臺(tái)積電業(yè)績(jī)出色，2010年中期將建設(shè)7nm級(jí)為止的旗艦工廠

時(shí)間：2010-05-11 06:59:00

關(guān)鍵字：臺(tái)積電 FAB 晶圓 TSMC

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[導(dǎo)讀]臺(tái)灣臺(tái)積電（TSMC）的日本法人臺(tái)積電日本2010年5月7日召開(kāi)了記者座談會(huì)，介紹了臺(tái)積電2010年第一季度（1～3月）的業(yè)績(jī)?！暗谝患径鹊臉I(yè)績(jī)超過(guò)了我們的預(yù)期。以尖端工藝為主，半導(dǎo)體需求增強(qiáng)，訂單量超過(guò)本公司生產(chǎn)能

臺(tái)灣臺(tái)積電（TSMC）的日本法人臺(tái)積電日本2010年5月7日召開(kāi)了記者座談會(huì)，介紹了臺(tái)積電2010年第一季度（1～3月）的業(yè)績(jī)?！暗谝患径鹊臉I(yè)績(jī)超過(guò)了我們的預(yù)期。以尖端工藝為主，半導(dǎo)體需求增強(qiáng)，訂單量超過(guò)本公司生產(chǎn)能力30～40％。我們將提前啟動(dòng)最初的計(jì)劃，全力推進(jìn)設(shè)備投資”（臺(tái)積電日本代表董事社長(zhǎng)小野寺誠(chéng)）。預(yù)計(jì)臺(tái)積電2010年第二季度（4～6月）將繼續(xù)保持出色業(yè)績(jī)，該季度的銷(xiāo)售額“預(yù)計(jì)為1000億～1020億臺(tái)幣，將創(chuàng)歷史最高紀(jì)錄”（小野寺）。另外，該公司采用28nm以后工藝的旗艦工廠“Fab15”將于2010年中期在臺(tái)灣臺(tái)中動(dòng)工建設(shè)。

臺(tái)積電目前正在擴(kuò)大該公司的最尖端工藝——40nm級(jí)工藝產(chǎn)品的生產(chǎn)能力。2010年第一季度，40nm級(jí)工藝產(chǎn)品的銷(xiāo)售額占有率為14％，突破了兩位數(shù)大關(guān)。主力工廠“Fab12”（新竹）及“Fab14”（臺(tái)南）的產(chǎn)能規(guī)模均達(dá)到了10萬(wàn)枚/月。關(guān)于28nm級(jí)工藝產(chǎn)品，“客戶(hù)的微細(xì)化計(jì)劃步伐比我們預(yù)期的要快”（小野寺），目前客戶(hù)企業(yè)已達(dá)20多家。該公司計(jì)劃2010年以尖端工藝為主投入48億美元用于設(shè)備投資，僅第一季度就投資了14億4400萬(wàn)美元。“第二季度以后也不會(huì)減緩設(shè)備投資速度，還可能追加年度投資額”（小野寺）。

該公司決定開(kāi)始動(dòng)工建設(shè)Fab15工廠就是為了應(yīng)對(duì)大量的業(yè)務(wù)訂單。該工廠是臺(tái)積電繼Fab12及Fab14之后的第3個(gè)“上十億級(jí)別的工廠（晶圓處理能力超過(guò)10萬(wàn)枚/月的300mm晶圓工廠）”。首先，該旗艦工廠將開(kāi)始量產(chǎn)40nm級(jí)工藝產(chǎn)品，并負(fù)責(zé)生產(chǎn)大半28nm級(jí)工藝產(chǎn)品。另外，還計(jì)劃使其成為“瞄準(zhǔn)20nm、14nm、10nm及到7nm為止工藝的中長(zhǎng)期戰(zhàn)略生產(chǎn)基地”（小野寺）。（記者：大下淳一）