半導(dǎo)體FAB百問(wèn)知識(shí)匯總

　　半導(dǎo)體FAB廠 FAQ100問(wèn)

　　影響工廠成本的主要因素有哪些？

　　答：Direct Material 直接材料，例如：蕊片 Indirect Material間接材料，例如氣體… Labor人力 Fixed Manufacturing機(jī)器折舊，維修，研究費(fèi)用……等 ProducTIon Support其它相關(guān)單位所花費(fèi)的費(fèi)用

　　在FAB內(nèi)，間接物料指哪些？

　　答：Gas 氣體 Chemical 酸，堿化學(xué)液 PHOTO Chemical 光阻，顯影液 Slurry 研磨液 Target 靶材 Quartz 石英材料 Pad ＆ Disk 研磨墊 Container 晶舟盒（用來(lái)放蕊片） Control Wafer 控片 Test Wafe r測(cè)試，實(shí)驗(yàn)用的蕊片

　　什幺是變動(dòng)成本（Variable Cost）？

　　答：成本隨生產(chǎn)量之增減而增減．例如：直接材料，間接材料

　　什幺是固定成本（Fixed Cost）？

　　答：此種成本與產(chǎn)量無(wú)關(guān)，而與每一期間保持一固定數(shù)額．例如：設(shè)備租金，房屋折舊及檵器折舊

　　Yield（良率）會(huì)影響成本嗎？如何影響？

　　答：Fab yield＝ 若無(wú)報(bào)廢產(chǎn)生，投入完全等于產(chǎn)出，則成本耗費(fèi)最小CP Yield：CP Yield 指測(cè)試一片芯片上所得到的有效的IC數(shù)目。當(dāng)產(chǎn)出芯片上的有效IC數(shù)目越多，即表示用相同制造時(shí)間所得到的效益愈大．

　　生產(chǎn)周期（Cycle TIme）對(duì)成本（Cost）的影響是什幺？

　　答：生產(chǎn)周期愈短，則工廠制造成本愈低。正面效益如下： （1） 積存在生產(chǎn)線(xiàn)上的在制品愈少 （2） 生產(chǎn)材料積存愈少 （3） 節(jié)省管理成本 （4） 產(chǎn)品交期短，贏得客戶(hù)信賴(lài)，建立公司信譽(yù)

　　FAC

　　根據(jù)工藝需求排氣分幾個(gè)系統(tǒng)？

　　答：分為一般排氣（General）、酸性排氣（Scrubbers）、堿性排氣（Ammonia）和有機(jī)排氣（Solvent） 四個(gè)系統(tǒng)。

　　高架 地板分有孔和無(wú)孔作用？

　　答：使循環(huán)空氣能流通 ，不起塵，保證潔凈房?jī)?nèi)的潔凈度； 防靜電；便于HOOK－UP。

　　離子發(fā)射系統(tǒng)作用

　　答：離子發(fā)射系統(tǒng)，防止靜電

　　SMIC潔凈等級(jí)區(qū)域劃分

　　答：Mask Shop class 1 ＆ 100Fab1 ＆ Fab2 Photo and process area： Class 100Cu－line Al－Line OS1 L3 OS1 L4 tesTIng Class 1000

　　什幺是制程工藝真空系統(tǒng)（PV）

　　答：是提供廠區(qū)無(wú)塵室生產(chǎn)及測(cè)試機(jī)臺(tái)在制造過(guò)程中所需的工藝真空；如真空吸筆、光阻液涂布、吸芯片用真空源等。該系統(tǒng)提供一定的真空壓力（真空度大于 80 kpa）和流量，每天24小時(shí)運(yùn)行

　　什幺是MAU（Make Up Air Unit），新風(fēng)空調(diào)機(jī)組作用

　　答：提供潔凈室所需之新風(fēng)，對(duì)新風(fēng)濕度，溫度，及潔凈度進(jìn)行控制，維持潔凈室正壓和濕度要求。

　　House Vacuum System 作用

　　答：HV（House Vacuum）系統(tǒng)提供潔凈室制程區(qū)及回風(fēng)區(qū)清潔吸取微塵粒子之真空源，其真空度較低。使用方法為利用軟管連接事先已安裝在高架地板下或柱子內(nèi)的真空吸孔，打開(kāi)運(yùn)轉(zhuǎn)電源。此系統(tǒng)之運(yùn)用可減低清潔時(shí)的污染。

　　Filter Fan Unit System（FFU）作用

　　答：FFU系統(tǒng)保證潔凈室內(nèi)一定的風(fēng)速和潔凈度，由Fan和Filter（ULPA）組成。

　　什幺是Clean Room 潔凈室系統(tǒng)

　　答：潔凈室系統(tǒng)供應(yīng)給制程及機(jī)臺(tái)設(shè)備所需之潔凈度、溫度、濕度、正壓、氣流條件等環(huán)境要求。

　　Clean room spec：標(biāo)準(zhǔn)

　　答：Temperature 23 °C ± 1°C（Photo：23 °C ± 0．5°C）Humidity 45％± 5％（Photo：45％± 3％ ）Class 100Overpressure ＋15paAir velocity 0．4m／s ± 0．08m／s