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[導(dǎo)讀]隨著 DRAM 和 NAND 技術(shù)持續(xù)邁向更先進(jìn)幾何制程與多層次記憶體的道路,IC Insights密切觀察有關(guān) DRAM 和 NAND 供應(yīng)商的最新動(dòng)態(tài),期望能提供更清楚的 DRAM / NAND發(fā)展藍(lán)圖

隨著DRAM和NAND技術(shù)持續(xù)邁向更先進(jìn)幾何制程與多層次存儲(chǔ)器的道路,IC Insights密切觀察有關(guān)DRAM和NAND供應(yīng)商的最新動(dòng)態(tài),期望能提供更清楚的DRAM/NAND發(fā)展藍(lán)圖。

在 2014年中期,制造 NAND存儲(chǔ)器元件的最先進(jìn)制程技術(shù)采用的是20nm以及更小的特征尺寸,而DRAM采用的制造技術(shù)還不到30nm。根據(jù)圖1所示的制程技術(shù)藍(lán)圖顯示,在2017年以前,最小特征尺寸為2D(平面)的NAND Flash將會(huì)過渡到10-12nm,而DRAM則將遷移至20nm或更小的 DRAM 。

不過,IC Insights坦承,這樣的發(fā)展態(tài)勢還無加以定論,因?yàn)橹圃熘瞥坦?jié)點(diǎn)的定義并不明確,尤其是在企業(yè)試圖在競爭中取得某種優(yōu)勢時(shí),就很容易受到營銷「游戲數(shù)字」的影響。

 

量產(chǎn)NAND Flash和DRAM發(fā)展藍(lán)圖

為了制造NAND Flash ,2014年時(shí)已經(jīng)加速量產(chǎn)15nm和16nm NAND芯片了。三星(Samsung)是第一家最先量產(chǎn)3D NAND芯片的公司。該公司在2014年5月宣布開始量產(chǎn)采用32層存儲(chǔ)器單元的V-NAND Flash芯片。此外,在2013年,該公司已針對資料中心客戶出貨基于其第一代24層 V-NAND 技術(shù)的固態(tài)硬盤(SSD)。

從2D到3D NAND存儲(chǔ)器全面轉(zhuǎn)型的時(shí)機(jī),將視3D成為更具成本效益選項(xiàng)之際而定,但這樣的情況將會(huì)持續(xù)一段時(shí)間。甚至當(dāng)達(dá)到成本的交叉點(diǎn)時(shí),2D和3D NAND還可能共存好些年。

目前業(yè)界主要的DRAM制造商正以20nm級特征尺寸(20-29nm之間)進(jìn)行量產(chǎn)制造。

如同NAND Flash 一樣,DRAM技術(shù)也正朝向以垂直方向整合電路的趨勢發(fā)展。3D DRAM解決方案的例子之一是由HMC聯(lián)盟開發(fā)的混合存儲(chǔ)器立方(HMC)。HMC聯(lián)盟是由美光(Micron)和三星,以及包括Altera、ARM、IBM、Open-Silicon、海力士 (SK Hynix)和賽靈思(Xilinx)等開發(fā)商共同組成。

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