超結(jié)高壓功率MOSFET的零電壓ZVS關(guān)斷特性
1、功率MOSFET常規(guī)的開關(guān)特性
功率MOSFET在開通的過程中,當(dāng)VGS的驅(qū)動電壓從VTH上升到米勒平臺VGP時(shí)間段t1-t2,漏極電流ID從0增加系統(tǒng)的最大的電流,VGS和ID保持由跨導(dǎo)GFS所限制的傳輸特性曲線的關(guān)系,而VDS的電壓保持不變,這一個(gè)時(shí)間區(qū)域稱為di/dt,主要由柵極總電阻RG和Ciss電容所控制。其中,米勒平臺VGP的電壓由跨導(dǎo)GFS和負(fù)載電流所決定。
圖1:功率MOSFET在開通的過程
功率MOSFET進(jìn)入米勒平臺后,在t2-t3期間,VGS的電壓保持米勒平臺VGP不變,漏極電流ID保持系統(tǒng)的最大的電流不變,VDS電壓從最大的輸入電壓下降到0,這一個(gè)時(shí)間區(qū)域稱為dV/dt,主要由柵極電阻RG和Crss電容所控制。
在這二段時(shí)間內(nèi),VDS電壓和ID電流具有交疊,因此產(chǎn)生開關(guān)損耗。和平面技術(shù)相比,超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET開通過程中不同的地方在于:VDS電壓從最大的輸入電壓下降到0的時(shí)間,小于米勒平臺時(shí)間,因此,用米勒平臺時(shí)間計(jì)算開關(guān)損耗,會遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于實(shí)際的開關(guān)損耗。
另外,對于關(guān)斷的過程,特別是新一代的超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET,在一定的范圍內(nèi),dV/dt、di/dt已經(jīng)不受柵極驅(qū)動電路的控制,通過調(diào)整外部的柵極電阻,不能控制系統(tǒng)的dV/dt、di/dt。
2、超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET零電壓ZVS關(guān)斷特性
通常,功率MOSFET的關(guān)斷特性受柵極串聯(lián)的電阻和Crss的控制,但是,新一代超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET柵極電荷、Coss和Crss的非線性特性增加,在高壓下電容變得非常小,在低壓時(shí)電容又變得非常大,如果使用柵極電阻值比較小,最終導(dǎo)致關(guān)斷過程和傳統(tǒng)的模式具有不同的特性;而且,有些超結(jié)功率MOSFET的Coss會出現(xiàn)滯洄特性,以后文章會講述這個(gè)問題。
關(guān)斷過程中,VDS的斜率為:
在米勒平臺處,dVDS/dt= dVGD/dt,CGD中產(chǎn)生的電流和柵極電阻RG的電流分別為:
其中,CDS為D、S極之間Coss和外加的電容總和;
CGD為G、D極之間Crss和外加的電容總和;
RG為柵極內(nèi)部和外串的電阻總和;
VP為米勒平臺電壓。
關(guān)斷過程中,當(dāng)柵極驅(qū)動電阻值比較小,柵極放電的電流比較大,柵極電壓VGS下降的速度非常快。通常情況下,米勒平臺維持平臺電壓時(shí), dVDS/dt在CGD中產(chǎn)生的電流應(yīng)該等于柵極電阻的電流:
圖2:關(guān)斷過程中米勒平臺狀態(tài)的電流
新一代超結(jié)功率MOSFET關(guān)斷時(shí),從米勒平臺開始,VDS電壓從0開始上升,但是VDS在0V以及較低的電壓值時(shí),超結(jié)功率MOSFET的輸出電容Coss非常非常大,負(fù)載電流對電容CDS充電的速度非常慢,VDS的電壓上升非常慢,dVDS/d非常低,就會導(dǎo)致VDS電壓的變化提供給CGD的電流小于流過柵極驅(qū)動電阻的電流:
根據(jù)節(jié)點(diǎn)電流的原理,Ciss電容必須放電,維持節(jié)點(diǎn)電流的平衡,因此,VGS會快速的下降,導(dǎo)致功率MOSFET溝道快速的完全關(guān)斷,溝道電流為0,而VDS電壓仍然維持非常低的值;然后,幾乎全部的負(fù)載電流繼續(xù)對輸出電容CDS充電。
因此,這種開關(guān)特性和常規(guī)的關(guān)斷過程的機(jī)制不同,柵極驅(qū)動電路的柵極電阻參數(shù),不能有效控制VDS電壓的變化率,VDS電壓的變化率主要受輸出電容CDS和負(fù)載電流控制。
由上述公式,超結(jié)功率MOSFET溝道提前關(guān)斷的條件為:
電容CGD和米勒平臺電壓也影響VDS電壓變化。
由上面的公式,可以的到:
(1)、新一代超結(jié)功率MOSFET如果想用RG控制關(guān)斷的dV/dt,RG必須增加到非常大的值,這又會導(dǎo)致開關(guān)的速度非常慢,增加開關(guān)損耗和延時(shí)開關(guān)。
(2)、增大CGD的值,也就是G、D外加并聯(lián)電容,就可以使用較小的RG,來控制關(guān)斷的dV/dt,這樣一個(gè)比較優(yōu)化的方法。
(3)、增大CDS的值,D、S外加并聯(lián)電容方法來控制關(guān)斷的dV/dt,其缺點(diǎn)是會增加開通的電流尖峰和dI/dt。
如果功率MOSFET流過的負(fù)載電流變化的范圍大,不外加元件,在關(guān)斷過程中,dV/dt、di/dt也會在很大的范圍內(nèi)變動,對對系統(tǒng)的EMI和器件可靠性帶來問題。
另外可以發(fā)現(xiàn),超結(jié)功率MOSFET關(guān)斷的特性,非常接近于零電壓開關(guān)ZVS的關(guān)斷模式,就是VDS電壓和ID電流具有交疊的時(shí)間非常短,圖3展示了功率MOSFET的柵極驅(qū)動電阻值非常小的工作波形,從波形可以看到,關(guān)斷的VDS和ID波形的交錯區(qū)域非常小,類似于零電壓開關(guān)ZVS的關(guān)斷模式,因此關(guān)斷損耗非常小,在硬開關(guān)的電源結(jié)構(gòu)中,可以提高系統(tǒng)的效率。
當(dāng)然,如果超結(jié)功率MOSFET的Coss具有滯洄特性,那么,相應(yīng)的開關(guān)損耗就會產(chǎn)生滯洄損耗的特性,以后再講述這個(gè)問題。
圖3:功率MOSFET的柵極驅(qū)動電阻值非常小的工作波形
3、總結(jié)
新一代的超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET的柵極驅(qū)動電阻值較小時(shí),dV/dt主要受輸出電容Coss和最大的負(fù)載電流的限制;di/dt隨著負(fù)載電流的上升,以非常快的速度上升,在大的負(fù)載電流時(shí),主要受外部的寄生電感和外部應(yīng)用電路的限制。當(dāng)柵極驅(qū)動電阻增加到非常大的值時(shí),dV/dt開始部分受到驅(qū)動電路的限制,di/dt情況也基本類似。
新一代的超結(jié)結(jié)構(gòu)的功率MOSFET通常需要外加電容和柵極電阻相配合,控制器件的開關(guān)速度,保持柵極驅(qū)動電路的電阻對器件關(guān)斷過程的dV/dt、di/dt的可控或部分的可控,從而保證器件在極端的條件下工作在可靠的工作區(qū),或滿足系統(tǒng)EMI要求。
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