中芯國際取得突破，將打破西方光刻機(jī)封鎖

中芯國際接連取得突破，打破西方光刻機(jī)封鎖!在我國半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)，一直存在著一個重大問題，那就是我國國產(chǎn)光刻機(jī)的精度僅為90nm，90nm精度的光刻機(jī)與最熱門的7nmEUV工藝相比，90nm光刻機(jī)做出來的芯片在功耗和性能上有很大差別。90nm精度的光刻機(jī)沒有辦法制作手機(jī)芯片，只能制造電視芯片或者一些比較低端的智能設(shè)備芯片。

當(dāng)然了，相比于荷蘭ASML公司領(lǐng)先世界的7nmEUV工藝，我國還需要更加努力，并且83nm的差距也不是一兩年就能追平的，但在我國眾多科技公司的努力下，西方國家的封鎖將持續(xù)不了多久了。

為什么這么說呢?原來，近段時間中科院放出了一條消息，那就是我國多個科技公司和中科院聯(lián)合研發(fā)出了一款22nm分辨率的光刻機(jī)，該光刻機(jī)一旦實現(xiàn)量產(chǎn)，我國就能夠追回10年的差距。據(jù)透露，目前這款光刻機(jī)還處于實驗測試階段，我國正加大對光刻機(jī)的研發(fā)投入。

在中科院傳來好消息的同時，另一邊，中國的芯片“巨頭”中芯國際也傳來好消息。據(jù)中芯國際CEO梁孟松介紹，中芯國際目前已經(jīng)成功研發(fā)出了N+1工藝，說起這種工藝，就大有看頭了，因為與之前的14nm工藝相比，N+1工藝下的芯片無論是在性能還是在功耗比上都有很大的提升，而且這個提升已經(jīng)逐漸逼近臺積電的7nm工藝了。

要知道，在沒有EUV光刻機(jī)的情況，中芯國際能取得如此傲人的成績，可以說是非常不容易了。但中芯國際似乎還沒有放棄前進(jìn)的步伐，梁孟松透露，中芯國際還在繼續(xù)研發(fā)更強(qiáng)悍的N+2工藝，并且預(yù)計N+1工藝能在明年年底投產(chǎn)。

據(jù)統(tǒng)計，中國每年進(jìn)口的芯片量占據(jù)了全球芯片總產(chǎn)量的60%，如果在中科院和中芯國際的技術(shù)成熟后，這60%的需求當(dāng)中將會有一半會被“中國制造”所取代，這也就意味著我國正逐步打破西方國家對光刻機(jī)以及芯片生產(chǎn)技術(shù)的封鎖，我國半導(dǎo)體行業(yè)即將迎來曙光。