海力士看好無(wú)錫DRAM廠10納米未來(lái) 增資25億美元

韓國(guó)SK海力士株式會(huì)社15日無(wú)錫新區(qū)簽署協(xié)議,將投資25億美元實(shí)施五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目。

SK海力士半導(dǎo)體(中國(guó))有限公司自2005年4月在無(wú)錫新區(qū)建設(shè)以來(lái),已成為國(guó)內(nèi)產(chǎn)能最大的半導(dǎo)體生產(chǎn)企業(yè),投資由20億美元增至80.55億美元,12英寸晶圓的生產(chǎn)技術(shù)由90納米提升至29納米。此次簽約的五期項(xiàng)目將從29納米提升至25納米級(jí),并爭(zhēng)取提升至10納米級(jí),預(yù)計(jì)到2016年完成該項(xiàng)技術(shù)升級(jí)。