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[導(dǎo)讀]晶圓代工版圖競(jìng)爭(zhēng)激烈,目前臺(tái)積電持續(xù)以50%的市占率穩(wěn)居龍頭寶座,隨著擴(kuò)產(chǎn)腳步加速,以及先進(jìn)制程擴(kuò)大領(lǐng)先幅度,臺(tái)積電2011年市占率可望提升至52%,強(qiáng)大競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手之一的全球晶圓(Global Foundries)在合并特許以及大

晶圓代工版圖競(jìng)爭(zhēng)激烈,目前臺(tái)積電持續(xù)以50%的市占率穩(wěn)居龍頭寶座,隨著擴(kuò)產(chǎn)腳步加速,以及先進(jìn)制程擴(kuò)大領(lǐng)先幅度,臺(tái)積電2011年市占率可望提升至52%,強(qiáng)大競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手之一的全球晶圓(Global Foundries)在合并特許以及大幅擴(kuò)充12寸產(chǎn)能下,市占率也站穩(wěn)12%,緊追聯(lián)電的15%。

根據(jù)DIGITIMES Research預(yù)估,2010年晶圓代工市場(chǎng)中,臺(tái)積電以50%的市占率,穩(wěn)居第1;臺(tái)積電2007年市占率約47%,自2008年站上50%后,連續(xù)3年維持50%。至于聯(lián)電與中芯2010年皆與2009年持平分別為15%與 6%。全球晶圓合并特許半導(dǎo)體后,2010年市占率預(yù)估將由2009年的9%提升至12%。

由此可看出,自2008~2010年前4大晶圓代工廠市占率并無(wú)顯著變化,不過(guò)4大代工廠外的其它業(yè)者合計(jì)市占率則由2008年的22%,將下滑至2010年的17%。半導(dǎo)體業(yè)者指出,晶圓代工產(chǎn)業(yè)需求龐大的資本投資,尤其先進(jìn)制程需要長(zhǎng)年累月的技術(shù),大者愈大趨勢(shì)已相當(dāng)明顯。

展望2011年,臺(tái)積電在先進(jìn)制程推進(jìn)上加速,40納米第4季占營(yíng)收比重將達(dá)20%;產(chǎn)能方面,臺(tái)積電2011年12寸產(chǎn)能將增加30%,雖然聯(lián)電、全球晶圓也積極擴(kuò)充,但仍不及臺(tái)積電的成長(zhǎng)幅度,因此臺(tái)積電2011年仍將是IDM委外釋單的最大受惠者,因此預(yù)估臺(tái)積電2011年市占率將提高至52%。

全球晶圓積極擴(kuò)充12寸產(chǎn)能,新加坡Fab7目前月產(chǎn)能約4.2萬(wàn)片,2011年中將擴(kuò)增至5萬(wàn)片;德國(guó)Fab1目前月產(chǎn)能在3萬(wàn)片左右,2011年底將達(dá)4.5萬(wàn)片,預(yù)估2012年中將擴(kuò)增至8萬(wàn)片。至于位于紐約的Fab8,于2009年7月動(dòng)土,預(yù)估2012年底完工投產(chǎn),規(guī)劃年產(chǎn)能6萬(wàn)片。在擴(kuò)產(chǎn)及新客戶帶動(dòng)下,全球晶圓2011年市占率將維持在12%。

至于大陸晶圓代工廠中芯2007年市占率約8%,然自2008年至2010年都維持在6%;中芯與臺(tái)積電的訴訟案也告一段落,自2010年第2季終結(jié)連12季的虧損,,并進(jìn)入65納米制程量產(chǎn),并取得IBM授權(quán)45/40納米技術(shù)授權(quán),預(yù)計(jì)于2011年進(jìn)入量產(chǎn),加入40納米戰(zhàn)局。中芯營(yíng)運(yùn)逐漸好轉(zhuǎn),不過(guò)技術(shù)仍相對(duì)落后前3大競(jìng)爭(zhēng)者,因此短期要見到市占率明顯提升恐怕不易。

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