【MEMS】μm級別單晶硅彎曲加工，可在350℃環(huán)境下實現(xiàn)

在2013年1月舉行的MEMS國際學會“IEEE MEMS 2013”上，有一項發(fā)表稱已證實能夠在350℃環(huán)境下對μm級別的單晶硅進行彎曲加工（論文編號：031）。從以前的實驗結(jié)果來看，mm級別的單晶硅在 600℃以下施加應力時首先會發(fā)生彈性形變，進一步加大力量的話材料就會損壞。也就是說，一般在600℃以下不能通過永久變形來實現(xiàn)彎曲加工。

       此次使用厚度為2μm的μm級別材料進行實驗，該材料在350～500℃的溫度下發(fā)生了永久變形?；谶@一結(jié)果，在500℃的溫度下對厚 2μm、寬10μm的線圈狀單晶硅的一處施加了30分鐘的應力，對其進行了彎曲加工。將這一成果應用于MEMS加工時，即使在較低溫度下，也可使硅基板上 通過蝕刻等形成的構(gòu)造體實現(xiàn)三維形狀。

       將此次成果與其他研究成果共同應用的話，對于尺寸更小的單晶硅，通過應力使其永久變形的溫度可比350℃更低，有望擴大MEMS加工的范圍。（記者：三宅常之，Tech-On?。?