ASML發(fā)出產(chǎn)能預(yù)警，芯片又面臨先進(jìn)光刻機(jī)供應(yīng)短缺問(wèn)題，惡性循環(huán)

受近年芯片供應(yīng)持續(xù)短缺的影響，我們已經(jīng)看到了位于世界各地的多個(gè)晶圓廠的建設(shè)公告。但是在投入實(shí)際生產(chǎn)之前，這一切都受到荷蘭阿斯麥(ASML)的光刻機(jī)供應(yīng)的限制。ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 剛剛發(fā)出警告，稱該公司難以滿足客戶的產(chǎn)品需求。

據(jù)悉，ASML 專注于生產(chǎn)適用于半導(dǎo)體行業(yè)的各種類型的光刻機(jī)，且在該領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位，客戶中包括了英特爾、臺(tái)積電、三星等芯片巨頭。然而最新消息是，至少在未來(lái)幾年內(nèi)，ASML 都無(wú)法順利交付所有訂單。即使今年預(yù)期的光刻機(jī)出貨量高于去年，但明年的增勢(shì)并未放緩。

供應(yīng)鏈分析表明，ASML 擁有大約 700 家不同的組件供應(yīng)商、且其中 200 家相當(dāng)關(guān)鍵。所以 ASML 能否順利快速提升產(chǎn)能，很大程度上還得看供應(yīng)鏈合作伙伴能否跟得上。作為芯片代工巨頭來(lái)說(shuō)，三星和臺(tái)積電誰(shuí)的產(chǎn)能更高，很大的決定性因素是取決于誰(shuí)擁有的光刻機(jī)更多。故而三星掌門(mén)人還親赴荷蘭，目的就是為了說(shuō)服ASML賣更多的光刻機(jī)給三星。不僅如此，韓國(guó)還專門(mén)建設(shè)了一個(gè)EUV光刻機(jī)再制造工廠，連翻新的光刻機(jī)也沒(méi)放過(guò)。

在說(shuō)ASML遇到的新問(wèn)題之前，先說(shuō)說(shuō)ASML之前遇到的兩個(gè)問(wèn)題。首先是ASML德國(guó)工廠失火。德國(guó)工廠主要負(fù)責(zé)ASML的光源系統(tǒng)制造，雖然ASML方面表示已經(jīng)將影響降到最低，但是要知道的是，最低不等于沒(méi)有影響。換句話說(shuō)，此次德國(guó)工廠失火會(huì)對(duì)ASML產(chǎn)能造成一定程度的影響。ASML遇到的第二個(gè)問(wèn)題就是惰性氣體供應(yīng)問(wèn)題。俄烏為全球供應(yīng)了54%的氖氣，但是因?yàn)槟承┐蠹叶贾赖脑?，目前烏方兩大氖氣生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)停產(chǎn)。ASML就有20%的氖氣是有烏方企業(yè)供應(yīng)，3月初，ASML就開(kāi)始尋找新的氖氣供應(yīng)商。之前氖氣的價(jià)格就一直在漲，如果供應(yīng)氖氣的企業(yè)停產(chǎn)時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，那么同樣也會(huì)影響ASML的產(chǎn)能。

最后再說(shuō)說(shuō)ASML遇到的新問(wèn)題，那就是徠卡鏡片的問(wèn)題。據(jù)《金融時(shí)報(bào)》消息，ASML高層表示未來(lái)兩年可能會(huì)面臨光刻機(jī)短缺的原因是因?yàn)閺瓶ㄧR片供應(yīng)不足。就算是供應(yīng)商想要增加產(chǎn)能，還必須建設(shè)無(wú)塵室。故而徠卡鏡片的生產(chǎn)周期將會(huì)長(zhǎng)達(dá)12個(gè)月之久。換句話說(shuō)，徠卡鏡片供應(yīng)不足也會(huì)影響ASML的光刻機(jī)產(chǎn)能。

徠卡鏡頭是一種鏡頭品牌。前代的光學(xué)設(shè)計(jì)者習(xí)慣為自己設(shè)計(jì)的鏡頭命名，像是早期的ELMAX鏡頭，便是LEITZ公司老板Ernst Leitz和設(shè)計(jì)人員Max Berek的名字的綜合體(ELMAX = Ernst Leitz + MAX berek)。Max Berek在設(shè)計(jì)另一支鏡頭時(shí)，則用他的寵物狗的名字：Hektor，后來(lái)他又將另一支寵物狗的名字REX用在另一支鏡頭上。 最有名的徠卡相機(jī)有M9 M8.2 M8等等。早期徠卡鏡頭的命名似乎沒(méi)有什么規(guī)則可依循，有些可能是人名，因此有些典故早已湮滅難尋。

因?yàn)镋UV光刻機(jī)等設(shè)備本身就不能自由出貨，也不能出貨到外企中國(guó)分廠，如今，ASML又面臨三大供貨問(wèn)題，又進(jìn)一步影響了EUV光刻機(jī)等設(shè)備的產(chǎn)能。要知道，ASML已經(jīng)定下了目標(biāo)，不僅要在2025年實(shí)現(xiàn)超300億歐元的營(yíng)收，還要將EUV光刻機(jī)在全球的安裝使用率提升到60%。但如今看來(lái)，恐怕這兩個(gè)目標(biāo)都難以實(shí)現(xiàn)，畢竟，EUV光刻機(jī)出貨外企中國(guó)分廠都不行，這進(jìn)一步影響了EUV光刻機(jī)的出貨。

首先，ASML將計(jì)劃性能更先進(jìn)的NA EUV光刻機(jī)，優(yōu)先供應(yīng)給英特爾。這也就意味著，臺(tái)積電無(wú)法在第一時(shí)間拿到性能更先進(jìn)的光刻機(jī)，并著手開(kāi)發(fā)與之相關(guān)的制程工藝。這也會(huì)影響臺(tái)積電芯片代工技術(shù)的發(fā)展，從而對(duì)其在市場(chǎng)中的地位帶來(lái)影響。其次，在三星追加EUV光刻機(jī)訂單之后，臺(tái)積電所能夠取得的EUV光刻機(jī)數(shù)量開(kāi)始變少。產(chǎn)能上的缺口，也會(huì)由于EUV光刻機(jī)無(wú)法及時(shí)到貨而擴(kuò)大，從而對(duì)其營(yíng)收帶來(lái)影響。