ASML 和 IMEC 將合作研發(fā) high-NA EUV 光刻技術(shù)

據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 和比利時微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開發(fā)最先進高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作，為使用半導(dǎo)體技術(shù)的行業(yè)提供原型設(shè)計平臺和未開發(fā)的未來機遇。

雙方表示簽署的諒解備忘錄旨在幫助使用半導(dǎo)體技術(shù)的產(chǎn)業(yè)了解先進半導(dǎo)體技術(shù)帶來的機遇，并獲得一個支持其創(chuàng)新的原型平臺。imec、ASML 和其他合作伙伴之間的合作將使探索新型半導(dǎo)體應(yīng)用成為可能，為芯片制造商和最終用戶開發(fā)可持續(xù)的、前沿的制造解決方案的可能性，以及與設(shè)備和材料生態(tài)系統(tǒng)合作開發(fā)先進的整體圖案流動。

據(jù)悉，雙方簽署的諒解備忘錄包括在比利時魯汶的 IMEC 試驗線安裝和服務(wù) ASML 的全部先進光刻和測量設(shè)備，包括最新的 0.55 NA EUV(TWINSCAN EXE:5200)、0.33 NA EUV(TWINSCAN NXE:3800)、DUV 浸沒(TWINSCAN NXT:2100i)、Yieldstar 光學(xué)測量和 HMI 多光束等。

官方表示，這項開創(chuàng)性的新高 NA 技術(shù)對于開發(fā)高性能、節(jié)能型芯片至關(guān)重要，比如下一代 AI 系統(tǒng)，此外還能夠用于解決我們社會面臨的一些主要挑戰(zhàn)的創(chuàng)新深度技術(shù)成為可能，例如醫(yī)療保健、營養(yǎng)、移動/汽車、氣候變化和可持續(xù)能源等領(lǐng)域。

雙方的這次合作表明光刻試驗線具有非常重要的價值，特別是在高級試點線上，為確保在 2025 年之后實現(xiàn)行業(yè)范圍內(nèi)的廣泛訪問高級 NA EUV 光刻技術(shù)，需要進行大量的投資，并保持與歐洲相關(guān)的先進節(jié)點過程研發(fā)能力。

據(jù)悉，該諒解備忘錄啟動了 ASML 和 IMEC 在高級 NA EUV 上的下一階段密集合作，第一階段的工藝研究正在使用第一臺高級 NA EUV 掃描儀 (TWINSCAN EXE:5000) 在 imec-ASML 高級 NA 實驗室中執(zhí)行。

IMEC 和 ASML 將與所有領(lǐng)先的芯片制造商、材料和設(shè)備生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴合作，目的是為最快可能地大規(guī)模制造做好技術(shù)準(zhǔn)備。第二階段將在比利時魯汶市 IMEC 試點線的下一代高級 NA EUV 掃描儀 (TWINSCAN EXE:5200) 上加速進行。

ASML 總裁兼CEO Peter·Wennink 表示 ASML 正在向 IMEC 最先進的試點工廠做出實質(zhì)性承諾，以支持歐洲的半導(dǎo)體研究和可持續(xù)創(chuàng)新。隨著人工智能 (AI) 迅速擴展到自然語言處理、計算機視覺和自主系統(tǒng)等領(lǐng)域，任務(wù)的復(fù)雜性不斷增加。因此，開發(fā)能夠滿足這些計算需求而不耗盡地球?qū)氋F資源的芯片技術(shù)至關(guān)重要。