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[導(dǎo)讀]由于中國企業(yè)長時(shí)間秉承著“輕研發(fā)、重營銷”經(jīng)營理念,因此尖端技術(shù)的儲(chǔ)備一直落后國際水準(zhǔn),而光刻機(jī)便是最具代表性的產(chǎn)品。其實(shí),中國并非是沒有光刻機(jī)生產(chǎn)商,只不過國產(chǎn)光刻機(jī)最高精度僅為90nm,完全達(dá)不到高端芯片生產(chǎn)要求。

由于中國企業(yè)長時(shí)間秉承著“輕研發(fā)、重營銷”經(jīng)營理念,因此尖端技術(shù)的儲(chǔ)備一直落后國際水準(zhǔn),而光刻機(jī)便是最具代表性的產(chǎn)品。其實(shí),中國并非是沒有光刻機(jī)生產(chǎn)商,只不過國產(chǎn)光刻機(jī)最高精度僅為90nm,完全達(dá)不到高端芯片生產(chǎn)要求。

目前,高端芯片制造技術(shù)當(dāng)屬整個(gè)芯片產(chǎn)業(yè)升級(jí)項(xiàng)目的重中之重。而想要實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),更高端的光刻機(jī)可謂是必不可少。

其實(shí),像是三星、臺(tái)積電這類已經(jīng)實(shí)現(xiàn)高端工藝突破的企業(yè),之所以能夠先人一步完成技術(shù)升級(jí),最主要的原因在于能買到ASML所生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)。EUV光刻機(jī)是目前世界上精度最高的光刻機(jī)設(shè)備,不僅可以用于7nm、5nm芯片生產(chǎn),甚至即將誕生的3nm工藝,該設(shè)備同樣適用。

值得一提的是,EUV光刻目前只有ASML公司一家企業(yè)能夠生產(chǎn),而且因?yàn)楫a(chǎn)品比較特殊,工藝比較復(fù)雜的緣故,ASML一年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)數(shù)量非常有限,這也導(dǎo)致產(chǎn)品價(jià)格非常高,并且不是所有企業(yè)都可以購買。目前,一臺(tái)EUV光刻機(jī)采購價(jià)已經(jīng)超過11億人民幣,不過即便價(jià)格如此昂貴,EUV光刻機(jī)在市場(chǎng)上仍是供不應(yīng)求,三星和臺(tái)積電都在積極搶購。結(jié)合最新消息來看,臺(tái)積電到明年年底將獲得累計(jì)55臺(tái)EUV光刻機(jī),這些設(shè)備將幫助臺(tái)積電徹底坐穩(wěn)高端芯片市場(chǎng)榜首位置,另外還將幫助臺(tái)積電加快新工藝突破速度。

在眾多芯片制造商當(dāng)中,臺(tái)積電和三星技術(shù)最為領(lǐng)先。兩家企業(yè)不僅壟斷先進(jìn)工藝市場(chǎng),還共同拿下了將近70%的市場(chǎng)營收。

不過,三星和臺(tái)積電雖然被媒體渲染成芯片代工市場(chǎng)的死對(duì)頭,但實(shí)際上,兩家廠商在芯片代工領(lǐng)域,實(shí)力并不對(duì)等。

對(duì)比三星,臺(tái)積電可謂是全方位領(lǐng)先??蛻糍Y源方面,臺(tái)積電背后有蘋果、AMD、英特爾、英偉達(dá)等多家世界級(jí)巨頭公司撐腰。

而三星,除了能接到自家獵戶座處理器訂單,大多數(shù)時(shí)候只有高通會(huì)考慮使用其先進(jìn)工藝打造芯片。在技術(shù)方面,三星制程工確實(shí)緊咬臺(tái)積電不放,但并不代表兩家廠商技術(shù)沒有差距。

三星5nm方案水準(zhǔn)與臺(tái)積電6nm方案相同。兩者技術(shù)至少相差一個(gè)小節(jié)點(diǎn),這也是頭部芯片設(shè)計(jì)廠商很少將訂單交給三星代工的重要原因。

在筆者看來,真正讓臺(tái)積電和三星拉開實(shí)力差距的因素,既不是客戶也不是技術(shù),而是產(chǎn)能。

產(chǎn)能是客戶選擇代工企業(yè)時(shí),所要考量的重要原因。沒有產(chǎn)能優(yōu)勢(shì),即便代工廠商存在技術(shù)領(lǐng)先,也無法獲得客戶青睞。

以蘋果為例,蘋果之所以與臺(tái)積電深度綁定,很大原因是目前只有臺(tái)積電能在短時(shí)間內(nèi),為蘋果生產(chǎn)出足夠多的先進(jìn)工藝處理器。

那么,可能很多人會(huì)好奇,臺(tái)積電的產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)從何而來?而這就要提到芯片先進(jìn)工藝生產(chǎn)線上的一件關(guān)鍵設(shè)備——EUV光刻機(jī)。

這里就需要指出一點(diǎn),現(xiàn)在的EUV光刻機(jī),在生產(chǎn)效率上依然還不夠成熟。

例如目前ASML最先進(jìn)的3600D型EUV光刻機(jī),盡管其表示生產(chǎn)效率提升了18%,但每小時(shí)曝光晶圓也只有160片,相對(duì)于以前的DUV光刻機(jī)來說,也剛剛達(dá)到其及格線的成績(jī)。

除此之外,相比較于DUV光刻機(jī),畢竟還不是非常成熟,所以在連續(xù)工作時(shí)間上也處于下風(fēng),故障恢復(fù)時(shí)間也較長,所以綜合來看,在單機(jī)生產(chǎn)效率上,EUV光刻機(jī)還有一段路要走。

所以說,雖然臺(tái)積電在制造技術(shù)上領(lǐng)先全球,但是也非常依賴光刻機(jī),如果EUV光刻機(jī)無法在短時(shí)間內(nèi)提升單機(jī)生產(chǎn)效率,其實(shí)靠增加光刻機(jī)數(shù)量也難以根本解決問題。

因?yàn)樵黾庸饪虣C(jī)的成本太大了,首先單臺(tái)光刻機(jī)的成本就高達(dá)1.2億歐元,近十億人民幣,而且生產(chǎn)芯片不是只有光刻機(jī)就可以的,如果增加了光刻機(jī),那么與之配套的生產(chǎn)線,還要增加其他的生產(chǎn)設(shè)備,例如刻蝕機(jī)等等。

所以增加光刻機(jī)帶來的成本是翻倍提升的,更多的產(chǎn)線還要占用更多的工廠空間,占用更多的人力以及能源的用量,例如水、電等。

臺(tái)積電之所以會(huì)如此積極的搶購EUV光刻機(jī),是因?yàn)镋UV光刻機(jī)除了能幫助自己擴(kuò)大產(chǎn)能優(yōu)勢(shì),還可以打擊對(duì)手發(fā)展。幫助臺(tái)積電更好地掌控市場(chǎng)。

簡(jiǎn)單舉例,如果臺(tái)積電EUV光刻機(jī)優(yōu)勢(shì)足夠大,那么臺(tái)積電很可能可以壟斷芯片工藝芯片市場(chǎng)。主導(dǎo)先進(jìn)工藝芯片代工服務(wù)定價(jià),這可以幫助臺(tái)積電獲得更多的利潤,更好更快速的發(fā)展。

未來很長一段時(shí)間,臺(tái)積電在芯片代工市場(chǎng)都會(huì)獨(dú)孤求敗。

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