阿斯麥仍看好EUV光刻機(jī)前景 最先進(jìn)的NXT:2000i將于下半年入華

中國(guó)集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國(guó)區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話(huà)題。

盡管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對(duì)EUV光刻機(jī)的前景表示樂(lè)觀。

此前有消息指出，中芯國(guó)際(SMIC)今年已向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)明年交付，用于7nm節(jié)點(diǎn)。

同時(shí)，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱(chēng)，今年下半年ASML已開(kāi)始出貨家族最先進(jìn)的NXT:2000i，很快會(huì)在中國(guó)市場(chǎng)上也見(jiàn)到。

另外，媒體早先有報(bào)道稱(chēng)，長(zhǎng)江存儲(chǔ)、上海華虹半導(dǎo)體分別向ASML訂購(gòu)了193納米浸沒(méi)式光刻機(jī)和193納米雙工件臺(tái)沉浸式光刻機(jī)NXT:1980Di，分別用于存儲(chǔ)芯片制造、晶圓代工。

據(jù)悉，ASML今年第一季度和第二季度的財(cái)報(bào)顯示，大陸市場(chǎng)的銷(xiāo)售收入占比達(dá)到了20%左右，已與美國(guó)持平，且超過(guò)了臺(tái)灣地區(qū)。

ASML今年的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到20臺(tái)，明后兩年將逐步提升到40臺(tái)。