5nm光刻技術突破ASML壟斷？中科院研發(fā)者回應，真相是這樣的！

據(jù)《財經(jīng)》報道稱，該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前公開回應稱，這是一個誤讀，這一技術與極紫外光刻技術是兩回事。

按照劉前的說法，如果超高精度激光光刻加工技術能夠用于高精度掩模版的制造，則有望提高我國掩模版的制造水平，對現(xiàn)有光刻機的芯片的線寬縮小也是十分有益的。這一技術在知識產(chǎn)權(quán)上是完全自主的，成本可能比現(xiàn)在的還低，具有產(chǎn)業(yè)化的前景。

但是，即便這一技術實現(xiàn)商用化，要突破荷蘭ASML（阿斯麥）在光刻機上的壟斷，還有很多核心技術需要突破，例如鏡頭的數(shù)值孔徑、光源的波長等。

據(jù)悉，高端掩模版在國內(nèi)還是一項“卡脖子”技術。在半導體領域，除了英特爾、三星、臺積電三家能自主制造外，高端掩模版主要被美國的Photronics、大日本印刷株式會社（DNP）以及日本凸版印刷株式會社（Toppan）三家公司壟斷，根據(jù)第三方市場研究機構(gòu)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院的數(shù)據(jù)，這三家公司的市場份額占到全球的82%。

一直以來，業(yè)界都在嘗試另一條技術路線，例如華裔科學家、普林斯頓大學周郁在1995年首先提出納米壓印技術，目前仍無法突破商用化的困境。目前的現(xiàn)狀是，沒有一個國家能夠獨立自主完成光刻機的制造，中國以一國之力，短期內(nèi)要突破ASML在極紫外光刻技術上的壟斷，幾乎是不可能的事情。

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