Rolith公司突破性金屬網(wǎng)格電極技術(shù)助力顯示屏發(fā)展

Rolith公司是高級(jí)納米設(shè)備開發(fā)的領(lǐng)導(dǎo)者，日前宣布成功展示了采用破壞性毫微光刻方法（滾動(dòng)掩模光刻–RML(TM)）的金屬網(wǎng)格電極技術(shù)。

我們看到用于消費(fèi)電子市場的觸摸顯示屏出現(xiàn)了爆炸性增長。到目前為止，ITO（銦鈦氧化物）材料是用于透明電極的標(biāo)準(zhǔn)解決方案。除了成本過高和材料供應(yīng)有限之外，它還存在其他問題：這種材料的高反射率降低了對(duì)比率、光學(xué)性質(zhì)極快降級(jí)至50Ω/？以下，從而限制了使用ITO生產(chǎn)而不使性能降級(jí)的顯示屏大小。

ITO的唯一可行替代材料（和大型觸摸顯示屏的唯一解決方案）是金屬線網(wǎng)格。對(duì)金屬線網(wǎng)格的要求是人眼無法看到，這意味著線寬要小于2微米。此外，窄線有助于應(yīng)對(duì)摩爾效應(yīng)，金屬線網(wǎng)格的疊加和顯示屏的像素結(jié)構(gòu)會(huì)造成這一效應(yīng)。

Rolith公司采用了名為滾動(dòng)掩模光刻(RML(TM))的專利毫微光刻技術(shù)，以制造用于大型基材的透明金屬線網(wǎng)格電極。RML基于近場連續(xù)光學(xué)光刻，使用圓柱相掩模進(jìn)行操作。

玻璃基材上的透明金屬電極以亞微米寬納米線的形式制造，以數(shù)十微米的間隔光刻到規(guī)則的2維網(wǎng)格圖案，厚度為幾百毫微米。經(jīng)過檢測，人眼無法看到此類金屬結(jié)構(gòu)，極為透明（超過94%的傳遞），霧度極低(~2%)，同時(shí)電阻率低(<14Ohm/？)。這組參數(shù)使得Rolith技術(shù)領(lǐng)先于ITO替代技術(shù)的所有主要競爭技術(shù)。

第2代RML工具能夠制造最多1m長的基材。今年早些時(shí)候制造的工具已被用于展示這一技術(shù)。

“Rolith僅在幾個(gè)月前推出其透明金屬網(wǎng)格電極應(yīng)用開發(fā)，我們對(duì)目前達(dá)到的結(jié)果感到非常興奮。我們相信，我們的突破性技術(shù)將為移動(dòng)設(shè)備和大格式顯示屏、監(jiān)視器和電視帶來經(jīng)濟(jì)高效的高質(zhì)量觸摸屏。目前，Rolith正與一些觸摸顯示屏制造商討論有關(guān)合作事項(xiàng)，預(yù)計(jì)在未來1年內(nèi)將技術(shù)商業(yè)化。我們的路線圖還包括于2014-2015年將這一技術(shù)用于柔性基材。”公司創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官BorisKobri博士表示。他補(bǔ)充道：“Rolith將在國際觸控面板暨光學(xué)膜展會(huì)（“TouchTaiwan2013”）和2013年美國印刷電子展覽會(huì)上展出其突破性技術(shù)。”