MANZ亞智科技顯示器生產(chǎn)設(shè)備提供自動(dòng)化及化學(xué)濕制程完整解決方案

顯示器生產(chǎn)設(shè)備

在過去的幾年中，Manz已成功將其幾乎所有的技術(shù)組合轉(zhuǎn)移至顯示器產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用。因此Manz在化學(xué)濕制程、自動(dòng)化、激光、真空鍍膜、測(cè)試與檢測(cè)及印刷等領(lǐng)域的機(jī)械設(shè)備具備了最高效率的生產(chǎn)流程。

Manz提供了一系列的自動(dòng)化及化學(xué)濕制程設(shè)備能符合生產(chǎn)所有尺寸的TFT-LCD、OLED、觸摸傳感器及保護(hù)玻璃(基板尺寸從60 x 125 mm 到 2,200 x 2,600 mm)。

憑借著超過25年以上長期而豐富的經(jīng)驗(yàn)以及2000臺(tái)以上的設(shè)備銷售實(shí)績(jī)，Manz如今已是臺(tái)灣及中國化學(xué)濕制程領(lǐng)域中的市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者， 可為平面顯示器及觸摸屏產(chǎn)業(yè)提供完整解決方案。我們的設(shè)備目前被廣泛的使用于臺(tái)灣及中國的主要顯示器制造商，包括玻璃的清洗以及光阻的顯影、蝕刻、剝膜。

在印刷方面，我們標(biāo)準(zhǔn)化的印刷平臺(tái)是用于小基板上的高速印刷，由于此集成平臺(tái)具備網(wǎng)版校準(zhǔn)系統(tǒng)，其特色在市場(chǎng)上具備最高的精準(zhǔn)度。 Manz 同時(shí)也將測(cè)試與檢測(cè)技術(shù)整合于內(nèi)，我們的量測(cè)系統(tǒng)包含影像檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng)、電子量測(cè)系統(tǒng)以及綜合分析儀器(如XRF)。

Manz 為全球領(lǐng)先的高科技設(shè)備制造商，能為顯示器、智能手機(jī)及平板電腦的觸控傳感器及零組件生產(chǎn)提供高科技生產(chǎn)設(shè)備。

高潔凈自動(dòng)化輸送系統(tǒng)

除了嚴(yán)格地規(guī)定無塵式的條件和破片率，若其使用的基板尺寸超過6 m2、最大厚度在0.7mm，勢(shì)必?zé)o法用手動(dòng)方式處理基板。這也就是為什么您應(yīng)該選擇Manz全自動(dòng)化系統(tǒng)解決方案的原因， 除了連續(xù)式濺鍍鍍膜系統(tǒng)之自動(dòng)化取放設(shè)備，Manz還有玻璃基板激光切割設(shè)備以及全自動(dòng)檢測(cè)儀器等自動(dòng)化解決方案。

Manz的無塵室已通過德國最高無塵室等級(jí)驗(yàn)證機(jī)構(gòu)Fraunhofer IPA Institute認(rèn)證。此外，“AirCushion technology”專利技術(shù)，進(jìn)一步確保傳送低破片率。

制造液晶顯示器等顯示器時(shí)，對(duì)于無塵室環(huán)境的等級(jí)要求相對(duì)提高。為此，其制造設(shè)備必須滿足一些特殊需求，例如極低的破片率， 因?yàn)椴Ａ粼趥鬏斶^程中破碎，空氣中的懸浮顆粒將會(huì)長時(shí)間污染無塵室，而造成生產(chǎn)近乎停滯。Manz提供的解決方案獨(dú)到之處就在于設(shè)備相對(duì)低的破片率和高效率的產(chǎn)能。

濕制程洗凈和蝕刻設(shè)備

Manz 集團(tuán)透過收購臺(tái)灣的亞智科技份有限公司及其中國子公司亞智系統(tǒng)(蘇州)股份有限公司，擴(kuò)大其產(chǎn)品范圍，涵括使用于顯示器產(chǎn)業(yè)之濕化學(xué)工藝處理設(shè)備，包括蝕刻、 剝膜、洗凈機(jī)等工藝設(shè)備，也包括濕化學(xué)工藝的鍍膜去除再生設(shè)備，可完全去除玻璃基板上鍍的任何薄膜，以便回收重新運(yùn)用到生產(chǎn)線。

　真空鍍膜解決方案

真空技術(shù)已是現(xiàn)今高科技市場(chǎng)不可或缺的一環(huán)。過去一再證明真空技術(shù)是產(chǎn)品創(chuàng)新的重要關(guān)鍵。

Manz 因此建立了專業(yè)的真空技術(shù)團(tuán)隊(duì)，50位專家當(dāng)中有許多人在此專業(yè)領(lǐng)域的經(jīng)驗(yàn)已達(dá)20年以上。Manz 真空技術(shù)團(tuán)隊(duì)的核心能力在于能根據(jù)客戶需求，開發(fā)用于薄膜太陽能電池模組大量生產(chǎn)及試作成產(chǎn)的全新真空設(shè)備。

Manz 提供各種新穎的濺鍍、蒸鍍與電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)( PECVD)制程真空設(shè)備。其產(chǎn)品組合包含垂直與水平串接式生產(chǎn)系統(tǒng)以及多室批次生產(chǎn)設(shè)備。采用模組化概念，讓客戶視需求建立靈活的設(shè)備配置。

Manz 濺鍍?cè)O(shè)備每年產(chǎn)量最高可達(dá) 1,600,000 m2，遠(yuǎn)在平均值之上。不僅如此極低的生產(chǎn)成本及極小化的設(shè)備占底面積，Manz 濺鍍?cè)O(shè)備PECVD能有效幫助降低總擁有成本。

·串接式濺鍍?cè)O(shè)備

串接式濺鍍?cè)O(shè)備的模組化概念，使正、反面接觸層及吸收層的設(shè)備配置更加靈活。

應(yīng)用生產(chǎn)驗(yàn)證工具概念，以極高的系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)間進(jìn)行大量生產(chǎn)，大幅節(jié)省成本

利用尖端薄膜沉積技術(shù)（DC、pDC、MF 回轉(zhuǎn)陰極與 DC、pDC、MF、RF 平面陰極）以低生產(chǎn)成本達(dá)成最高良率

獨(dú)特的無微粒傳輸系統(tǒng)可創(chuàng)造絕佳薄膜均勻度，并確保最高產(chǎn)量

采全模組化設(shè)計(jì)，可打造客制化設(shè)備配置，切合客戶需求

極小化的設(shè)備占地面積即能達(dá)到最高產(chǎn)量，有效幫助降低總擁有成本

·串接式共蒸鍍?cè)O(shè)備

串接式共蒸鍍?cè)O(shè)備是專門用于高溫沉積制程的標(biāo)準(zhǔn)化模組概念。

利用最小的設(shè)備占地面積達(dá)到最高產(chǎn)量，降低總擁有成本

采全模組化設(shè)計(jì)，可打造客制化設(shè)備配置，切合客戶需求