shù)值是手機性能關(guān)鍵的指標(biāo)。制程工藝的每一次提升,帶來的都是性能的增強和功耗
KLA-Tencor公司(納斯達克股票交易代碼:KLAC)今天針對7納米以下的邏輯和尖端內(nèi)存設(shè)計節(jié)點推出了五款圖案成型控制系統(tǒng),以幫助芯片制造商實現(xiàn)多重曝光技術(shù)和EUV光刻所需的嚴(yán)格工藝寬容度。在IC制造廠內(nèi),ATL™疊對量測系統(tǒng)和SpectraFilm™ F1薄膜量測系統(tǒng)可以針對finFET、DRAM、3D NAND和其他復(fù)雜器件結(jié)構(gòu)的制造提供工藝表征分析和偏移監(jiān)控。
KLA-Tencor公司今天針對7納米以下的邏輯和尖端內(nèi)存設(shè)計節(jié)點推出了五款圖案成型控制系統(tǒng),以幫助芯片制造商實現(xiàn)多重曝光技術(shù)和EUV光刻所需的嚴(yán)格工藝寬容度。
KLA-Tencor公司(納斯達克股票代碼:KLAC)今天針對10納米以下(sub-10nm)集成電路(IC)器件的開發(fā)和批量生產(chǎn)推出四款創(chuàng)新的量測系統(tǒng):Archer™600疊對量測系統(tǒng),WaferSight™ PWG2圖案晶片幾何特征測量系統(tǒng),SpectraShape™ 10K光學(xué)關(guān)鍵尺寸(CD)量測系統(tǒng)和SensArray® HighTemp 4mm即時溫度測量系統(tǒng)。